连续镀敷装置制造方法及图纸

连续镀敷装置具有第1槽和第2槽。在第1槽中，进行针对基材的镀敷处理中的第1处理。在第2槽中，进行针对基材的镀敷处理中的第2处理。第2槽与第1槽相邻地配置。第1槽和第2槽以第2槽相对于第1槽的位置能够相对地变化的方式连接。接。接。

【技术实现步骤摘要】
连续镀敷装置


[0001]本技术涉及连续镀敷装置。

技术介绍

[0002]在日本特开2018－3150号公报(专利文献1)中记载有连续镀敷装置。在连续镀敷装置中连结有对镀敷液等液体进行保持的多个槽。
[0003]专利文献1：日本特开2018－3150号公报

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于，提供能够以稳定的条件进行镀敷处理的连续镀敷装置。
[0005]本技术所涉及的连续镀敷装置具有第1槽和第2槽。在第1槽中，进行针对基材的镀敷处理中的第1处理。在第2槽中，进行针对基材的镀敷处理中的第2处理。第2槽与第1槽相邻地配置。第1槽和第2槽以第2槽相对于第1槽的位置能够相对地变化的方式连接。
[0006]技术的效果
[0007]根据本技术，能够提供能够以稳定的条件进行镀敷处理的连续镀敷装置。
附图说明
[0008]图1是表示本实施方式所涉及的连续镀敷装置的结构的俯视示意图。
[0009]图2是表示本实施方式所涉及的连续镀敷装置的结构的侧视示意图。
[0010]图3是本实施方式所涉及的连续镀敷装置的局部放大俯视示意图。
[0011]图4是图3的线段Ⅳ－Ⅳ处的剖面示意图。
[0012]图5是本实施方式所涉及的连续镀敷装置的局部放大剖面示意图。
[0013]图6是表示基材的输送机构的结构的侧视示意图。
[0014]图7是表示镀敷区域的结构的俯视示意图。
[0015]图8是图7的线段
Ⅷ
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处的剖面示意图。
[0016]图9是图7的线段
Ⅸ
－
Ⅸ
处的剖面示意图。
[0017]图10是表示本实施方式所涉及的连续镀敷装置的第1变形例的放大俯视示意图。
[0018]图11是图10的线段
Ⅺ
－
Ⅺ
处的剖面示意图。
[0019]图12是表示本实施方式所涉及的连续镀敷装置的第2变形例的俯视示意图。
[0020]图13是图12的线段
ⅩⅢ
－
ⅩⅢ
处的剖面示意图。
[0021]图14是用于对图12所示的连续镀敷装置中的槽的挠曲率进行说明的示意图。
[0022]标号的说明
[0023]1 前处理区域
[0024]2 镀敷区域
[0025]3 后处理区域
[0026]4 放卷机
[0027]5 机
[0028]6 第1轮
[0029]7 第2轮
[0030]8 链条
[0031]9 电源
[0032]10 夹紧工具
[0033]20 喷流管
[0034]21 正极电极
[0035]22 镀敷槽
[0036]23 管部
[0037]24 喷流孔
[0038]25 镀敷液
[0039]30 连接部
[0040]31 第1凸出部
[0041]32 第2凸出部
[0042]33 回收部
[0043]34、311、321 前端部
[0044]35 部分
[0045]40 处理槽
[0046]41 第1槽
[0047]42 第2槽
[0048]45 第1辊
[0049]46 第2辊
[0050]50 连接部件
[0051]51 波纹构造部
[0052]53 凸缘部
[0053]55 螺钉
[0054]56 端部
[0055]57 另一方端部
[0056]61 加强部件
[0057]62 固定部
[0058]63 基座
[0059]64 上端部
[0060]65 直线
[0061]67 侧面
[0062]100 连续镀敷装置
[0063]312 第1开口部
[0064]313 外周面
[0065]322 第2开口部
[0066]323 内周面
[0067]A 基材
[0068]B 行进方向
[0069]L1 最大距离
[0070]L2 长度
具体实施方式
[0071][本技术的实施方式的说明][0072]下面，基于附图对本技术的实施方式进行说明。此外，在下面的附图中对相同或者相当的部分标注同一参照编号，不重复其说明。
[0073](1)本技术所涉及的连续镀敷装置100具有第1槽41和第2槽42。在第1槽41中，进行针对基材A的镀敷处理中的第1处理。在第2槽42中，进行针对基材A的镀敷处理中的第2处理。第2槽42与第1槽41相邻地配置。第1槽41和第2槽42以第2槽42相对于第1槽41的位置能够相对地变化的方式连接。
[0074]根据上述(1)所涉及的连续镀敷装置100，第1槽41和第2槽42能够相对位移地连接。因此，能够对由于设置连续镀敷装置100的环境的气氛温度变化而在第1槽41及第2槽42产生热应力进行抑制。
[0075]具体地说，考虑如上所述由于气氛温度的变化而第1槽41及第2槽42发生热膨胀或者收缩的情况。此时，能够在将第1槽41和第2槽42能够位移地连接的连接部处，对由该热膨胀或者收缩引起的第1槽41和第2槽42的相对位移进行吸收。另一方面，在第1槽41和第2槽42无法相对位移地连接的情况下，由于如上述的热膨胀或者收缩而在第1槽41及第2槽42产生热应力。在由于如上所述的热应力例如第1槽41或者第2槽42的宽度膨胀的情况下，结果上第1槽41及第2槽42的内部构造与基材A之间的距离发生变化。如上所述的内部构造与基材A之间的距离的变化成为镀敷处理的工艺条件变化的原因。即，如果第1槽41和第2槽42无法相对位移地连接，则镀敷处理的工艺条件有可能由于气氛温度的变化而变动。
[0076]在上述(1)所涉及的连续镀敷装置100中，能够在连接部处对如上所述由气氛温度的变化引起的第1槽41及第2槽42的热膨胀或者收缩进行吸收，因此能够抑制如上述的热应力的产生。其结果，能够抑制如上述的镀敷处理的工艺条件的变动，能够以稳定的条件进行镀敷处理。
[0077](2)在上述(1)所涉及的连续镀敷装置100中，第1槽41可以包含第1凸出部31。第1凸出部31可以朝向第2槽42凸出。可以在第1凸出部31的前端部311形成第1开口部312。第2槽42可以包含第2凸出部32。第2凸出部32可以朝向第1槽41凸出。可以在第2凸出部32的前端部321形成第2开口部322。第1凸出部31的前端部311可以插入至第2开口部322。第2开口部322的内周面323和第1凸出部31的外周面313可以能够滑动地接触。
[0078]在该情况下，通过具有第2开口部322的内周面323和第1凸出部31的外周面313能够滑动地接触的构造的连接部将本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种连续镀敷装置，其特征在于，具有：第1槽，其进行针对基材的镀敷处理中的第1处理；以及第2槽，其与所述第1槽相邻地配置，在所述第2槽中，进行针对所述基材的所述镀敷处理中的第2处理，所述第1槽和所述第2槽以所述第2槽相对于所述第1槽的位置能够相对地变化的方式连接，所述第1槽包含第1凸出部，该第1凸出部朝向所述第2槽凸出，在所述第1凸出部的前端部形成第1开口部，所述第2槽包含第2凸出部，该第2凸出部朝向所述第1槽凸出，在所述第2凸出部的前端部形成第2开口部，所述第1凸出部的所述前端部插入至所述第2开口部，并且所述第2开口部的内周面和所述第1凸出部的外周面能够滑动地接触。2.根据权利要求1所述的连续镀敷装置，其中，具有回收部，该回收部配置于所述第1凸出部和所述第2凸出部接触的部分的至少下方，对在所述第1处理及所述第2处理的任意处理中使用的液体中的、从所述部分泄漏的所述液体的一部分进行回收。3.根据权利要求1或2所述的连续镀敷装置，其中，具有加强部件，该加强部件连接于所述第1槽及所述第2槽的任一者的侧面。4.根据权利要求3所述的连续镀敷装置，其中，连接有所述加强部件的所述第1槽及所述第2槽的任一者，将在所述第1处理及所述第2处理的任意处理中使用的液体保持于内部的状态下的挠曲率小于或等于3/7500。5.根据权利要求3所述的连续镀敷装置，其中，所述加强部件连接于所述第1槽及所述第2槽这两者。6.根据权利要求4所述的连续镀敷装置，其中，所述加强部件连接于所述第1槽及所述第2槽这两者。7.根据权利要求5所述的连续镀敷装置，其中，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：上田胜志，山本真，酒井将一郎，
申请(专利权)人：住友电工印刷电路株式会社，
类型：新型
国别省市：