本实用新型专利技术主要提供一种镀膜装置，用于对多个待镀膜产品进行镀膜，所述镀膜装置包括一支撑结构、一多层支撑架以及多个支撑面，其中所述多层支撑架被设置于所述支撑结构，多个所述支撑面分别被设置于所述多层支撑架以用于放置所述待镀膜产品。本实用新型专利技术所述的镀膜装置能够改善各层上的所述待镀膜产品的膜厚差异，从而减少位于同一层的所述待镀膜产品的膜厚差异，以此提高位于同一层的所述待镀膜产品的膜厚均匀性。的膜厚均匀性。的膜厚均匀性。
【技术实现步骤摘要】
镀膜装置
[0001]本技术涉及一种镀膜装置，具体而言，本技术涉及一种能够提高镀膜均匀性的镀膜装置。
技术介绍
[0002]类金刚石涂层镀膜生产线是以等离子全方位离子沉积(Plasma Immersion Ion Deposition
‑
PIID)技术为基础在工件表面涂覆超硬类金刚石涂层实现对工件表面进行改性的技术。
[0003]而在类金刚石涂层镀膜技术向产业化推进的过程中，经常会遇到一些问题，比如镀膜的涂层厚度不均匀，不仅是同一批次的产品在相同镀膜条件下会发生膜厚偏差较大的情况，甚至是同一片产品，经过镀膜后发生的膜厚都不均匀。
[0004]现有技术中，为了提高对待镀膜产品的镀膜质量和镀膜效率，往往采用多层支撑架的结构对待镀膜产品进行镀膜，而实践中发现，多层支撑架中的产品不仅各层的膜厚不一致，同层的膜厚也不一致。同时，由于多层支撑架的结构往往包括很多层，这样出来的膜层不均的镀膜产品不仅数量比较大，而且各层之间的膜厚差异比较大。由此可知，通过这种多层支撑架结构对待镀膜产品进行镀膜的话，不仅膜厚异常的产品数量多，而且各产品之间的膜厚值各不相同，因此返工成本较高，甚至会出现无法补救而导致大批量的产品报废。
[0005]针对这种情况，本领域技术人员通常是通过调节调挡板的方向，改变单体的进气流量或者是对镀膜装置进行加减盖体的办法来消除膜厚异常即膜厚不均匀的情况。但通过上述办法改善膜厚均匀性的效果往往比较有限，上述办法更适用于少量镀膜时采用，而对于进行批量性镀膜以及生产线的连续性镀膜的待镀膜产品来说并不合适，因为上述办法均非解决膜厚不均匀的根本解决办法。
技术实现思路
[0006]本专利技术的一个优势在于提供一种镀膜装置，用于对多个待镀膜产品进行镀膜，所述镀膜装置不仅结构简单，而且能够改善所述待镀膜产品的整体膜厚均匀性。
[0007]本技术的一个优势在于提供一种镀膜装置，所述镀膜装置能够改善各层上的所述待镀膜产品的膜厚差异，从而减少位于同一层的所述待镀膜产品的膜厚差异，以此提高位于同一层的所述待镀膜产品的膜厚均匀性。
[0008]本技术的一个优势在于提供一种镀膜装置，所述镀膜装置能够改善位于不同层数的所述待镀膜产品的膜厚差异，因此不仅能够降低产品膜厚不良的数量，而且会降低各层之间的产品的膜厚差异。
[0009]本技术的一个优势在于提供一种镀膜装置，所述镀膜装置通过在现有的多层支撑架的基础上通过对结构进行微调即可提高所述待镀膜产品的镀膜均匀性，以使所述镀膜装置能够适用于批量性、连续性生产规模。
[0010]本技术的一个优势在于提供一种镀膜装置，所述镀膜装置无需改变单体进料
流量即可提高多层支撑架上各层之间以及同一层之间的所述待镀膜产品的镀膜均匀性，因此不会提高原材料的成本。
[0011]本技术的一个优势在于提供一种镀膜装置，所述镀膜装置通过相对位置的改变增加气体的对流空间，进而提高位于多层支撑架的底层上的所述待镀膜产品的镀膜厚度，以此所述待镀膜产品的膜厚均匀性。
[0012]本技术的一个优势在于提供一种镀膜装置，所述镀膜装置通过在多层支撑架的顶部增设不完全遮蔽的元件，从而控制位于多层支撑架的顶层上的所述待镀膜产品的镀膜厚度，从而从整体上减少位于多层支撑架上的所述待镀膜产品的膜厚差异。
[0013]本技术的一个优势在于提供一种镀膜装置，所述镀膜装置通过采用柔性的并且可反复使用的元件对位于多层支撑架的顶层上的所述待镀膜产品的镀膜原料进行遮挡，不仅能够提高对所述待镀膜产品的镀膜效率，而且还能降低对所述待镀膜产品的加工成本。
[0014]为达上述至少一优势，本技术提供一种镀膜装置，用于对多个待镀膜产品进行镀膜，所述镀膜装置包括一支撑结构、一多层支撑架以及多个支撑面，其中所述多层支撑架被设置于所述支撑结构，多个所述支撑面分别被设置于所述多层支撑架以用于放置所述待镀膜产品。
[0015]在其中一些实施例中，所述多层支撑架包括至少一底部支撑架、一中部支撑架以及一顶部支撑架，所述底部支撑架、所述中部支撑架以及所述顶部支撑架之间重叠排列且彼此之间设置有间隔，以使所述底部支撑架、所述中部支撑架以及所述顶部支撑架之间有气流通过，从而提高位于所述底部支撑架、所述中部支撑架以及所述顶部支撑架上的所述待镀膜产品的镀膜均匀性。
[0016]在其中一些实施例中，多个所述支撑面彼此间隔并垂直地自上而下排布。
[0017]在其中一些实施例中，所述多层支撑架的底部与所述支撑结构之间设置有间隙。
[0018]在其中一些实施例中，所述多层支撑架的多个所述支撑面自上而下均匀排布，以提高位于不同的所述支撑面上的所述待镀膜产品的镀膜均匀性。
[0019]在其中一些实施例中，各所述支撑面被设置为镂空结构。
[0020]在其中一些实施例中，所述底部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间设置有间隙，以使所述底部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间有气流通过，从而提高位于所述底部支撑架的所述支撑面上的所述待镀膜产品的镀膜均匀性。
[0021]在其中一些实施例中，所述底部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间的间隙距离被设置为0.5cm
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5cm。
[0022]在其中一些实施例中，所述中部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间设置有间隙，以使所述中部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间有气流通过，从而提高位于所述中部支撑架的所述支撑面上的所述待镀膜产品的镀膜均匀性。
[0023]在其中一些实施例中，所述中部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间的间隙距离被设置为0.5
‑
5cm。
[0024]在其中一些实施例中，所述顶部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间设置有间隙，以使所述顶部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间有气流通过，从而提高位于所述顶部支撑架的所述支撑面上的所述待镀膜产品的镀膜均匀性。
[0025]在其中一些实施例中，所述顶部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间的间隙距离被设置为0.5
‑
5cm。
[0026]在其中一些实施例中，通过设置至少一四氟块螺丝于所述底部支撑架而获得所述底部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间的间隙。
[0027]在其中一些实施例中，具有至少一第一进料口和一第二进料口，所述第一进料口和所述第二进料口分别被朝向所述多层支撑架设置，其中所述第一进料口被设置为靠近所述顶部支撑架，所述第二进料口被设置为靠近所述底部支撑架。
[0028]在其中一些实施例中，所述支撑结构包括至少一支架，支架上设置有两个所述第一进料口，两个所述第一进料口分别被对称设置于靠近所述顶部支撑架的两侧并靠近所述顶部支撑架中最上层的所述支撑面。
[0029]在其中一些实施例中，所述支架上设置有两个所述第二进料口，两个所述第二进料口分别被对称设置于靠近所述底部支撑架的两侧并靠近所本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种镀膜装置，用于对多个待镀膜产品进行镀膜，其特征在于，所述镀膜装置包括一支撑结构、一多层支撑架以及多个支撑面，其中所述多层支撑架被设置于所述支撑结构，多个所述支撑面分别被设置于所述多层支撑架以用于放置所述待镀膜产品，其中所述多层支撑架包括至少一底部支撑架、一中部支撑架以及一顶部支撑架，所述底部支撑架、所述中部支撑架以及所述顶部支撑架之间重叠排列且彼此之间设置有间隔，以使所述底部支撑架、所述中部支撑架以及所述顶部支撑架之间有气流通过，从而提高位于所述底部支撑架、所述中部支撑架以及所述顶部支撑架上的所述待镀膜产品的镀膜均匀性。2.根据权利要求1所述的镀膜装置，其中多个所述支撑面彼此间隔并垂直地自上而下排布。3.根据权利要求1所述的镀膜装置，其中所述多层支撑架的底部与所述支撑结构之间设置有间隙。4.根据权利要求2所述的镀膜装置，其中所述多层支撑架的多个所述支撑面自上而下均匀排布，以提高位于不同的所述支撑面上的所述待镀膜产品的镀膜均匀性。5.根据权利要求4所述的镀膜装置，其中各所述支撑面被设置为镂空结构。6.根据权利要求4所述的镀膜装置，其中所述底部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间设置有间隙，以使所述底部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间有气流通过，从而提高位于所述底部支撑架的所述支撑面上的所述待镀膜产品的镀膜均匀性。7.根据权利要求6所述的镀膜装置，其中所述底部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间的间隙距离被设置为0.5cm
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5cm。8.根据权利要求7所述的镀膜装置，其中所述中部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间设置有间隙，以使所述中部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间有气流通过，从而提高位于所述中部支撑架的所述支撑面上的所述待镀膜产品的镀膜均匀性。9.根据权利要求8所述的镀膜装置，其中所述中部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间的间隙距离被设置为0.5
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5cm。10.根据权利要求9所述的镀膜装置，其中所述顶部支撑架与位于其上并相邻的所述支撑面之间设置有间隙，以使所述顶部支撑架与位于其上并相...
【专利技术属性】
技术研发人员：宗坚，文毅，
申请(专利权)人：江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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