基材镀膜系统技术方案

本申请公开了一种基材镀膜系统，包括供气机构、反应炉以及抽气机构，所述反应炉包括第一炉体，以及位于所述第一炉体内的第二炉体，所述第一炉体与所述第二炉体之间为中间腔，所述第一炉体开设有排气口，所述第二炉体具有进气口与出气口；所述供气机构通过工艺气路与所述进气口相连通；所述抽气机构通过抽气管与所述排气口相连通，所述第二炉体连接有出气管，所述出气管的一端与所述出气口相连通，另一端穿过排气口并延伸至所述抽气管，且所述出气管与所述抽气管之间呈间隙配合，该间隙开放于所述中间腔，该方案相对于现有技术，抽气机构将第二炉体内的工艺气体抽出时，能够避免工艺气体对中间腔污染。体对中间腔污染。体对中间腔污染。

【技术实现步骤摘要】
基材镀膜系统


[0001]本申请涉及镀膜设备领域，特别是涉及一种基材镀膜系统。

技术介绍

[0002]镀膜系统包括供气机构、反应炉以及抽气机构，其中反应炉包括第一炉体，以及位于第一炉体内的第二炉体。基材在镀膜时，将基材放置在第二炉体内，通过抽气机构对第一炉体与第二炉体之间的空间进行抽气，同时将第一炉体加热到设定的温度，供气机构将工艺气体输送至第二炉体内，在基材镀膜结束后，需要将第二炉体内的工艺气体完全排出，等冷却下来停泵开腔体取出产品。
[0003]上述镀膜系统中，需要独立的抽气机构分别对第一炉体与第二炉体进行抽气，造成镀膜系统结构复杂，增加制造成本。

技术实现思路

[0004]本申请提供的一种基材镀膜系统，用于解决现有技术中需要独立的抽气机构需要分别对第一炉体与第二炉体进行抽气，造成镀膜系统结构复杂，增加制造成本的技术问题。
[0005]本申请提供一种基材镀膜系统，包括供气机构、反应炉以及抽气机构；
[0006]所述反应炉包括第一炉体，以及位于所述第一炉体内的第二炉体，所述第一炉体与所述第二炉体之间为中间腔，所述第一炉体开设有排气口，所述第二炉体具有进气口与出气口；
[0007]所述供气机构通过工艺气路与所述进气口相连通；
[0008]所述抽气机构通过抽气管与所述排气口相连通，所述第二炉体连接有出气管，所述出气管的一端与所述出气口相连通，另一端穿过排气口并延伸至所述抽气管，且所述出气管与所述抽气管之间呈间隙配合，该间隙开放于所述中间腔。
[0009]以下还提供了若干可选方式，但并不作为对上述总体方案的额外限定，仅仅是进一步的增补或优选，在没有技术或逻辑矛盾的前提下，各可选方式可单独针对上述总体方案进行组合，还可以是多个可选方式之间进行组合。
[0010]可选的，所述供气机构包括原料罐，以及与所述原料罐通过管路相连通的混合装置，所述工艺气路的一端与所述混合装置相连通，另一端穿设过所述第二炉体与所述进气口相连通。
[0011]可选的，所述混合装置包括第一混合仓以及与所述第一混合仓相连通的第二混合仓，所述第一混合仓与所述原料罐相连通，所述第二混合仓与所述工艺气路相连通；
[0012]所述第二混合仓设置有用于调节所述第二混合仓温度的控温装置。
[0013]可选的，所述出气管与所述第一炉体之间设置有保持架，所述保持架用与保持所述出气管与所述抽气管之间的相对位置。
[0014]可选的，所述保持架包括：
[0015]安装于所述第一炉体内壁并围设所述排气口的安装环；
[0016]连接于所述出气管的外壁周向与所述安装环之间的多根固定条。
[0017]可选的，所述抽气机构包括：
[0018]冷却罐，所述冷却罐通过所述抽气管与所述排气口相连通；
[0019]过滤罐，所述过滤罐通过管路与所述冷却罐相连通；
[0020]通过工艺抽气支路与所述过滤罐相连通的泵组。
[0021]可选的，所述抽气管的外侧设置有加热层。
[0022]可选的，所述工艺抽气支路包括主支路以及副支路，所述主支路与所述副支路分别与所述泵组以及所述过滤罐相连通；
[0023]所述主支路和/或所述副支路设置有阀门。
[0024]可选的，所述副支路的两端分别与主支路相连通；
[0025]设置于所述主支路上的阀门，位于所述副支路与所述主支路的两个连接处之间。
[0026]可选的，所述反应炉还包括：
[0027]设置于所述中间腔内的调温装置；
[0028]设置于所述第二炉体内并用于承托基材的置物台；
[0029]与所述置物台连接并用于驱动置物台升降和旋转的驱动装置。
[0030]本申请的一种基材镀膜系统，抽气机构能够同时抽取第一炉体以及第二炉体内的气体，以简化镀膜系统的结构。同时，在将第二炉体内的工艺气体抽出时，能够避免工艺气体对中间腔污染。
附图说明
[0031]图1为本申请提供的一实施例的基材镀膜系统的结构示意图；
[0032]图2为本申请提供的一实施例的基材镀膜系统的结构示意图；
[0033]图3为图1中的供气机构的结构示意图；
[0034]图4为图1中的抽气机构的结构示意图；
[0035]图5为图1中的反应炉的结构示意图；
[0036]图6为图5中反应炉省略第一盖板的结构示意图；
[0037]图7为图5中反应炉省略第一盖板的结构示意图；
[0038]图8为图6中反应炉省略第二盖板的结构示意图；
[0039]图9为图8中反应炉省略分气盘的结构示意图；
[0040]图10为图9中A部放大的结构示意图；
[0041]图11为图9中驱动装置的结构示意图。
[0042]图中附图标记说明如下：
[0043]100、基材镀膜系统；
[0044]10、反应炉；11、第一炉体；111、第一筒体；112、第一盖板；113、排气口；114、导轨；115、竖轴；116、卡扣；12、第二炉体；122、出气口；123、第二筒体；124、第二盖板；125、分气盘；126、出气管；127、保持架；1271、安装环；1272、固定条；128、滑轮；15、置物台；16、驱动装置；161、第一电机；162、转筒；163、第二电机；164、推杆；165、底盘；166、导向杆；167、辐条；168、齿轮组；1681、轮架；1682、主动齿轮；1683、从动齿轮；
[0045]20、供气机构；21、工艺气路；22、原料罐；23、混合装置；231、第一混合仓；232、第二
混合仓；
[0046]30、抽气机构；31、抽气管；32、冷却罐；33、过滤罐；34、工艺抽气支路；341、主支路；342、副支路；343、阀门；35、泵组。
具体实施方式
[0047]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0048]需要说明的是，当组件被称为与另一个组件“连接”时，它可以直接与另一个组件连接或者也可以存在居中的组件。当一个组件被认为是“设置于”另一个组件，它可以是直接设置在另一个组件上或者可能同时存在居中组件。
[0049]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是在于限制本申请。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0050]其中一实施例中，如图1至图11所示，本申请提供一种基材镀膜系统100，应用于在石墨基材上面沉积碳化硅薄膜，基材镀膜系统100包括供气机构20、反本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.基材镀膜系统，包括供气机构、反应炉以及抽气机构，其特征在于，所述反应炉包括第一炉体，以及位于所述第一炉体内的第二炉体，所述第一炉体与所述第二炉体之间为中间腔，所述第一炉体开设有排气口，所述第二炉体具有进气口与出气口；所述供气机构通过工艺气路与所述进气口相连通；所述抽气机构通过抽气管与所述排气口相连通，所述第二炉体连接有出气管，所述出气管的一端与所述出气口相连通，另一端穿过排气口并延伸至所述抽气管，且所述出气管与所述抽气管之间呈间隙配合，该间隙开放于所述中间腔。2.根据权利要求1所述的基材镀膜系统，其特征在于，所述供气机构包括原料罐，以及与所述原料罐通过管路相连通的混合装置，所述工艺气路的一端与所述混合装置相连通，另一端穿设过所述第二炉体与所述进气口相连通。3.根据权利要求2所述的基材镀膜系统，其特征在于，所述混合装置包括第一混合仓以及与所述第一混合仓相连通的第二混合仓，所述第一混合仓与所述原料罐相连通，所述第二混合仓与所述工艺气路相连通；所述第二混合仓设置有用于调节所述第二混合仓温度的控温装置。4.根据权利要求1所述的基材镀膜系统，其特征在于，所述出气管与所述第一炉体之间设置有保持架，所述保持架用与保持所述出气管与所...

【专利技术属性】
技术研发人员：来华杭，俞峰，鲁天豪，娄国明，周海龙，
申请(专利权)人：浙江上方电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：