层叠体和电容器制造技术

一种层叠体，不易产生金属薄膜层的破裂，在作为电容器使用的情况下，与以往的薄膜电容器相比在外观和结构上相似，从而在实际安装时不必有特别的顾虑，并可同时满足小型化和高性能化的要求。该层叠体由层叠出１００层以上的层叠单位而成，其中，层叠单位由厚度为１μｍ以下的电介质层，和层叠在上述电介质层的单面上、由带状的电气绝缘部分所区分的第１金属薄膜层和第１金属薄膜层构成，其中，邻接的上述层叠单位中上述电气绝缘部分的层叠位置不同，同时每隔一层的层叠单位中电气绝缘部分的层叠位置在层叠体整体上不相同。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

第一专利技术涉及一种由树脂层和金属薄膜层构成的层叠体的制造方法。特别是涉及在将由树脂层和在其上层叠成任意形状的金属薄膜层构成的层叠单位层叠出数层而制造层叠体时合适的层叠体的制造方法。第二专利技术涉及一种由电介质层和金属薄膜层构成的层叠体。特别是涉及在可适用于电容器等电子元件中的层叠体。
技术介绍
关于第一专利技术由树脂层和金属薄膜层构成的层叠体广泛应用于磁带等磁记录介质、包装用材料及电子元件等中。作为这种层叠体中使用的树脂层的制造方法，除了将树脂材料熔融后拉伸制膜而获得具有自身支承性的薄膜的方法之外，实用中还有在支承体上涂敷由溶剂将树脂材料稀释了的溶液，之后经干燥固化而获得的方法等。但是，通过这种方法所获得的树脂层的厚度至少为1μm左右，难以稳定地获得更薄的树脂层。而且，前者的方法制造设备庞大，而后者的方法有时因溶剂而对环境产生不良影响，且在干燥后的涂膜上多产生缺陷。而作为即可稳定地获得薄膜的树脂层、又不会发生上述问题的方法，已有人提出在真空的状态下在支承体上形成树脂薄膜的方法。这种方法是在真空中将树脂材料汽化后，使其附着在支承体上而薄膜化。根据这种方法，可形成无空隙缺陷的树脂薄膜层。另一方面，对于金属薄膜层的形成，在高速移动的支承体上进行真空蒸镀的方法适用于批量生产，已在工业上应用。而且，以电子元件的用途为中心，一直进行着金属薄膜层的图形化、即只在特定的区域内形成金属薄膜层。例如，通过以未形成金属薄膜层的部分作为绝缘区域，将金属薄膜层分割成数块，可在层叠体中形成电位不同的金属薄膜层。作为将金属薄膜层图形化的方法，已知的是被称为油膜涂廓(oilmargin)的方法。这种方法是利用了当预先在支承体上薄薄地形成油等的图形材料，之后通过金属蒸镀等形成金属薄膜时，在图形材料上不形成金属薄膜层的性质。现在对由树脂层和金属薄膜层构成的层叠体的要求越来越向小型化、高性能化和低成本化的方向发展。例如，正在研究通过将由树脂层和图形化的金属薄膜层构成的层叠单位分成数层而满足各种要求的特性或赋予其特定的功能，使小型化和高性能化同时得到满足。而且，也正在进行在环绕由树脂层和金属薄膜层构成的层叠体的支承体上连续层叠，以降低成本的研究。但是，可知当在环绕的支承体上顺序层叠几层树脂层和金属薄膜层而制造层叠体之际，在树脂层层叠后、金属薄膜层层叠前使图形材料附着成特定形状，并在特定的区域内层叠出金属薄膜层时，会产生层叠表面粗糙、树脂层或金属薄膜层出现针孔(层叠脱落)、金属薄膜层的层叠区域不稳定化(例如，从所希望的层叠区域突出或与其相反)等问题。这些问题是在树脂层上涂敷图形材料以形成金属薄膜层而结束工序的以往的两层层叠体的制造方法中不常见的问题。而且，这些问题特别是在各层的层叠厚度越薄时越显著。关于第二专利技术现在，在对电子元件的小型化、高性能化的要求越来越严格，对电容器也不例外。电容器的容量在电介质的电容率为相同的情况下与电介质的面积成正比，而与电介质层的厚度成反比。因此，为了既使电容器小型化，又保持或增大其容量，减薄电介质层的厚度、而且增大容量产生部分的有效面积是有效的方法。作为在电容器等电子元件中使用的由电介质层和金属薄膜层构成的层叠体，已知有薄膜电容器用的层叠体。这是一种将金属化的膜层叠或卷绕而成的层叠体，其中金属化的膜是在聚酯(PEN、PET等)、聚烯烃(PP等)、PPS等树脂薄膜上通过真空蒸镀法、飞溅等层叠了铝等的金属薄膜。但是，由于树脂薄膜的厚度受其制造工序或其后的薄膜处理性、加工性等的限制，其薄膜化是有限度的。用于现在使用的薄膜电容的薄膜厚度只能到1.2μm左右，在电介质层的薄膜化、维持电容器体积的状态下增大容量产生部分的有效面积上均已达到极限，这妨碍了同时实现薄膜电容器的小型化和高容量化。另一方面，有人提出了一种在电介质层和金属薄膜层构成的层叠体中，通过与以往的薄膜电容器完全不同的制造方法，使电介质层的厚度达到1μm左右的方案(特公昭63-31929号公报、U.S.P.5,125,138等)。但是，特公昭63-31929号公报中公开的电容器的结构为使金属薄膜层(电极层)向层叠方向倾斜，与电容器的侧部紧密接触而作为电极，存在由于金属薄膜层的倾斜部分而使金属薄膜层易于断裂的问题。而且，与以往的超小型电容器相比，外观形状大不相同，存在实际安装时要考虑其特殊性的问题。另一方面，在U.S.P.5,125,138中公开了一种使金属薄膜层(电极层)不倾斜地从层叠体的侧部露出的层叠体。但是，这种层叠体中，当整体观察层叠体时，在金属薄膜层中层叠数少的部分中，层叠厚度与其它部分大不相同，结果在金属薄膜层中层叠数少的部分的层叠方向上面产生凹部。这种凹部在进行将层叠体锡焊安装在印刷电路板上时操作性差，并对焊剂的湿润性产生不良影响。而且，由于凹部周边的电介质层及金属薄膜层是倾斜或弯曲的，所以层叠厚度变薄，在作为电容器使用的情况下，导致耐压性降低、电介质层产生针孔、金属薄膜层的导电不良等。另外，这种凹部也增加了层叠体自身制造的难度。这种凹部随着电介质层变薄(例如1μm以下)、层叠数增多(例如100层以上，特别是1000层以上)而更加显著地发生。因此，以这种层叠体实现电容器的小型化、高容量化依然很困难。专利技术的公开关于第一专利技术第一专利技术的目的在于通过提供一种稳定地制造层叠出多个由树脂层和只在特定区域层叠的金属薄膜层构成的层叠单位而构成的层叠体，从而达到对这种层叠体的小型化、高性能化和低成本化的要求。为了达到上述目的，第一专利技术的结构如下。即，第一专利技术的层叠体的制造方法为一种将使树脂材料附着、层叠出树脂层的工序，使图形材料附着在上述树脂层上的工序和层叠出金属薄膜层的工序作为一个单位，通过在环绕的支承体上重复这些工序指定次数，从而制造由树脂层和金属薄膜层构成的层叠体的方法，其特征在于将图形材料以非接触方式附着在树脂层表面上。而且，第一专利技术的第2层叠体的制造方法为一种将使树脂材料附着、层叠出树脂层的工序，使图形材料附着在上述树脂层上的工序和层叠出金属薄膜层的工序作为一个单位，通过在环绕的支承体上重复这些工序指定次数，从而制造由树脂层和金属薄膜层构成的层叠体的方法，其特征在于在层叠金属薄膜层的工序之后，层叠树脂层的工序之前，具有除去残存的图形材料的工序。另外，第一专利技术的第3层叠体的制造方法为一种将使树脂材料附着、层叠出树脂层的工序，使图形材料附着在上述树脂层上的工序和层叠出金属薄膜层的工序作为一个单位，通过在环绕的支承体上重复这些工序指定次数，从而制造由树脂层和金属薄膜层构成的层叠体，其特征在于上述图形材料为从酯类油、二醇类油、氟类油及烃类油构成的组中选择出的至少一种油。根据上述第1～第3的层叠体的制造方法，即使减薄层叠厚度，也可获得没有层叠表面粗糙、树脂层或金属薄膜层中产生针孔、金属薄膜层的层叠区域不稳定化等问题的层叠体。因此，由本专利技术的制造方法所获得的层叠体可广泛应用于要求小型化、高性能化和低成本化的各种用途，例如磁带等的磁记录介质，包装用材料和电子元件等。关于第二专利技术第二专利技术的目的在于提供下述一种层叠体和电容器，即，在电介质层和金属薄膜层构成的层叠体中，不易产生金属薄膜层的破裂，在作为电容器使用的情况下，与以往的薄膜电容器相比在外观和结构上相似，从而本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种层叠体，由层叠出１００层以上的层叠单位而成，其中，层叠单位由厚度为１μｍ以下的电介质层，和层叠在上述电介质层的单面上、由带状的电气绝缘部分所区分的第１金属薄膜层和第１金属薄膜层构成，其特征在于：邻接的上述层叠单位中上述电气绝缘部分的层叠位置不同，同时每隔一层的层叠单位中电气绝缘部分的层叠位置在层叠体整体上不相同。

【技术特征摘要】
JP 1997-11-18 317412/97;JP 1997-11-18 317416/971.一种层叠体，由层叠出100层以上的层叠单位而成，其中，层叠单位由厚度为1μm以下的电介质层，和层叠在上述电介质层的单面上、由带状的电气绝缘部分所区分的第1金属薄膜层和第1金属薄膜层构成，其特征在于邻接的上述层叠单位中上述电气绝缘部分的层叠位置不同，同时每隔一层的层叠单位中电气绝缘部分的层叠位置在层叠体整体上不相同。2.根据权利要求1所述的层叠体，其特征在于当带状的电气绝缘部分的宽度为W时，每隔一层的层叠单位中电气绝缘部分的层叠位置的偏离量为W/20以上、4W以下。3.根据权利要求1所述的层叠体，其特征在于当带状的电气绝缘部分的宽度为W时，每隔一层的层叠单位中电气绝缘部分的层叠位置的离散最大值在整体观察层叠体时为6W/5以上、5W以下。4.一种层叠体，由层叠出100层以上的层叠单位而成，其中，层叠单位由厚度为1μm以下的电介质层，和位于上述电介质层的单面上、在除了存在于其一端上的带状的电气绝缘部分之外的部分上层叠的金属薄膜层构成，其特征在于邻接的层叠单位中上述电气绝缘部分位于互为相反一侧地层叠，每隔一层的层叠单位中电气绝缘部分的宽度在层叠体整体上是不同的。5.根据权利要求4所述层叠体，其特征在于当每隔一层的层叠单位中电气绝缘部分的宽度平均值为WAVE，最大值为WMAX，最小值为WMIN时，(WMAX-WMIN)/WAVE为WAVE/5以上、WAVE以下。6.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：本田和义，越后纪康，小田桐优，砂流伸树，陶泽真一，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]