曝光用镜、曝光用镜的制造方法以及具备该曝光用镜的曝光装置制造方法及图纸

技术编号:31013823 阅读:22 留言:0更新日期:2021-11-30 02:17
本发明专利技术提供能够以廉价的结构检测损伤、应变量等的镜的状态的曝光用镜、曝光用镜的制造方法、以及具备该曝光用镜的曝光装置。曝光用镜具备:反射膜,其形成于板状玻璃的表面侧,能够反射来自光源的光;以及导电性的成膜图案,其在板状玻璃的背面侧以比反射膜薄且从一端部到另一端部连续的方式成膜,成膜图案在曝光用镜损伤时断裂从而能够检测曝光用镜的损伤。用镜损伤时断裂从而能够检测曝光用镜的损伤。用镜损伤时断裂从而能够检测曝光用镜的损伤。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】曝光用镜、曝光用镜的制造方法以及具备该曝光用镜的曝光装置


[0001]本专利技术涉及曝光用镜、曝光用镜的制造方法以及具备该曝光用镜的曝光装置,更详细而言,涉及能够检测曝光用镜的损伤、应变量等镜的状态的曝光用镜、曝光用镜的制造方法、以及具备该曝光用镜的曝光装置。

技术介绍

[0002]在接近式曝光装置中,在涂布有感光材料的被曝光基板上,将形成有曝光图案的掩模以数10μm~数100μm的间隙接近配置,经由掩模照射来自光照明装置的曝光光,将曝光图案转印到被曝光基板。
[0003]另外,在专利文献1中提出了如下的接近式曝光方法及其装置:在光路反转镜的背面的多个部位配备能够微小位移的致动器,调整光路反转镜的局部的曲率来进行曝光用照明光的平行度的调整以及掩模的局部的伸缩等的校正。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1:日本特开平7

201711号公报

技术实现思路

[0007]专利技术欲解决的技术问题
[0008]然而,由于光路反转镜是玻璃制的,因此在致动器想要过度地变更光路反转镜的局部的曲率的情况下,有可能在光路反转镜产生裂纹等损伤。在曝光装置中,由于光路反转镜的损伤会对被曝光的产品质量产生影响,因此在万一光路反转镜损伤的情况下,需要立即检测出光路反转镜的损伤。
[0009]作为检测反转镜的破损的方法,可以考虑利用声波根据玻璃的破损声波形进行破损检测的方法、通过直接从玻璃面检测玻璃破损时的振动波形来进行破损检测的方法。然而,在使用玻璃的破损声波形、破损时的振动波形的检测方法中,受到装置自身的动作声音、振动的影响,误检测多,难以进行稳定的破损检测。此外,检测器自身的结构变得复杂且昂贵,存在改善的余地。
[0010]本专利技术是鉴于上述课题而完成的,其目的在于提供一种能够以廉价的结构对损伤、应变量等的镜的状态进行检测的曝光用镜、曝光用镜的制造方法、以及具备该曝光用镜的曝光装置。
[0011]用于解决问题的技术手段
[0012]本专利技术的上述目的通过下述的结构来实现。
[0013](1)一种曝光用镜,用于反射来自光源的光,该曝光用镜具备:
[0014]反射膜,所述反射膜形成于板状玻璃的表面侧,能够反射来自所述光源的光;以及
[0015]导电性的成膜图案,所述导电性的成膜图案以比所述反射膜薄且从一端部到另一
端部连续的方式成膜于所述板状玻璃的背面侧。
[0016](2)根据(1)所述的曝光用镜,其中,
[0017]所述成膜图案在所述曝光用镜损伤时断裂从而能够检测所述曝光用镜的损伤。
[0018](3)根据(1)或(2)所述的曝光用镜,其中,
[0019]所述成膜图案沿着所述板状玻璃的外周部成膜。
[0020](4)根据(1)或(2)所述的曝光用镜,其中,
[0021]所述成膜图案以从所述一端部经过所述板状玻璃的外周部和内部到所述另一端部连续的方式成膜。
[0022](5)根据(1)或(2)所述的曝光用镜,
[0023]所述成膜图案在从所述一端部到所述另一端部之间,并联连接有电阻值各不相同的多个图案。
[0024](6)根据(1)或(2)所述的曝光用镜,
[0025]在应力作用于所述成膜图案时,所述成膜图案的电阻值发生变化,从而能够检测所述曝光用镜的应变量。
[0026](7)根据(1)至(6)中任一项所述的曝光用镜,
[0027]所述反射膜和所述成膜图案由相同的金属材料成膜。
[0028](8)一种曝光用镜的制造方法,该曝光用镜用于反射来自光源的光,该曝光用镜的制造方法具备:
[0029]在板状玻璃的背面侧,对从一端部到另一端部连续的导电性的成膜图案的周围进行遮蔽的工序;以及
[0030]从所述板状玻璃的表面侧蒸镀或溅射金属材料,从而将能够反射来自所述光源的光的反射膜成膜在所述板状玻璃的表面侧且将所述成膜图案成膜在所述板状玻璃的背面侧的工序。
[0031](9)一种曝光装置,
[0032]具备照明装置,所述照明装置具有:光源;积分器,所述积分器使来自该光源的光均匀地射出;以及(1)至(7)中任一项所述的曝光用镜,所述曝光用镜反射从所述积分器出射的所述光,
[0033]将来自该照明装置的光经由掩模而照射在工件上,将所述掩模的曝光图案曝光转印到所述工件。
[0034](10)根据(9)所述的曝光装置,
[0035]所述曝光用镜具备镜弯曲机构,所述镜弯曲机构设置于所述曝光用镜的背面侧且能够变更所述曝光用镜的曲率。
[0036]专利技术效果
[0037]根据本专利技术的曝光用镜,通过检查在板状玻璃的背面侧成膜的成膜图案是否导通,从而能够以廉价的结构可靠地检测曝光用镜的损伤、应变量等镜的状态。
[0038]另外,根据本专利技术的曝光用镜的制造方法,通过蒸镀或溅射金属材料,从而能够同时形成板状玻璃的表面侧的反射膜和板状玻璃的背面侧的成膜图案,能够廉价地制造能够检测该镜的状态的曝光用镜。
[0039]另外,根据本专利技术的曝光装置,能够可靠地检测曝光用镜的损伤、应变量等镜的状
态,能够维持高精度的曝光。
附图说明
[0040]图1是本专利技术的第一实施方式所涉及的接近式曝光装置的主视图。
[0041]图2是表示应用于图1所示的接近式曝光装置的光照射装置的结构的侧视图。
[0042]图3的(a)是图2所示的曝光用镜的后视图,(b)是表示曝光用镜破损的状态的后视图。
[0043]图4的(a)是表示利用溅射来制作曝光用镜的方法的概念图,(b)是其后视图。
[0044]图5的(a)是第二实施方式的曝光用镜的后视图,(b)是表示曝光用镜破损的状态的后视图。
[0045]图6是第三实施方式的曝光用镜的后视图。
[0046]图7的(a)是第四实施方式的曝光用镜的后视图,(b)是侧视图。
[0047]符号说明
[0048]M 掩模
[0049]PE 接近式曝光装置
[0050]W 工件
[0051]3 光照射装置(照明装置)
[0052]60 灯单元(光源)
[0053]65 积分器
[0054]70 镜弯曲机构
[0055]100、100A、100B、100C 曝光用镜
[0056]101 板状玻璃
[0057]102 表面
[0058]103 背面
[0059]104 反射膜
[0060]106、106A、106B、106C 成膜图案
[0061]107 外周部
[0062]108 一端部
[0063]109 另一端部
[0064]113 内部
[0065]131 母材(金属材料)
具体实施方式
[0066]以下,根据附图对本专利技术本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种曝光用镜,用于反射来自光源的光,所述曝光用镜的特征在于,具备:反射膜,所述反射膜形成于板状玻璃的表面侧,能够反射来自所述光源的光;以及导电性的成膜图案,所述导电性的成膜图案以比所述反射膜薄且从一端部到另一端部连续的方式成膜于所述板状玻璃的背面侧。2.根据权利要求1所述的曝光用镜,其特征在于,所述成膜图案在所述曝光用镜损伤时断裂从而能够检测所述曝光用镜的损伤。3.根据权利要求1或2所述的曝光用镜,其特征在于,所述成膜图案沿着所述板状玻璃的外周部成膜。4.根据权利要求1或2所述的曝光用镜,其特征在于,所述成膜图案以从所述一端部经过所述板状玻璃的外周部和内部到所述另一端部连续的方式成膜。5.根据权利要求1或2所述的曝光用镜,其特征在于,所述成膜图案在从所述一端部到所述另一端部之间,并联连接有电阻值各不相同的多个图案。6.根据权利要求1或2所述的曝光用镜,其特征在于,在应力作用于所述成膜图案时,所述成膜图案的电阻值发生变化,从而能够检测所述曝光用镜的应变量。7.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:麻籍文吉本芳幸
申请(专利权)人:株式会社V技术
类型:发明
国别省市:

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