【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】表面处理剂
[0001]本专利技术涉及表面处理剂。
技术介绍
[0002]已知某些种类的含氟硅烷化合物用于基材的表面处理时，能够提供优异的拨水性、拨油性、防污性等。由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂得到的层(以下也称为“表面处理层”)作为所谓的功能性薄膜被施用于例如玻璃、塑料、纤维、建筑材料等各种各样的基材。
[0003]作为这样的含氟化合物，已知分子主链具有全氟聚醚基、分子末端或末端部具有与Si原子键合的能够水解的基团的含全氟聚醚基的硅烷化合物(专利文献1和2)。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2014－218639号公报
[0007]专利文献2：日本特开2017－082194号公报
技术实现思路
[0008]专利技术要解决的技术问题
[0009]由含有含全氟聚醚基的硅烷化合物的表面处理剂得到的层即使为薄膜也能够发挥拨水性、拨油性、防污性等功能，适合用于需求透光性和透明性的眼镜或触摸面板等光学部件。特别是在这些用途中为了即使受到反复摩擦也能够维持该功能，需求摩擦耐久性。
[0010]本专利技术的目的在于提供一种能够形成具有高摩擦耐久性的层的含有含氟代(聚)醚基的硅烷化合物的表面处理剂。
[0011]用于解决技术问题的技术手段
[0012]本专利技术包括以下方式。
[0013][1]一种表面处理剂，其包含以下式(1)或(2)所示的至少1种的含氟代聚醚基的化合物和氯离子，该表面
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种表面处理剂，其特征在于：包含以下式(1)或(2)所示的至少1种的含氟代聚醚基的化合物和氯离子，该表面处理剂中的氯离子浓度为0.1质量ppm以上1.0质量ppm以下，R
F1α
‑
X
A
‑
R
Siβ
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)R
Siγ
‑
X
A
‑
R
F2
‑
X
A
‑
R
Siγ
ꢀꢀꢀꢀ
(2)式中：R
F1
在每次出现时分别独立地为Rf1‑
R
F
‑
O
q
‑
；R
F2
为
‑
Rf
2p
‑
R
F
‑
O
q
‑
；Rf1在每次出现时分别独立地为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1‑
16
烷基；Rf2为可以被1个或1个以上的氟原子取代的C1‑6亚烷基；R
F
在每次出现时分别独立地为2价的氟代聚醚基；p为0或1；q在每次出现时分别独立地为0或1；R
Si
在每次出现时分别独立地为包含键合有羟基、能够水解的基团、氢原子或1价有机基团的Si原子的1价基团；至少1个R
Si
为包含键合有羟基或能够水解的基团的Si原子的1价基团；X
A
分别独立地为单键或2～10价的有机基团；α为1～9的整数；β为1～9的整数；γ分别独立地为1～9的整数。2.如权利要求1所述的表面处理剂，其特征在于：Rf1在每次出现时分别独立地为C1‑
16
全氟烷基。3.如权利要求1或2所述的表面处理剂，其特征在于：Rf2在每次出现时分别独立地为C1‑6全氟亚烷基。4.如权利要求1～3中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：R
F
在每次出现时分别独立地为式：－(OC6F
12
)
a
－(OC5F
10
)
b
－(OC4F8)
c
－(OC3R
Fa6
)
d
－(OC2F4)
e
－(OCF2)
f
－所示的基团，式中，R
Fa
在每次出现时分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子，a、b、c、d、e和f分别独立地为0～200的整数，a、b、c、d、e和f之和为1以上，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。5.如权利要求4所述的表面处理剂，其特征在于：R
Fa
为氟原子。6.如权利要求1～5中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：R
F
在每次出现时分别独立地为以下式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)或(f5)所示的基团，－(OC3F6)
d
－
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(f1)式(f1)中，d为1～200的整数，－(OC4F8)
c
－(OC3F6)
d
－(OC2F4)
e
－(OCF2)
f
－
ꢀꢀ
(f2)式(f2)中，c和d分别独立地为0～30的整数；e和f分别独立地为1～200的整数；
c、d、e和f之和为10～200的整数；标注角标c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，－(R6－R7)
g
－
ꢀꢀꢀꢀ
(f3)式(f3)中，R6为OCF2或OC2F4；R7为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F
10
和OC6F
12
中的基团，或者为从这些基团选择的2个或3个基团的组合；g为2～100的整数，－(OC6F
12
)
a
－(OC5F
10
)
b
－(OC4F8)
c
－(OC3F6)
d
－(OC2F4)
e
‑
(OCF2)
f
‑ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(f4)式(f4)中，e为1以上200以下的整数，a、b、c、d和f分别独立地为0以上200以下的整数，a、b、c、d、e和f之和至少为1，并且，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的，
‑
(OC6F
12
)
a
‑
(OC5F
10
)
b
‑
(OC4F8)
c
‑
(OC3F6)
d
‑
(OC2F4)
e
‑
(OCF2)
f
‑ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(f5)式(f5)中，f为1以上200以下的整数，a、b、c、d和e分别独立地为0以上200以下的整数，a、b、c、d、e和f之和至少为1，并且，标注a、b、c、d、e或f并用括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。7.如权利要求1～6中任一项所述的表面处理剂，其特征在于：R
si
为以下式(S1)、(S2)、(S3)或(S4)所示的基团，
‑
SiR
11n1
R
123
‑
n1
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(S2)
‑
SiRa
1k1
R
b111
R
c1m1
ꢀꢀꢀꢀ
(S3)
‑
CR
d1k2
Re
112
R
f1m2
ꢀꢀꢀꢀꢀ
(S4)式中：R
11
在每次出现时分别独立地为羟基或能够水解的...
【专利技术属性】
技术研发人员：丸桥和希，小泽香织，三桥尚志，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：
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