【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于处理工件的处理系统和方法
[0001]本专利技术涉及一种用于处理工件的处理系统,其包括:至少一个处理设备,该处理设备具有被设计用于对工件执行至少一个处理过程的至少一个处理单元以及用于在处理设备处或中接纳工件的至少一个接纳单元;输送设备,其包括至少一个输送单元,借助该输送单元能将工件转运到转交位置中,能借助至少一个接纳单元将工件从转交位置转运到处理位置中;以及控制设备,其用于操控至少一个处理单元、至少一个接纳单元和至少一个输送单元。
[0002]本专利技术还涉及一种用于利用处理系统处理工件的方法。
技术介绍
[0003]US 2016/0023251 A1描述了一种用于清洁工件的清洁设备。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的在于,提供一种开头所述的类型的处理系统和一种方法,其能实现高效地执行对工件的处理过程。
[0005]该目的根据本专利技术通过这种类型的处理系统以下述方式来实现,至少一个处理设备包括两个或更多个用于接纳相应的工件以将工件以独立于彼此的方式转运到处理位置中的接纳单元,其中控制设备操控至少一个处理单元,使得工件由该至少一个处理单元根据同类的处理过程以时间错开的方式被处理。
[0006]在根据本专利技术的处理系统中,在处理设备中设有两个或更多个用于相应的工件的接纳单元。借助至少一个处理单元可以以时间错开的方式处理工件,其中实施相同的处理过程、尤其是相同类型的处理,然而其中例如处理参数可以根据工件彼此不同。可以尤其以独立于彼此的方式移动接纳单元,以便将工件从 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种处理系统,其是用于对工件进行表面处理的、尤其是用于清洁和/或去毛刺的处理系统,包括:至少一个处理设备(14、16、18、20),所述处理设备具有被设计用于对所述工件(12)执行至少一个处理过程的至少一个处理单元(42、76、78、100、102、124、126)以及用于在所述处理设备(14、16、18、20)处或中接纳所述工件(12)的至少一个接纳单元(56、58、92、94、116、118、136、138),输送设备(22),所述输送设备包括至少一个输送单元(28),借助所述输送单元能将所述工件(12)转运到转交位置中,能借助所述至少一个接纳单元(56、58、92、94、116、118、136、138)将所述工件(12)从所述转交位置转运到处理位置中,以及控制设备(32),所述控制设备用于操控所述至少一个处理单元(42、76、78、100、102、124、126)、所述至少一个接纳单元(56、58、92、94、116、118、136、138)和所述至少一个输送单元(28),其中所述至少一个处理设备(14、16、18、20)包括两个或更多个用于接纳相应的工件(12)以将所述工件以独立于彼此的方式转运到所述处理位置中的接纳单元(56、58、92、94、116、118、136、138),并且其中所述控制设备(32)操控所述至少一个处理单元(42、76、78、100、102、124、126),使得所述工件(12)由所述至少一个处理单元根据同类的处理过程以时间错开的方式被处理。2.根据权利要求1所述的处理系统,其特征在于,能借助所述至少一个处理单元(42、76、78、100、102、124、126)来处理一个工件(12)的同时,至少一个工件(12)能借助配属于其的接纳单元(56、58、92、94、116、118、136、138)从所述处理位置被转运到所述转交位置中或反之。3.根据权利要求1或2所述的处理系统,其特征在于,借助所述至少一个处理单元(42、76、78、100、102、124、126)不能在相同的时间点处理两个或更多个工件(12)。4.根据前述权利要求中任一项所述的处理系统,其特征在于,所述处理设备(14、16、18、20)包括两个或更多个功能相同的并且尤其是设计相同的处理单元(42、76、78、100、102、124、126),其中相应的接纳单元(56、58、92、94、116、118、136、138)配备有一个处理单元(42、76、78、100、102、124、126)。5.根据权利要求4所述的处理系统,其特征在于,所述处理单元(42、76、78、100、102、124、126)的数量与所述接纳单元(56、58、92、94、116、118、136、138)的数量相同。6.根据前述权利要求中任一项所述的处理系统,其特征在于,所述处理设备(14、16、18、20)包括或构成接纳腔(48)和用于所述至少一个处理单元(42、76、78、100、102、124、126)的调节单元(54),所述处理单元借助所述调节单元(54)能从接纳单元(56、58、92、94、116、118、136、138)布置在其中的第一腔区域(50)移动到另一个接纳单元(56、58、92、94、116、118、136、138)布置在其中的至少一个另外的腔区域(52)中,以根据所述处理过程来处理在所述接纳单元(56、58、92、94、116、118、136、138)处的相应的工件(12)。7.根据前述权利要求中任一项所述的、尤其是根据权利要求6所述的处理系统,其特征在于,所述至少一个处理单元(42、76、78、100、102、124、126)能够借助所述调节单元(54)在所述接纳腔(48)中沿着平行于所述输送设备(26)的输送带(50)取向的方向移位,所述至少一个输送单元(28)沿着所述输送带能移动并且尤其是能移位。
8.根据前述权利要求中任一项所述的处理系统,其特征在于,所述接纳单元(56、58、92、94、116、118、136、138)、尤其是所述腔区域(50、52)沿着所述输送方向(26)在侧向上并排地定位。9.根据前述权利要求中任一项所述的处理系统,其特征在于,所述至少一个处理设备(14、16、18、20)包括:用于接纳所述接纳单元(56、58、92、94、116、118、136、138)的接纳腔(48),在所述接纳腔中布置有所述至少一个处理单元(42、76、78、100、102、124、126);以及两个或更多个覆盖元件(64、66),所述覆盖元件配属于相应的接纳单元(56、58、92、94、116、118、136、138),其中当所述接纳单元(56、58、92、94、116、118、136、138)将所述工件(12)从所述转交位置转运到所述处理位置中时,相应的覆盖元件(64、66)露出所述接纳腔(48)的开口(68、70),并且当借助所述至少一个处理单元(42、76、78、100、102、124、126)处理在所述处理位置中的所述工件(12)时,所述覆盖元件封闭相应的所述开口(68、70)。10.根据前述权利要求中任一项所述的处理系统,其特征在于,所述接纳单元(5...
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