用于蒸汽射流沉积的装置制造方法及图纸

根据一实施例的用于蒸汽射流沉积的装置包括产生源蒸汽的源蒸汽产生部；以及喷嘴部，包括扩散源蒸汽的扩散块，包括多个喷嘴的喷嘴板，和设置在扩散块与喷嘴板之间以将扩散块与喷嘴板结合的联接构件。联接构件的热膨胀系数具有在扩散块的热膨胀系数与喷嘴板的热膨胀系数之间的值。联接构件包含玻璃材料。联接构件的软化温度等于或小于大约400℃。件的软化温度等于或小于大约400℃。件的软化温度等于或小于大约400℃。

【技术实现步骤摘要】
用于蒸汽射流沉积的装置


[0001]本公开涉及一种用于沉积的装置。更具体地，本公开涉及用于蒸汽射流(jet)沉积的装置和制造蒸汽射流喷嘴单元的方法。

技术介绍

[0002]最近，使用有机电子材料的诸如有机发光二极管、有机半导体元件、有机传感器元件等的有机电子器件正在增加。
[0003]真空蒸发正在被广泛用于沉积有机薄膜。然而，要求基板和蒸汽源彼此间隔开足够的距离，以通过真空蒸发形成均匀的有机薄膜。因此，在有机薄膜的期望尺寸增加的情况下，可能会降低源材料的有效使用率，并且真空室的所需尺寸可能增大。此外，由于用于形成有机薄膜图案的荫罩掩模需要设置在蒸汽源上，所以荫罩掩模的下垂可能导致不规则的图案。
[0004]为了解决上述问题，正在开发和研究蒸汽射流沉积。根据蒸汽射流沉积，有机源材料被蒸发并且作为射流喷射。

技术实现思路

[0005]实施例提供一种用于蒸汽射流沉积的装置，该装置可以形成大尺寸的有机薄膜并且具有增加的可靠性。
[0006]实施例提供一种制造蒸汽射流喷嘴单元的方法。
[0007]根据一实施例，用于蒸汽射流沉积的装置可以包括用于产生源蒸汽的源蒸汽产生部；以及喷嘴部，包括用于扩散源蒸汽的扩散块，包括多个喷嘴的喷嘴板，和设置在扩散块与喷嘴板之间以将扩散块与喷嘴板结合的联接构件。联接构件的热膨胀系数可以具有在扩散块的热膨胀系数与喷嘴板的热膨胀系数之间的值。联接构件可以包含玻璃材料。联接构件的软化温度可以等于或小于大约400℃。
[0008]在一实施例中，源蒸汽可以包含有机材料。
[0009]在一实施例中，该装置可以进一步包括向源蒸汽产生部提供输送气体的输送气体供应部。
[0010]在一实施例中，扩散块可以包含热膨胀抑制合金，该热膨胀抑制合金至少包括铁和镍。
[0011]在一实施例中，联接构件的热膨胀系数可以大于大约2.6ppm/℃并且小于大约5ppm/℃。
[0012]在一实施例中，联接构件的玻璃化转变温度和软化温度可以分别为大约300℃至大约350℃。
[0013]在一实施例中，联接构件可以由具有低熔化温度的玻璃熔块(frit)形成。
[0014]在一实施例中，扩散块可以包括连接到多个喷嘴中的至少一个喷嘴的扩散流动路径。
[0015]在一实施例中，联接构件可以包括将扩散流动路径连接到多个喷嘴中的至少一个喷嘴的通路部分。
[0016]在一实施例中，多个喷嘴可以穿过喷嘴板，并且喷嘴的长径比可以等于或大于5∶1。
[0017]在一实施例中，蒸汽排放表面处的多个喷嘴的直径可以小于蒸汽进入表面处的多个喷嘴的直径。
[0018]在一实施例中，喷嘴板可以包含硅。
[0019]在一实施例中，多个喷嘴可以在第一方向上布置。
[0020]在一实施例中，多个喷嘴可以在第一方向和与第一方向相交的第二方向上布置。
[0021]在一实施例中，多个喷嘴可以以之字形配置布置。
[0022]根据一实施例，一种制造蒸汽射流喷嘴单元的方法可以包括：将包含熔块粉末的玻璃熔块涂覆在包括扩散流动路径的扩散块上，以形成包括形成扩散流动路径的通路部分的熔块层；将包括多个喷嘴的喷嘴板设置在熔块层上，使得喷嘴板接触熔块层；加热熔块层，以形成将扩散块与喷嘴板结合的联接构件。联接构件的热膨胀系数可以具有在扩散块的热膨胀系数与喷嘴板的热膨胀系数之间的值。联接构件的软化温度可以等于或小于大约400℃。
[0023]在一实施例中，扩散块可以包含热膨胀抑制合金，该热膨胀抑制合金至少包括铁和镍。
[0024]联接构件的热膨胀系数可以大于大约2.6ppm/℃并且小于大约5ppm/℃。
[0025]联接构件的玻璃化转变温度和软化温度可以分别为大约300℃至大约350℃。
[0026]喷嘴板包含硅，并且多个喷嘴的长径比可以等于或大于5∶1。
[0027]根据实施例，具有不同材料的扩散块和喷嘴板可以彼此稳定地结合，并且可以减少或防止由于扩散块与喷嘴板之间的热膨胀差异而导致的结合失败。因此，可以实现大尺寸的蒸汽射流沉积。
[0028]此外，蒸汽射流的线性度可以增加，从而增加打印图案的分辨率。
附图说明
[0029]从以下结合附图的详细描述中，将更清楚地理解本公开的一个或多个实施例的各方面。
[0030]图1是例示根据一实施例的用于蒸汽射流沉积的装置的示意图。
[0031]图2是例示根据一实施例的用于蒸汽射流沉积的装置的示意透视图。
[0032]图3是例示根据一实施例的用于蒸汽射流沉积的装置的喷嘴部的示意剖视图。
[0033]图4是例示根据一实施例的用于蒸汽射流沉积的装置的喷嘴部的示意后视图。
[0034]图5和图6是例示根据实施例的用于蒸汽射流沉积的装置的喷嘴部的示意后视图。
[0035]图7、图8、图9、图10和图11是例示根据一实施例的制造蒸汽射流喷嘴单元的方法的示意剖视图。
[0036]图12是例示根据一实施例的用于蒸汽射流沉积的装置的喷嘴板的示意剖视图。
[0037]图13、图14和图15是例示根据实施例的用于蒸汽射流沉积的装置的喷嘴部的示意剖视图。
[0038]图16是例示根据一实施例的用于蒸汽射流沉积的装置的示意图。
具体实施方式
[0039]下面将参考附图描述根据本公开的实施例的用于蒸汽射流沉积的装置。
[0040]在说明书和权利要求书中，出于短语的含义和解释的目的，短语
“…
中的至少一个”旨在包括“选自
…
的组的至少一个”的含义。例如，“A和B中的至少一个”可以理解为表示“A、B或A和B”的含义。
[0041]除非本文另有定义或暗示，否则本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本公开所属领域的技术人员通常理解的含义相同的含义。将进一步理解的是，术语，例如在常用词典中定义的那些，应该被解释为具有与它们在相关领域和本公开的上下文中的含义一致的含义，并且不应该以理想的或过于正式的意义来解释，除非在本文中明确如此定义。
[0042]图1是例示根据一实施例的用于蒸汽射流沉积的装置的示意图。图2是例示根据一实施例的用于蒸汽射流沉积的装置的示意透视图。
[0043]参考图1和图2，根据一实施例的用于蒸汽射流沉积的装置包括用于产生源蒸汽的源蒸汽产生部10和喷嘴部20，喷嘴部20从源蒸汽产生部10接收源蒸汽并排放该源蒸汽。
[0044]例如，喷嘴部20可以将源蒸汽排放到设置在工作台40上的基板50，以在基板50上形成有机薄膜图案52。例如，喷嘴部20可以包括喷嘴，并且可以形成对应于喷嘴的有机薄膜图案。
[0045]用于蒸汽射流沉积的装置可以进一步包括输送气体供应部30，其向源蒸汽产生部10提供输送气体。例如，输送气体可以包括诸如氩气、氮气、氦气等的惰性气体。输送气体供应部30可以进一步连接到喷嘴部20，以向喷嘴部20提供本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于蒸汽射流沉积的装置，所述装置包括：用于产生源蒸汽的源蒸汽产生部；以及喷嘴部，包括：用于扩散所述源蒸汽的扩散块；包括多个喷嘴的喷嘴板；和联接构件，设置在所述扩散块与所述喷嘴板之间，以将所述扩散块与所述喷嘴板结合，其中：所述联接构件的热膨胀系数具有在所述扩散块的热膨胀系数与所述喷嘴板的热膨胀系数之间的值，所述联接构件包含玻璃材料，并且所述联接构件的软化温度等于或小于400℃。2.根据权利要求1所述的装置，其中所述源蒸汽包含有机材料。3.根据权利要求1所述的装置，进一步包括向所述源蒸汽产生部提供输送气体的输送气体供应部。4.根据权利要求1所述的装置，其中所述扩散块包含热膨胀抑制合金，所述热膨胀抑制合金至少包括铁...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴简永，金圣渊，柳承夹，
申请(专利权)人：韩国科学技术院，
类型：发明
国别省市：