本实用新型专利技术涉及晶体炉技术领域,公开了一种基于晶体炉的托盘升降机构,包括设在炉体内的托盘,托盘的底部固定有主轴,炉体的底面设有通孔,主轴穿过通孔伸出炉体外,主轴的外侧位于炉体底面的下侧设有导向套,导向套的上端设有法兰,法兰与炉体的底面固定连接,法兰的上端面与炉体的底面之间设有端面密封圈,炉体的底面下侧固定有升降组件,升降组件上设有升降座,升降座上固定有与主轴连接的连接座,通孔的上端固定有防尘挡圈,防尘挡圈套设在主轴上,防尘挡圈与主轴之间设有密封环,导向套与主轴之间设有滑套。本实用新型专利技术能够自动调节托盘的高度以满足不同的工艺对温场的位置需求,调节方便,有效提高晶体炉的使用性能。有效提高晶体炉的使用性能。有效提高晶体炉的使用性能。
【技术实现步骤摘要】
一种基于晶体炉的托盘升降机构
[0001]本技术涉及晶体炉
,尤其涉及一种基于晶体炉的托盘升降机构。
技术介绍
[0002]晶体炉是生产单晶硅、多晶硅、碳化硅的的制造设备。主要由炉体、加热器、计算机控制系统、设备框架、真空抽气系统等部分组成。晶体炉的底部设有托盘,坩埚放置在托盘上,炉体内位于坩埚的周围固定有环形加热器,由于加热器是固定不可移动的,而坩埚的型号有很多种,不同型号的坩埚对于温场(加热器的加热区域)的位置需求不同,坩埚内不同物料的工艺不同也会温场的位置需求不同,目前炉体内的托盘的高度无法调节,无法匹配最佳工艺需求。
技术实现思路
[0003]本技术为了解决现有技术中的晶体炉内的托盘高度无法调节、难以匹配最优工艺的问题,提供了一种基于晶体炉的托盘升降机构,该机构能够自动的调节托盘的高度以满足工艺所需要的最佳温场,调节非常方便,而且密封性能好。
[0004]为了实现上述目的,本技术采用如下技术方案:
[0005]一种基于晶体炉的托盘升降机构,包括设在炉体内的托盘,所述托盘的底部固定有主轴,所述炉体的底面设有通孔,所述主轴穿过通孔伸出炉体外,所述主轴的外侧位于炉体底面的下侧设有导向套,所述导向套的上端设有法兰,所述法兰与炉体的底面固定连接,法兰的上端面与炉体的底面之间设有端面密封圈,所述炉体的底面下侧固定有升降组件,所述升降组件上设有升降座,所述升降座上固定有与主轴连接的连接座,所述通孔的上端固定有防尘挡圈,所述的防尘挡圈套设在主轴上,所述防尘挡圈与主轴之间设有密封环,所述导向套与主轴之间设有滑套。坩埚放置在托盘上,加热器位于坩埚的外侧,需要调节坩埚在温场内的位置时,通过升降组件带动升降座升降,升降座通过连接座、主轴带动托盘的升降,从而改变坩埚在温场内的高度位置,以满足工艺需求,使用非常方便;而且整体密封性能好,能有效防止炉体内部气体从升降机构处泄漏,也能防止外部气体从升降机构处进入炉体内。
[0006]作为优选,所述升降组件包括升降支架、固定在升降支架侧面的丝杆组件,所述丝杆组件的下端设有电机,所述丝杆组件上设有滑块,所述升降座固定在滑块上。电机带动丝杆组件内的丝杆转动,滑块随着丝杆的转动上下升降。
[0007]作为优选,所述连接座的上端与主轴的下端之间设有浮动球头,所述浮动球头的下端与连接座固定连接,浮动球头的上端与主轴固定连接。浮动球头可消除升降过程中因零部件加工精度、装配误差等造成的卡滞现象,确保主轴能够稳定升降。
[0008]作为优选,所述导向套的下端与连接座的上端之间设有真空波纹管,所述导向套的下端设有下卡接凸环,所述连接座的上端设有上卡接凸环,所述真空波纹管的两端均设有卡接头,所述下卡接凸环与卡接头之间通过卡箍连接,上卡接凸环与卡接头之间通过卡
箍连接。真空波纹管对主轴起到保护作用,主轴升降过程中,真空波纹管能压缩或延伸以适应形变,同时能进一步增加整体密封性能。
[0009]作为优选,所述上卡接凸环与卡接头之间设有骨架密封圈,所述下卡接凸环与卡接头之间也设有骨架密封圈。
[0010]因此,本技术能够自动调节托盘的高度以满足不同的工艺对温场的位置需求,调节方便,有效提高晶体炉的使用性能。
附图说明
[0011]图1为本技术的一种结构示意图。
[0012]图2为托盘、主轴、连接座的连接示意图。
[0013]图中:炉体1、托盘2、主轴3、导向套4、法兰40、端面密封圈41、卡接凸环42、升降组件5、升降支架50、丝杆组件51、电机52、滑块53、升降座54、连接座6、上卡接凸环60、防尘挡圈7、密封环70、滑套8、浮动球头9、真空波纹管10、卡接头100、卡箍11、骨架密封圈12、加热器13。
具体实施方式
[0014]下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步描述:
[0015]如图1和图2所示的一种基于晶体炉的托盘升降机构,包括设在炉体1内的托盘2,托盘2的底部固定有主轴3,炉体1的底面设有通孔,主轴3穿过通孔伸出炉体1外,主轴3的外侧位于炉体底面的下侧设有导向套4,导向套4的上端设有法兰40,法兰与炉体的底面固定连接,法兰的上端面与炉体的底面之间设有端面密封圈41,炉体的底面下侧固定有升降组件5,升降组件5包括升降支架50、固定在升降支架侧面的丝杆组件51,丝杆组件的下端设有电机52,丝杆组件上设有滑块53,固定在滑块上固定有升降座54,升降座54上固定有与主轴连接的连接座6,通孔的上端固定有防尘挡圈7,防尘挡圈7套设在主轴3上,防尘挡圈7与主轴之间设有密封环70,导向套4与主轴3之间设有滑套8;连接座6的上端与主轴的下端之间设有浮动球头9,浮动球头9的下端与连接座6固定连接,浮动球头9的上端与主轴3固定连接。
[0016]导向套4的下端与连接座的上端之间设有真空波纹管10,导向套4的下端设有下卡接凸环42,连接座6的上端设有上卡接凸环60,真空波纹管10的两端均设有卡接头100,下卡接凸环与卡接头之间通过卡箍11连接,上卡接凸环与卡接头之间通过卡箍11连接;上卡接凸环60与卡接头100之间设有骨架密封圈12,下卡接凸环42与卡接头100之间也设有骨架密封圈12。
[0017]结合附图,本技术的原理如下:坩埚放置在托盘上,加热器13位于坩埚的外侧,需要调节坩埚在温场内的位置时,通过升降组件带动升降座升降,升降座通过连接座、主轴带动托盘的升降,从而改变坩埚在温场内的高度位置,以满足工艺需求,使用非常方便;而且整体密封性能好,能有效防止炉体内部气体从升降机构处泄漏,也能防止外部气体从升降机构处进入炉体内。
[0018]以上仅为本技术的具体实施例,但本技术的技术特征并不局限于此。任何以本技术为基础,为解决基本相同的技术问题,实现基本相同的技术效果,所作出的
简单变化、等同替换或者修饰等,皆涵盖于本技术的保护范围之中。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基于晶体炉的托盘升降机构,包括设在炉体内的托盘,其特征是,所述托盘的底部固定有主轴,所述炉体的底面设有通孔,所述主轴穿过通孔伸出炉体外,所述主轴的外侧位于炉体底面的下侧设有导向套,所述导向套的上端设有法兰,所述法兰与炉体的底面固定连接,法兰的上端面与炉体的底面之间设有端面密封圈,所述炉体的底面下侧固定有升降组件,所述升降组件上设有升降座,所述升降座上固定有与主轴连接的连接座,所述通孔的上端固定有防尘挡圈,所述的防尘挡圈套设在主轴上,所述防尘挡圈与主轴之间设有密封环,所述导向套与主轴之间设有滑套。2.根据权利要求1所述的一种基于晶体炉的托盘升降机构,其特征是,所述升降组件包括升降支架、固定在升降支架侧面的丝杆组件,所述丝杆组件的下端设有电机,所述丝杆组件...
【专利技术属性】
技术研发人员:郑建生,吴明森,邵治宇,方筱燕,
申请(专利权)人:露笑新能源技术有限公司,
类型:新型
国别省市:
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