本实用新型专利技术公开一种烤箱，所述烤箱具有烘烤区和冷却区，所述冷却区内设有料盘；所述冷却区包括第二上料区、第二料盘上升区、第二料盘下降区和第二下料区；所述冷却区设有第二料盘循环机构，所述第二料盘循环机构包括第三料盘移转机构、第四料盘移转机构和第二料盘升降机构；所述第三料盘移转机构位于所述冷却区上方，用于将位于所述第二料盘上升区顶部的料盘移转至所述第二料盘下降区；所述第四料盘移转机构位于所述冷却区下方，用于将位于所述第二料盘下降区的料盘移转至所述第二料盘上升区；所述第二料盘升降机构用于驱动所述料盘上升或带动上升料盘下降。本实用新型专利技术技术方案可以解决目前烤箱占用料盘过多的问题。解决目前烤箱占用料盘过多的问题。解决目前烤箱占用料盘过多的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种烤箱
[0001]本技术涉及烘烤加热设备
，特别涉及一种烤箱。
技术介绍
[0002]目前，玻璃表面加工、贴膜或镀膜后的烘烤，以及印刷电路板的烘烤所用的工业烤箱分为柜式热风烤箱、隧道式烤箱和和平板式；其中，柜式热风炉需要先将待烘烤产品放入料盘，料盘堆叠整齐后再由专用的料盘车送入烤箱内进行烘烤，烘烤完成后进行冷却，冷却后取出，整个过程产品占用料盘的时间较长，需要大量料盘和备用料盘，并且自动化程度也较低，因此，现有技术需要改进。
技术实现思路
[0003]本技术的主要目的是提出一种烤箱，旨在解决目前烤箱烘烤过程中需要使用大量料盘的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提出的烤箱具有烘烤区和冷却区，所述烘烤区内设有料盘，所述烘烤区包括第一上料区、第一料盘上升区、第一料盘下降区和第一下料区；所述烘烤区设有第一料盘循环机构；所述第一料盘循环机构包括位于所述烘烤区上方，且用于将位于所述第一料盘上升区顶部的料盘移转至所述第一料盘下降区的第一料盘移转机构，和，位于所述烘烤区下方，且用于将位于所述第一料盘下降区的料盘移转至所述第一料盘上升区的第二料盘移转机构；所述第一料盘循环机构还包括用于驱动所述料盘上升或下降的第一料盘升降机构。
[0005]优选地，所述第一料盘移转机构包括夹爪和导轨，所述夹爪用于夹持住位于所述第一料盘上升区顶部的料盘，并带动其沿所述导轨移动，以将所夹持的料盘移转至所述第一料盘下降区的顶部。
[0006]优选地，所述第一上料区位于所述第一料盘上升区的下方，所述第一下料区位于所述第一料盘下降区的下方；所述第二料盘移转机构用于将位于所述第一下料区的料盘移转至所述第一上料区。
[0007]优选地，所述烤箱还包括上料机构和第一下料机构；所述上料机构用于将产品搬运至位于所述第一上料区的料盘内；所述第一下料机构，用于将位于所述第一下料区的料盘内的产品取出。
[0008]优选地，所述第二料盘移转机构包括电机和传送带，所述第二料盘移转机构用于将位于所述第一下料区的料盘移转至所述第一上料区。
[0009]优选地，所述料盘的边框开设有通孔。
[0010]优选地，所述料盘呈方形，所述料盘的四角具有凸台，多个所述料盘叠放时，所述凸台的台面抵接相邻的料盘；两相邻料盘的边框之间形成有间隙。
[0011]优选地，所述凸台上设有定位凸起和定位凹槽，多个所述料盘叠放时，相邻料盘的所述定位凸起与所述定位凹槽相匹配。
[0012]优选地，所述第一料盘上升区设有第一料盘支撑机构，所述第一料盘支撑机构包括第一支撑部，所述第一支撑部位于所述第一料盘上升区的底部，以抵接并支撑位于所述第一料盘上升区底部的料盘。
[0013]优选地，所述第一支撑部可释放所述料盘。
[0014]优选地，所述第一料盘升降机构包括位于所述第一上料区下方的第一顶升机构；所述第一顶升机构用于与所述第一支撑部配合，以将位于所述第一上料区的料盘顶升至所述第一料盘上升区，并由所述第一料盘支撑机构支撑。
[0015]优选地，所述第一料盘支撑机构还包括驱动机构，以驱动所述第一支撑部上下移动。
[0016]优选地，所述第一料盘下降区设有第二料盘支撑机构，所述第二料盘支撑机构包括第二支撑部，所述第二支撑部位于所述第一料盘下降区的底部，以抵接并支撑位于所述第一料盘下降区底部的料盘。
[0017]优选地，所述第二支撑部可释放所述料盘。
[0018]优选地，所述第一料盘升降机构还包括位于所述第一下料区下方的第二顶升机构，所述第二顶升机构用于与所述第二支撑部配合，以承接并将位于所述第一料盘下降区底部的料盘下放至所述第一下料区。
[0019]优选地，所述第二料盘支撑机构还包括驱动机构，以驱动所述第二支撑部上下移动。
[0020]优选地，所述冷却区内设有料盘；所述冷却区包括第二上料区、第二料盘上升区、第二料盘下降区和第二下料区；所述冷却区设有第二料盘循环机构，所述第二料盘循环机构包括第三料盘移转机构、第四料盘移转机构和第二料盘升降机构；所述第三料盘移转机构位于所述冷却区上方，用于将位于所述第二料盘上升区顶部的料盘移转至所述第二料盘下降区；所述第四料盘移转机构位于所述冷却区下方，用于将位于所述第二料盘下降区的料盘移转至所述第二料盘上升区；所述第二料盘升降机构用于驱动所述料盘上升或带动上升料盘下降。
[0021]优选地，所述第二料盘下降区下部为第一降温区，所述第一降温区的上方为料盘缓存区，所述第一降温区与所述料盘缓存区间隔设置。
[0022]优选地，所述第二上料区位于所述第一降温区的顶部。
[0023]优选地，所述第二料盘下降区设有第三料盘支撑机构，所述第三料盘支撑机构包括第三支撑部和第四支撑部；所述第三支撑部位于所述料盘缓存区底部，用于支撑位于所述料盘缓存区底部的料盘；所述第四支撑部位于所述第一降温区底部，用于支撑位于所述第一降温区的料盘。
[0024]优选地，所述第三料盘支撑机构还包括驱动机构，以驱动所述第三支撑部和/或第四支撑部上下移动。
[0025]优选地，所述第二料盘上升区下端为第二降温区，所述第二降温区的上方为料盘缓存区，所述第二降温区与所述料盘缓存区间隔设置。
[0026]优选地，所述第二下料区位于所述第二降温区的顶部。
[0027]优选地，所述第二料盘上升区设有第四料盘支撑机构，所述第四料盘支撑机构包括第五支撑部和第六支撑部；所述第五支撑部位于所述料盘缓存区底部，用于支撑位于所
述料盘缓存区底部的料盘；所述第六支撑部位于所述第二降温区的底部，用于支撑位于所述第二降温区的料盘。
[0028]优选地，所述第四料盘支撑机构还包括驱动机构，以驱动所述第五支撑部和/或所述第六支撑部上下移动。
[0029]优选地，所述第四料盘移转机构包括电机和传送带，所述第四料盘移转机构用于将位于所述第二料盘下降区底部的料盘移转至所述第二降温区底部。
[0030]优选地，所述冷却区还设有第二下料机构；所述第一下料机构用于将位于所述第一下料区的料盘内的产品取出并搬运至位于所述第二上料区的料盘内，所述第二下料机构用于将位于所述第二下料区的料盘内的产品取出。
[0031]优选地，所述第二料盘升降机构包括位于所述第二料盘下降区下方的第三顶升机构；所述第三顶升机构用于与所述第三料盘支撑机构配合，以将位于所述料盘缓存区底部的料盘下放至所述第二上料区。
[0032]优选地，所述第二料盘升降机构还包括位于所述第二料盘上升区下方的第四顶升机构，所述第四顶升机构用于与所述第四料盘支撑机构配合，以将位于所述第二下料区的料盘顶升至所述料盘缓存区。
[0033]本技术技术方案通过采用料盘内循环结构，提高了料盘的利用率，解决了目前工业用烤箱需要大量料盘的问题，节省了料盘的使用量，提高了单位占地面积的产能，并且料盘在箱体内循环，料盘本身始终处于高温，可以避免对料盘重复的加热，节约能源。
附图说本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种烤箱，具有烘烤区和冷却区，其特征在于：所述冷却区内设有料盘；所述冷却区包括第二上料区、第二料盘上升区、第二料盘下降区和第二下料区；所述冷却区设有第二料盘循环机构，所述第二料盘循环机构包括第三料盘移转机构、第四料盘移转机构和第二料盘升降机构；所述第三料盘移转机构位于所述冷却区上方，用于将位于所述第二料盘上升区顶部的料盘移转至所述第二料盘下降区；所述第四料盘移转机构位于所述冷却区下方，用于将位于所述第二料盘下降区的料盘移转至所述第二料盘上升区；所述第二料盘升降机构用于驱动所述料盘上升或带动上升料盘下降。2.如权利要求1所述的烤箱，其特征在于，所述第二料盘下降区下部为第一降温区，所述第一降温区的上方为料盘缓存区，所述第一降温区与所述料盘缓存区间隔设置。3.如权利要求2所述的烤箱，其特征在于，所述第二上料区位于所述第一降温区的顶部。4.如权利要求3所述的烤箱，其特征在于，所述第二料盘下降区设有第三料盘支撑机构，所述第三料盘支撑机构包括第三支撑部和第四支撑部；所述第三支撑部位于所述料盘缓存区底部，用于支撑位于所述料盘缓存区底部的料盘；所述第四支撑部位于所述第一降温区底部，用于支撑位于所述第一降温区的料盘。5.如权利要求4所述的烤箱，其特征在于，所述第三料盘支撑机构还包括驱动机构，以驱动所述第三支撑部和/或第四支撑部上下移动。6.如权利要求1所述的烤箱，其特征在于，所述第二料盘上升区下端为第二降温区，所述第二降温区的上方为料盘缓存区，所述第二降温区与所述料盘缓存区间隔设置。7.如权利要求6所述的烤箱，其特征在于，所述第二下料区位于所述第二降温区的顶部。8.如权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：彭富国，李鑫，
申请(专利权)人：湖南三兴精密工业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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