一种制造技术

本发明专利技术涉及一种

【技术实现步骤摘要】
一种
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Rn子体状态参数的调控装置及调控方法


[0001]本专利技术涉及
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Rn子体状态参数调控
，特别是涉及一种
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Rn子体多个状态参数的调控装置及调控方法。

技术介绍

[0002]我国是高钍背景区和稀土生产大国，不可忽视环境以及稀土开发和生产过程中
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Rn及
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Rn子体暴露危害。
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Rn的半衰期短，
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Rn危害主要来源于
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Rn子体。准确评价
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Rn子体暴露危害需开展各种典型环境条件下
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Rn子体浓度、未结合态份额、子体活度比(
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Bi/
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Pb)等状态参数的调查。为此，需建立能实现不同典型环境条件下
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Rn子体浓度、未结合态份额、子体活度比等状态参数调控的计量装置，满足
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Rn子体状态参数测量方法和仪器刻度校准的需求，确保监测现场
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Rn子体浓度、未结合态份额、子体活度比这些数据的可靠性。
[0003]目前，已建立的
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Rn室大多都是针对
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Rn浓度进行调控。普遍存在的不足有：已建立的
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Rn室内
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Rn子体主要以结合态为主，由于
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Rn子体未结合态沉积速率比结合态沉积速率高出一个量级以上，未结合态的
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Rn子体更容易沉积附壁，使得对
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Rn子体未结合态的稳定调控难以实现，缺乏对不同
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Rn子体状态参数的稳定调控，无法实现对典型环境条件的全模拟和再现。所以，需建立能稳定调节不同
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Rn子体状态参数的调控装置，解决上述问题，满足计量刻度需求。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供一种
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Rn子体状态参数的调控装置及调控方法，能够实现
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Rn子体状态参数的稳定调控，以满足
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Rn子体计量和仪器刻度的需求。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供了如下方案：
[0006]一种
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Rn子体状态参数的调控装置，所述调控装置包括控制器、
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Rn子体室、充源回路以及补充回路；
[0007]所述控制器分别与所述充源回路和所述补充回路通信连接；所述充源回路的两端和所述补充回路的两端均与所述
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Rn子体室相连接；
[0008]所述控制器用于根据状态参数与待调参数之间的关系，通过调节所述待调参数将所述
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Rn子体室的状态参数调节至目标值；所述状态参数包括
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Rn子体浓度、未结合态份额和子体活度比；所述待调参数包括所述充源回路的第一换气速率以及所述补充回路的第二换气速率和/或气溶胶浓度；
[0009]所述充源回路用于按照所述第一换气速率进行工作，持续向所述
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Rn子体室内输入
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Rn子体；所述补充回路用于按照所述第二换气速率和所述气溶胶浓度进行工作，持续向所述
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Rn子体室内补充物质。
[0010]另一方面，本专利技术用于提供一种
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Rn子体状态参数的调控方法，所述调控方法包括：
[0011]根据状态参数的目标值判断是否需要向
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Rn子体室内补充气溶胶，得到第一判断结果；
[0012]当所述第一判断结果为是时，调节充源回路的第一换气速率和补充回路的第二换气速率和/或气溶胶浓度，将所述
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Rn子体室的状态参数调节至目标值；
[0013]当所述第一判断结果为否时，调节所述充源回路的第一换气速率和所述补充回路的第二换气速率，将所述
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Rn子体室的状态参数调节至目标值。
[0014]根据本专利技术提供的具体实施例，本专利技术公开了以下技术效果：
[0015]本专利技术用于提供一种
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Rn子体状态参数的调控装置及调控方法，控制器根据状态参数与待调参数之间的关系，通过调节待调参数将
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Rn子体室的状态参数调节至目标值，待调参数包括充源回路的第一换气速率以及补充回路的第二换气速率和/或气溶胶浓度，进而通过调节换气速率和气溶胶浓度，实现
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Rn子体室中
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Rn子体状态参数的稳定调控。并且在调节结束后，充源回路按照第一换气速率进行工作，持续向
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Rn子体室内输入
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Rn子体，补充回路按照第二换气速率和气溶胶浓度进行工作，持续向
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Rn子体室内补充物质，进而建立
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Rn子体室中
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Rn子体补偿与损失的动态平衡，始终使状态参数稳定在目标值。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1为本专利技术实施例1所提供的调控装置的结构示意图。
[0018]图2为本专利技术实施例2所提供的调控方法的方法流程图。
[0019]符号说明：
[0020]1‑
第一恒流泵；2
‑
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Rn源；3
‑
空气过滤器；4
‑
第二气体三通阀；5
‑
采样泵；6
‑
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Rn子体室；7
‑
第二恒流泵；8
‑
气溶胶稀释室；9
‑
第三恒流泵；10
‑
气溶胶过滤器；11
‑
气溶胶粒径谱仪；12
‑
气溶胶发生器；13
‑
硅胶连接管；14
‑
第一气体三通阀。
具体实施方式
[0021]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0022]本专利技术的目的是提供一种
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Rn子体状态参数的调控装置及调控方法，能够实现
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Rn子体状态参数的稳定调控，以满足
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Rn子本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种
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Rn子体状态参数的调控装置，其特征在于，所述调控装置包括控制器、
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Rn子体室、充源回路以及补充回路；所述控制器分别与所述充源回路和所述补充回路通信连接；所述充源回路的两端和所述补充回路的两端均与所述
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Rn子体室相连接；所述控制器用于根据状态参数与待调参数之间的关系，通过调节所述待调参数将所述
220
Rn子体室的状态参数调节至目标值；所述状态参数包括
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Rn子体浓度、未结合态份额和子体活度比；所述待调参数包括所述充源回路的第一换气速率以及所述补充回路的第二换气速率和/或气溶胶浓度；所述充源回路用于按照所述第一换气速率进行工作，持续向所述
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Rn子体室内输入
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Rn子体；所述补充回路用于按照所述第二换气速率和所述气溶胶浓度进行工作，持续向所述
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Rn子体室内补充物质。2.根据权利要求1所述的调控装置，其特征在于，所述充源回路包括第一恒流泵、
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Rn源以及空气过滤器；所述第一恒流泵的一端与所述
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Rn子体室相连接，所述第一恒流泵的另一端与所述
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Rn源的一端相连接；所述
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Rn源的另一端与所述空气过滤器的一端相连接；所述空气过滤器的另一端与所述
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Rn子体室相连接；所述第一恒流泵用于按照所述第一换气速率从所述
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Rn子体室中抽取气流；所述
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Rn源用于在所述气流的作用下产生
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Rn，并将所述
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Rn通过所述空气过滤器输入至所述
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Rn子体室。3.根据权利要求1所述的调控装置，其特征在于，所述补充回路包括空气补充支路和气溶胶补充支路；所述控制器用于根据所述目标值判断是否需要向所述
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Rn子体室内补充气溶胶，并在不需要补充气溶胶时，控制所述空气补充支路工作，在需要补充气溶胶时，控制所述气溶胶补充支路工作；所述空气补充支路用于按照所述第二换气速率进行工作，对所述
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Rn子体室内的物质进行过滤；所述气溶胶补充支路用于按照所述第二换气速率和所述气溶胶浓度进行工作，向所述
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Rn子体室内补充气溶胶。4.根据权利要求3所述的调控装置，其特征在于，所述空气补充支路包括第二恒流泵、第一气体三通阀、第二气体三通阀和空气过滤器；所述第二恒流泵的一端与所述
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Rn子体室相连接，所述第二恒流泵的另一端与所述第一气体三通阀的第一端相连接；所述第一气体三通阀的第二端与所述第二气体三通阀的第一端相连接；所述第二气体三通阀的第二端与所述空气过滤器的一端相连接；所述空气过滤器的另一端与所述
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Rn子体室相连接；所述第二恒流泵用于按照所述第二换气速率从所述
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Rn子体室中抽取气流，并将所述气流通过所述第一气体...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕丽丹，何正忠，肖德涛，蔺健，
申请(专利权)人：南华大学，
类型：发明
国别省市：