一种抛光垫自修整抛光装置及其使用方法制造方法及图纸

技术编号:31086224 阅读:23 留言:0更新日期:2021-12-01 12:39
本发明专利技术属于精密加工技术领域,具体的说是一种抛光垫自修整抛光装置及其使用方法,包括壳体、修整模块、抛光模块、抛光盘、传动轴、驱动模块、抛光垫和控制器,所述壳体水平放置;所述修整模块安装在壳体的上方的右端;所述抛光模块位于壳体上方的左端;所述抛光盘位于壳体内腔上部分,抛光盘用于放置抛光垫;所述抛光垫黏贴在抛光盘上方;所述传动轴的上端与抛光盘相连接,传动轴的下端与驱动模块相连;所述驱动模块用于驱动抛光盘转动;所述控制器用于控制各模块的工作,本本发明专利技术通过修整模块、抛光盘、抛光模块和传动轴的相互配合工作能够实现对工件进行高平面度的抛光,并有效的改善抛光后工件的表面质量,进而实现工件的高效精密加工。工。工。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光垫自修整抛光装置及其使用方法


[0001]本专利技术属于精密加工
,具体的说是一种抛光垫自修整抛光装置及其使用方法。

技术介绍

[0002]抛光垫自修整主要应用于在抛光过程中,对抛光垫的修整,这样可以去除在抛光过程中生成的抛光杂质,避免抛光杂质堵塞抛光垫的沟槽,而影响整个抛光垫的使用效果。由此可见,如果抛光垫自修整抛光装置能够及时有效的清除抛光过程中产生的杂质,便可有效地保持抛光垫的抛光效果,从而提高抛光垫的使用寿命。
[0003]由上述可知,抛光垫的好坏一定层度上直接影响抛光后工件的表面质量,因而在抛光前对抛光垫进行有效的修整是至关重要的。
[0004]现有技术中,对于亲水性抛光垫的修整大多采用人工修整,这样会存在对抛光垫修整不完全,即抛光垫中的失效磨粒无法有效的被脱落;在人工修整完后,抛光垫的平面度变大,这样使刚修整抛光垫中有效磨粒的凸起高度差别较大,即降低抛光垫抛光质量的稳定性,进而使抛光过程中对工件表面抛光不充分,产生较多划痕,进而降低抛光后工件的表面质量。
[0005]鉴于此,本专利技术所述的一种抛光垫自修整抛光装置,通过修整模块、抛光盘、抛光模块和传动轴的相互配合工作能够实现对抛光垫高效稳定的修整,提高抛光后工件的平面度和表面质量,进而实现工件的高效精密加工。

技术实现思路

[0006]为了弥补现有技术的不足,本专利技术提出了一种抛光垫自修整抛光装置,本专利技术主要用于对抛光垫进行高效稳定的修整,进而实现对工件的高精度和高平面度抛光。本专利技术通过修整模块、抛光盘、抛光模块和传动轴的相互配合工作能够实现对工件进行高平面度的抛光,并有效的改善抛光后工件的表面质量,进而实现工件的高效精密加工。同时本专利技术结构简单,操作方便,便于使用。
[0007]本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:本专利技术所述的一种抛光垫自修整抛光装置,包括壳体、修整模块、抛光模块、抛光盘、传动轴、驱动模块、抛光垫和控制器,所述壳体水平放置,壳体用于支撑各个模块;所述修整模块安装在壳体的上方的右端,修整模块用于对抛光盘上的抛光垫进行修整;所述抛光模块位于壳体上方的左端,抛光模块用于对工件进行抛光;所述抛光盘位于壳体内腔上部分,抛光盘用于放置抛光垫;所述抛光垫黏贴在抛光盘上方,抛光垫用于对工件的抛光;所述传动轴的上端与抛光盘相连接,传动轴的下端与驱动模块相连,传动轴用于带动抛光盘转动;所述驱动模块用于驱动抛光盘转动;所述控制器用于控制各模块的工作。
[0008]所述修整模块包括电机、连接座、丝杠、保持架、固定座、液压缸和修整单元,所述固定座安放在壳体上方的右端,固定座的上端与连接座的下端相连;所述连接座设有内腔,
丝杠位于内腔内,丝杠的上端与电机相连,丝杠的下端与固定座相连;所述液压缸的数量为2,两个液压缸的上端与连接座的左端相连,液压缸的下端与修整模块相接触;所述保持架的左端通过螺纹与丝杠相连,且保持架可在连接座上上下移动,保持架的左端设有圆形通孔,修整单元放置圆形通孔内,修整单元的上端与液压缸的下端相连,修整单元的下端与抛光垫紧密接触;所述修整单元包括刚性层、柔性层、作用层和修整层,所述刚性层位于最上端,刚性层的上端与液压缸的下端相接触,刚性层的下端与柔性层相连,刚性层用于连接其他模块和和柔性层;所述作用层的上端与柔性层的左端相连,作用层的下端与抛光垫相接触,作用层用于减弱抛光垫中磨粒的把吃力;所述柔性层设有矩形凹槽;所述修整层的上端与柔性层相连,修整层位于作用层的左侧,且修整层的左侧与作用层的右侧相连接,修整层用于对抛光垫的修整;所述修整层包括基体、可溶性物质和v形通孔,所述基体和可溶性物质混合凝固成半圆形固体,多个v形通孔以半圆形固体圆心为基点均匀向外沿圆周分布,v形通孔的上端与柔性层的矩形凹槽相连通;述两个液压缸之间通过一号液压阀进行串接,液压缸通过二号液压阀与油箱相连;所述连接座的左前端设有超声传感器,超声传感器用于检测抛光垫表面的平面度。
[0009]本专利技术的有益效果是:1.本专利技术所述的一种抛光垫自修整抛光装置,本专利技术通过修整模块、抛光模块、抛光盘和传动轴的相互配合工作能够实现对工件进行高平面度的抛光,并有效的改善抛光后工件的表面质量,进而实现工件的高效精密加工。
[0010]2.本专利技术所述的一种抛光垫自修整抛光装置,所述修整模块包括电机、连接座、丝杠、保持架、固定座、液压缸和修整单元,通过串联的液压缸使修整单元与抛光垫之间保持稳定的挤压作用以及保持架对修整单元的限位作用使抛光垫有效、稳定的进行修整,从而提高了抛光垫修整的稳定性和高效性。
[0011]3.本专利技术所述的一种抛光垫自修整抛光装置,所述修整单元包括刚性层、柔性层、作用层和修整层;由于修整层、作用层与柔性层相连,避免了在修整过程中出现因修整层、作用层与抛光垫之间压力过大而出现磨粒崩碎的现象,提高修整的稳定性;同时在对抛光垫的修整过程中,作用层先减弱抛光垫中磨粒的被把持力,再利用可溶性物质的溶解性在修整层留下的凹坑对失效磨粒进行脱落处理,随后在通过修整层中v形通孔对凸起高度较大的磨粒进行进一步脱落作用,这样避免因抛光垫刚修整后磨粒凸起的高度分布不均匀造成工件抛光不充分,产生较多划痕和抛光后表面粗糙度较大的现象,同时这样不仅有效的对抛光垫进行修整,也提高了修整后抛光垫的平面度,从而提高抛光后工件表面粗糙度和平面度。
附图说明
[0012]下面结合附图对本专利技术作进一步说明。
[0013]图1是本专利技术的结构示意图;图2是修整模块的结构示意图;图3是修整单元的结构示意图;图4是柔性层与修整层的连接示意图;图5是v形通孔在修整层上的分布示意图;
图6是液压缸工作原理示意视图。
[0014]图中:壳体

1、修整模块

2、抛光模块

3、抛光盘

4、传动轴

5、驱动模块

6、抛光垫

7、电机

21、连接座

22、丝杠

23、保持架

24、固定座

25、液压缸

26、修整单元

27、刚性层

271、柔性层

272、作用层

273、修整层

274、基体

276、可溶性物质

275、v形通孔

277、一号液压阀

261、二号液压阀

262、油箱

263。
具体实施方式
[0015]为了使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本专利技术。
[0016]如图1至图6所示,本专利技术所述的一种抛光垫自修整抛光装置,包括壳体1、修整模块2、抛光模块3、抛光盘4、传动轴5、驱本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光垫自修整抛光装置,其特征在于:包括壳体(1)、修整模块(2)、抛光模块(3)、抛光盘(4)、传动轴(5)、驱动模块(6)、抛光垫(7)和控制器,所述壳体(1)水平放置,壳体(1)用于支撑各个模块;所述修整模块(2)安装在壳体(1)的上方的右端,修整模块(2)用于对抛光盘(4)上的抛光垫(7)进行修整;所述抛光模块(3)位于壳体(1)上方的左端,抛光模块(3)用于对工件进行抛光;所述抛光盘(4)位于壳体(1)内腔上部分,抛光盘(4)用于放置抛光垫(7);所述抛光垫(7)黏贴在抛光盘(4)上方,抛光垫(7)用于对工件的抛光;所述传动轴(5)的上端与抛光盘(4)相连接,传动轴(5)的下端与驱动模块(6)相连,传动轴(5)用于带动抛光盘(4)转动;所述驱动模块(6)用于驱动抛光盘(4)转动;所述控制器用于控制各模块的工作;其中,所述修整模块包括电机(21)、连接座(22)、丝杠(23)、保持架(24)、固定座(25)、液压缸(26)和修整单元(27),所述固定座(25)安放在壳体(1)上方的右端,固定座(25)的上端与连接座(22)的下端相连;所述连接座(22)设有内腔,丝杠(23)位于内腔内,丝杠(23)的上端与电机(21)相连,丝杠(23)的下端与固定座(25)相连;所述液压缸(26)的数量为2,两个液压缸(26)的上端与连接座(22)的左端相连,液压缸(26)的下端与修整模块(27)相接触;所述保持架(24)的右端通过螺纹与丝杠(23)相连,且保持架(24)可在连接座(22)上上下移动,保持架(24)的左端设有圆形通孔,修整单元(27)放置圆形通孔内,修整单元(27)的上端与液压缸(26)的下端相连,修整单元(27)的下端与抛光垫(7)紧密接触。2.根据权利要求1所述的一种抛光垫自修整抛光装置,其特征在于:所述修整单元包括刚性层(271)、柔性层(272)、作用层(273)和修整层(274),所述刚性层(271)位于最上端,刚性层(271)的上端与液压缸(26)的下端相接触,刚性层(271)的下端与柔性层(272)相连;所述作用层(273)的上端与柔性层(272)的左端相连,作用层(273)的下端与抛光垫(7)相接触,作用层(273)用于减弱抛光垫(7)中磨粒的把持力;所述柔性层(272)设有矩形凹槽;所述修整层(274)的上端与柔性层(272)相连,修整层(274)位于作用层(273)的右侧,且修整层(274)的左侧与作用层(273)的右侧相连接,修整层(274)用于对抛光垫(7)的修整。3.根据权利要求2所述的一种抛光垫自修整抛光装置,其特征在于:所述修整层(274)包括基体(276)、可溶性物质(275)和v形通孔(277),所述基体(276)和可溶性物质(275)混合凝固成半圆形固体,若干个v形通孔(277)以半圆形固体圆心为基点均匀向外沿圆周分布,v形通孔(277)的上端与柔性层(272)的矩形凹槽相连通。4.根据权利要求1所述的一种抛光垫自修整抛光装置,其特征在于:所述两个液压缸(26)之间通过一号液压阀(261)进行串接,每个液压缸(26)再通过二号液压阀(262)与油箱(263)相连。5.根据权利要求1所述的一种抛光垫自修整抛光装置,其特征在于:所述连接座(22)的左前端设有超声传感器,超声传感器用于检测抛光垫(7)表面的平面度。6.抛光垫自修整抛光装置的使用方法,其特征在于,包括如下步骤:S1:将抛光垫(7)黏贴在抛光盘(4)上,随后通过电机(2...

【专利技术属性】
技术研发人员:牛瑞坤王欢涛吴钟鸣
申请(专利权)人:金陵科技学院
类型:发明
国别省市:

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