【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种铂薄膜电阻温度传感器中的铂薄膜制造方法。线绕铂电阻温度传感器广泛应用于温度测量与控制中,世界年消耗量近千万只。然而,由于铂稀贵,多年来各国纷纷致力于铂薄膜电阻温度传感器的研制,以减少铂的消耗,降低成本。制造铂薄膜温度传感器主要是在陶瓷或其它基片上溅射铂薄膜,然后刻出栅状图形,引出电极,做成电阻器。其关键工艺是在基片上溅射铂膜,并使铂薄膜的电阻温度系数(TCR)达到3.850×10-3Ω/Ω℃,使温度传感器的灵敏度W100达到IEC751标准(1.3850)。为此,各国都为提高铂薄膜电阻温度传感器的质量而作出了很大努力,并公开了各种铂薄膜的制备方法。美国专利US 4072593《电阻温度计的电阻元件生产方法》(PROCESS FOR PRODUCTION OF A RESISTANCE ELEMENT FOR RESISTANCE THERMOMETERS)公开了一种溅射铂膜的方法。其主要特征是,在掺入95-50%(体积)的氪或氙或氪-氙混合气体的氧气氛下,衬底施加负偏压,溅射铂薄膜。溅射的铂薄膜在700℃以上氧气氛下退火。此外,文中还指出,在氩气中溅射的金属薄膜,不会达到相当于固体金属的电阻温度系数。如果薄膜足够厚,薄膜表面对电子的散射对温度系数的贡献可以忽略。而在氩或氩-氧混合气体中在陶瓷衬底上溅射铂薄膜,薄膜与陶瓷衬底的粘附差,不适合工业应用。欧洲专利EP0061887《制造电阻温度计电阻元件的方法》(A METHOD OF PRODUCING A RESISTANCE ELEMENT FOR ARESISTANCE THERM ...
【技术保护点】
一种铂薄膜温度传感器的铂薄膜高频或磁控溅射方法,包括被溅射的抛光陶瓷基片、纯度为99.99%的铂靶以及溅射真空10↑[-2]--10↑[-3]乇,其特征在于:a.溅射气氛为含5~30%体积的氧,其余为氩的氩--氧混合气体;b.溅射后 的铂薄膜在空气中进行控制或阶梯升温处理,并且在温升达1000~1200℃时,保温5~15小时。
【技术特征摘要】
1.一种铂薄膜温度传感器的铂薄膜高频或磁控溅射方法,包括被溅射的抛光陶瓷基片、纯度为99.99%的铂靶以及溅射真空10-2-10-3乇,其特征在于a.溅射气氛为含5~30%体积的氧,其余为氩的氩-氧混合气体;b.溅射后的铂薄膜在空气中进行控制或阶梯升温...
【专利技术属性】
技术研发人员:武蕴忠,李生强,
申请(专利权)人:中国科学院上海冶金研究所,
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]
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