本发明专利技术公开了一种产生单侧磁场的平板式永磁磁源，属于永磁磁康复、磁治疗设备领域，它是由Ｎ条永磁棱柱拼装而成的一个基本平板，基本平板的一面上部区域是强磁场，基本平板的另一面上部区域是弱磁场，与已有技术相比，具有适于用在磁座垫、磁坐椅、磁床垫、临床用磁疗床等扁平形的结构体中，且磁源利用率高、体积小、成本低，能在所用设备指定方向侧的足够大范围内产生满足要求的磁场的优点。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术公开了一种产生单侧磁场的平板式永磁磁源，属于永磁磁康复、磁治疗设备 领域，特别适合在磁座垫、磁坐椅、磁床垫、临床用磁疗床等设备上应用。
技术介绍
已有的用于永磁磁康复、磁治疗设备中的永磁磁源，结构或是圆柱，或是立方体。 而磁座垫、磁坐椅、磁床垫等设备都是以扁平面结构为主，因而已有技术的圆柱，或立 方体结构的永磁磁源都不适合于用在需要配用外形扁平的磁源的磁座垫、磁坐椅、磁床 垫等设备上。并且，目前的圆柱、或立方体结构的永磁磁源用到磁康复、磁治疗设备中， 其永磁材料利用率不高，设备笨重，成本高；在需要产生同样工作磁场(场区范围，其 中的场强均相同)的情况下，已有的圆柱、或立方体磁源用料多，体积大。所以用于磁 座垫、磁坐椅、磁床垫、临床用磁疗床等设备上的永磁磁源需要彻底更新。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种产生单侧磁场的平板式永磁磁源，其具有适于用在磁座 垫、磁坐椅、磁床垫、临床用磁疗床等扁平形的结构体中，且磁源利用率高、体积小、 成本低，能在所用设备指定方向侧的足够大范围内产生满足要求的磁场。本专利技术的目的是这样实现的 一种产生单侧磁场的平板式永磁磁源，它是由N条 永磁棱柱拼装而成的一个基本平板，基本平板的一面上部区域是强磁场，基本平板的另 一面上部区域是弱磁场；其中，永磁棱柱是奇数条，可以是五条、七条、九条永磁棱柱；永磁棱柱的磁化方向矢量都处在永磁棱柱的横断面内；基本平板中的永磁棱柱从左边排向右边，各永磁棱柱的磁化方向矢量从左边向右， 依次逆时针旋转一个角度；旋转角度可以是30 50度；基本平板中的永磁棱柱根数为9，起始永磁棱柱的磁化方向与最末一根的磁化方向 取为水平方向，从左指向右方；基本平板中的永磁棱柱根数为7，起始永磁磁柱的磁化 方向取为45度，最末一根的磁化方向取为-45度，从左指向右方；基本平板中的永磁 棱柱根数为5，起始永磁磁柱的磁化方向取为90，最末一根的磁化方向取为-90度；永磁棱柱的横断面是矩形或正方形，N条永磁棱柱拼装而成基本平板，永磁棱柱的 横断面矩形的宽度A在5毫米至500毫米之间，永磁棱柱的横断面矩形的厚度在5毫 米至500毫米之间，永磁棱柱的长度C，在0.2—1倍的N+A的数值间；具体可以是永磁棱柱的横断面矩形的宽度A、厚度B具体可以是5毫米、10毫 米、15毫米、20毫米、25毫米、30毫米、35毫米、40毫米、45毫米、50毫米、55 毫米、60毫米、65毫米、70毫米、75毫米、80毫米、95毫米、100毫米、115毫米、 120毫米、125毫米、130毫米、135毫米、140毫米、145毫米、150毫米、155毫米、 160毫米、165毫米、170毫米、175毫米、180毫米、185毫米、190毫米、195毫米、 200毫米、205毫米、210毫米、215毫米、220毫米、225毫米、230毫米、235毫米、 240毫米、245毫米、250毫米、255毫米、260毫米、265毫米、270毫米、275毫米、 280毫米、295毫米、300毫米、315毫米、320毫米、325毫米、330毫米、335毫米、 340毫米、345毫米、350毫米、355毫米、360毫米、365毫米、370毫米、375毫米、 380毫米、385毫米、390毫米、395毫米、400毫米、405毫米、410毫米、415毫米、 420毫米、425毫米、430毫米、435毫米、440毫米、445毫米、450毫米、455毫米、 460毫米、465毫米、470毫米、475毫米、480毫米、495毫米、500毫米，永磁棱柱 的长度C，在0.2—1倍的N*A的数值间；平板式永磁磁源由两块、三块、四块、五块、六块、M块基本平板拼装形成一个 平板；基本平板固定在底座内，在垂直底座的位置上接有水平旋转装置，或是基本平板放 置在旋转平台上。本专利技术的优点是由于本专利技术所述的平板式永磁磁源，是由多条横断面为矩形的永 磁棱柱并排拼装而成的一个平板结构，而且，只在平板正面前方产生磁场，反面前方磁 场很弱，所以，非常适于用在磁座垫、磁坐椅、磁床垫、临床用磁疗床等需要扁平形磁 源的结构体中，在需要产生同样工作磁场(场区范围，其中的场强均相同)的情况下， 与已有的圆柱，或是立方体磁源相比，具有磁源利用率高，用料少，体积小，工艺简单， 成本低的优点；以上优点之所以能够实现，首先是本专利技术所述的平板式永磁磁源系由多条横断面为 矩形的永磁棱柱并排拼装而成，因此，保证了所述磁源形状为一块平板，其次，其多条 永磁棱柱各条的磁化方向矢量都处在各条永磁棱柱的横断面内，且一排永磁棱柱的磁化方向矢量从左边向右，依次逆时针旋转一个角度，由此确保了平板式永磁磁源正面前方 是强磁场，反面前方是弱磁场；再其次，棱柱的根数、各棱柱的磁化方向、各棱柱截面 积大小、各棱柱的长短，都可优化调整，保证永磁材料有高利用率；由于本专利技术所述平板式永磁磁源可以是由多块基本平板拼装而成，每块基本平板又 可以是由条数不等、尺寸不同的永磁棱柱拼装而成，这样形成的不同磁源能够安装到不 同设备上，不同设备对场区大小、场区强弱要求不同，由基本平板拼装的平板磁源能够 满足不同要求，能够在设备靶区内产生所需要强度的磁场。 附图说明图1是本专利技术所述的平板式永磁磁源中的基本平板结构示意图； 图2是本专利技术所述的平板式永磁磁源(多块拼装的较大面积磁源)示意图； 图3是本专利技术所述的平板式永磁磁源中基本平板的一条永磁棱柱结构示意图。 具体实施例方式下面通过附图结合实施例，对本专利技术所述结构做进一步详细说明 实施例1:一种产生单侧磁场的平板式永磁磁源，如图1、 2、 3所示，它是由截面为矩形(含 正方形)的N条永磁棱柱1拼装而成的一个薄正方形或矩形磁板，即基本平板2;各永磁棱柱1可以是通过厌氧胶粘接成一体，形成基本平板2，置于底座3中固定； 所述基本平板2可以按照磁座垫、磁坐椅、磁床垫、临床用磁疗床等设备对向病人 曝磁区域大小的具体要求作四方连续(含二方连续)式拼装，形成面积大小不同的平板 形永磁磁源(以下称为平板磁源)，如图2所示，此平板磁源便在其正面的前方，营造出一层有效厚度足够厚，笼罩面积也足够大的磁场，此磁场即为对病人实施磁康复或磁 治疗所需要的磁场，所述平板磁源的背面前方磁场则很弱。由于有限的永磁材料有重点 地在平板磁源正前方营造磁场，而不是如已有技术那样使磁场四周弥漫，因而永磁材料的利用率高；如果使所述平板磁源绕垂直于其背面并位于背面面积中心的轴旋转时，平 板磁源前方的磁场中的每一点处的磁场便随时间变化，这样，便形成旋磁装置。 具体可以是如图3所示，永磁棱柱1截面积为A*B,永磁棱柱长为C，集成一块基本平板2的 永磁棱柱数目N可以是5、或7、或9等奇数条，集成后的磁板厚为B,宽为N*A，长 则为C;永磁棱柱1均由永磁材料制成，永磁棱柱1的磁化方向矢量按规定都处在永磁棱柱 1的横断面内，所述矢量与基本平板的宽度方向所成的夹角各永磁棱柱均不相同；基本平板2中的永磁棱柱1从左边排头向右边，各永磁棱柱的磁化方向矢量，依次 逆时针旋转一个角度；如基本平板2水平放置，正面朝上，所含永磁棱柱1从左边排向右边，则各永磁 棱柱l的磁化方向矢量，依次逆时针旋转30 50度，可以是旋转30度、或本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种产生单侧磁场的平板式永磁磁源，其特征是：它是由Ｎ条永磁棱柱（１）拼装而成的一个基本平板（２），基本平板（２）的一面上部区域是强磁场（３），基本平板（２）的另一面上部区域是弱磁场（４）。
【技术特征摘要】
1、一种产生单侧磁场的平板式永磁磁源，其特征是它是由N条永磁棱柱(1)拼装而成的一个基本平板(2)，基本平板(2)的一面上部区域是强磁场(3)，基本平板(2)的另一面上部区域是弱磁场(4)。2、 如权利要求1所述的一种产生单侧磁场的平板式永磁磁源，其特征是永磁棱柱(1)是奇数条，可以是五条、七条、九条永磁棱柱。3、 如权利要求1或2所述的一种产生单侧磁场的平板式永磁磁源，其特征是永磁棱柱(1)的磁化方向矢量都处在永磁棱柱(1)的横断面内。4、 如权利要求3所述的一种产生单侧磁场的平板式永磁磁源，其特征是基本平板(2)中的永磁棱柱(1)从左边排向右边，各永磁棱柱(1)的磁化方向矢量从左边向右，依次逆时针旋转一个角度。5、 如权利要求4所述的一种产生单侧磁场的平板式永磁磁源，其特征是基本平板(2)上的永磁棱柱(1)从左边排向右边，各永磁棱柱(1)的磁化方 向矢量，依次逆时针旋转30 50度。6、 如权利要求5所述的一种产生单侧磁场的平板式永磁磁源，其特征是基本平板(2)中的永磁棱柱根数为9，起始永磁棱柱(1)的磁化方向与最末一 根的磁化方向取为水平方向，从左指向右方；基本平板(2)中的永磁棱柱(1) 根数为7，起始永磁磁柱(1)的磁化方向取为45度，最末一根的磁化方向取为 -45度，从左指向右方；基本平板(2)中的永磁棱柱(1)根数为5，起始永磁 磁柱(1)的磁化方向取为90，最末一根的磁化方向取为-90度。7、 如权利要求1或2或3或4或5或6所述的一种产生单侧磁场的平板式 永磁磁源，其特征是永磁棱柱(1)的横断面是矩形或正方形，N条永磁棱柱(1)拼装而成基本平板(2)，永磁棱柱(1)的横断面矩形的宽度A在5毫米 至500毫米之间，永磁棱柱(1)的横断面矩形的厚度在5毫米至500毫米之间， 永磁棱柱(1)的长度C，在0.2—1倍的WA的数值间。8、 如权利要求7所述的一种产生单侧...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡振华，
申请(专利权)人：北京玛格涅磁应用技术有限责任公司，胡振华，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]
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