本实用新型专利技术属于蚀刻技术设备领域，尤其涉及一种蚀刻冷凝装置以及蚀刻系统。蚀刻冷凝装置包括壳体结构和冷凝结构。壳体结构包括进气板、出气板以及位于出气板和进气板之间的环形侧板，进气板、出气板以及环形侧板合围形成冷凝腔，进气板开设有连通冷凝腔并连接进气管的进气孔，出气板开设有连通冷凝腔并连接出气管的出气孔。冷凝结构包括设置于冷凝腔的冷凝球，冷凝球呈镂空状且设置有多个，各冷凝球间隔设置并塞置于冷凝腔；其中，气流于进气孔流入冷凝腔，并流经各冷凝球，且于出气孔流出冷凝腔。本实用新型专利技术通过对气流进行有效冷凝，提高了药水气体的回收和利用，降低了废气对环境的污染。的污染。的污染。
【技术实现步骤摘要】
一种蚀刻冷凝装置以及蚀刻系统
[0001]本技术属于蚀刻技术设备领域，尤其涉及一种蚀刻冷凝装置以及蚀刻系统。
技术介绍
[0002]随着国内外手机、平板电脑、照相机、摄像机等行业升温和产量增加，市场对电路板蚀刻的需求与日剧增。喷淋式蚀刻机是电路板蚀刻镂空制造过程的关键设备之一。喷淋式蚀刻机应用于对电路板的蚀刻时，该蚀刻过程包括：通过辊轮组将电路板朝预设方向传送，在电路板的上方依次设置多个喷嘴，喷嘴向下方的电路板喷射蚀刻液，从而对电路板需蚀刻的部分进行一系列的蚀刻。
[0003]电路板在蚀刻过程中，会产生具有一定温度的废气。废气中包含有可回收利用的药水成分，通过对废气中分离出药水气体成分，可以降低资源浪费，提高资源的利用，并降低对环境的污染。
技术实现思路
[0004]本申请实施例的目的在于提供一种蚀刻冷凝装置，旨在解决如何对药水进行有效回收，以提高药水的利用率并降低污染的问题。
[0005]为实现上述目的，本申请采用的技术方案是：提供一种蚀刻冷凝装置，用于冷凝气流，并配合进气管和出气管使用，其中，所述进气管向所述冷凝装置导入所述气流，所述出气管从所述冷凝装置导出所述气流，所述蚀刻冷凝装置包括：
[0006]壳体结构，包括进气板、出气板以及位于所述出气板和所述进气板之间的环形侧板，所述进气板、所述出气板以及所述环形侧板合围形成冷凝腔，所述进气板开设有连通所述冷凝腔并连接所述进气管的进气孔，所述出气板开设有连通所述冷凝腔并连接所述出气管的出气孔；以及
[0007]冷凝结构，包括设置于所述冷凝腔的冷凝球，所述冷凝球呈镂空状且设置有多个，各所述冷凝球间隔设置并塞置于所述冷凝腔；
[0008]其中，所述气流于所述进气孔流入所述冷凝腔，并流经各所述冷凝球，且于所述出气孔流出所述冷凝腔。
[0009]在一个实施例中，所述冷凝球包括冷凝板、定位环以及与所述定位环相对设置的支撑环，所述冷凝板的一端连接所述支撑环，所述冷凝板的另一端连接所述定位环，所述冷凝板设置有多个，各所述冷凝板绕所述支撑环或所述定位环的周向间隔设置。
[0010]在一个实施例中，所述定位环的中心轴线和所述支撑环的中心轴线同轴设置或非同轴设置。
[0011]在一个实施例中，所述定位环设置有两个，所述支撑环位于两所述定位环之间，任一所述定位环与所述支撑环之间均设置有多个所述冷凝板。
[0012]在一个实施例中，所述定位环的外径小于所述支撑环的外径。
[0013]在一个实施例中，所述壳体结构还包括用于连接所述进气管的第一法兰，所述第
一法兰相对所述进气板层叠设置，且所述第一法兰开设有第一通孔，所述进气板对应所述第一通孔的位置开设有第一螺纹孔，所述壳体结构还包括第一螺栓，所述第一螺栓的一端穿设所述第一通孔并螺锁于所述第一螺纹孔内。
[0014]在一个实施例中，所述第一法兰朝向所述进气板的板面开设有第一密封槽，所述冷凝装置还包括设置于所述第一密封槽内的第一密封圈。
[0015]在一个实施例中，所述壳体结构还包括用于连接所述出气管的第二法兰，所述第二法兰相对所述出气板层叠设置，且所述第二法兰开设有第二通孔，所述出气板对应所述第二通孔的位置开设有第二螺纹孔，所述壳体结构还包括第二螺栓，所述第二螺栓的一端穿设所述第二通孔并螺锁于所述第二螺纹孔内。
[0016]在一个实施例中，所述第二法兰朝向所述出气板的板面开设有第二密封槽，所述冷凝装置还包括设置于所述第二密封槽内的第二密封圈。
[0017]本技术的另一目的还在于提供一种蚀刻系统，其包括如上所述的蚀刻冷凝装置。
[0018]本申请的有益效果在于：通过进气管将气流导入冷凝腔，并在冷凝腔内设置冷凝球，从使气流在流经冷凝球时，可以有效冷凝并分离气流中的药水气体，而且在冷凝腔内设置多个冷凝球，可以使气流被充分接触，从而对气流进行有效冷凝，提高了药水气体的回收和利用，降低了废气对环境的污染。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]图1为本申请实施例提供的蚀刻冷凝装置的立体结构图；
[0021]图2是图1的一实施例中的蚀刻冷凝装置的爆炸示意图；
[0022]图3是图1的另一实施例中的蚀刻冷凝装置的爆炸示意图；
[0023]图4是图2的冷凝球的立体结构示意图。
[0024]其中，图中各附图标记：
[0025]100、蚀刻冷凝装置；10、壳体结构；11、进气板；12、环形侧板；13、出气板；14、第一法兰；15、第二法兰；20、冷凝结构；21、冷凝球；411、第一通孔；31、第一螺栓；111、进气孔；112、第一螺纹孔；32、第二螺栓；421、第二通孔；422、第二密封槽；132、第二螺纹孔；16、冷凝腔；131、出气孔；412、第一密封槽；211、定位环；212、支撑环；213、冷凝板。
具体实施方式
[0026]为了使本申请所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
[0027]需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者间接在该另一个元件上。当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可
以是直接连接到另一个元件或间接连接至该另一个元件上。
[0028]需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
[0029]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0030]请参阅图1及图3，本申请实施例提供了一种蚀刻冷凝装置100，其用于冷凝气流中的气体，蚀刻冷凝装置100配合进气管和出气管使用。其中，进气管向冷凝装置导入气流，出气管从冷凝装置导出气流。可选地，气流为电路板在蚀刻过程中所产生的废气。蚀刻冷凝装置100包括壳体结构10和冷凝结构20。壳体结构10包括进气板11、出气板13以及位于出气板13和进气板11之间的环形侧板12，进气板11、出气板13以及环形侧板12合围形成冷凝腔16。可选地，本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种蚀刻冷凝装置，用于冷凝气流，并配合进气管和出气管使用，其中，所述进气管向所述冷凝装置导入所述气流，所述出气管从所述冷凝装置导出所述气流，其特征在于，所述蚀刻冷凝装置包括：壳体结构，包括进气板、出气板以及位于所述出气板和所述进气板之间的环形侧板，所述进气板、所述出气板以及所述环形侧板合围形成冷凝腔，所述进气板开设有连通所述冷凝腔并连接所述进气管的进气孔，所述出气板开设有连通所述冷凝腔并连接所述出气管的出气孔；以及冷凝结构，包括设置于所述冷凝腔的冷凝球，所述冷凝球呈镂空状且设置有多个，各所述冷凝球间隔设置并塞置于所述冷凝腔；其中，所述气流于所述进气孔流入所述冷凝腔，并流经各所述冷凝球，且于所述出气孔流出所述冷凝腔。2.如权利要求1所述的蚀刻冷凝装置，其特征在于：所述冷凝球包括冷凝板、定位环以及与所述定位环相对设置的支撑环，所述冷凝板的一端连接所述支撑环，所述冷凝板的另一端连接所述定位环，所述冷凝板设置有多个，各所述冷凝板绕所述支撑环或所述定位环的周向间隔设置。3.如权利要求2所述的蚀刻冷凝装置，其特征在于：所述定位环的中心轴线和所述支撑环的中心轴线同轴设置或非同轴设置。4.如权利要求2所述的蚀刻冷凝装置，其特征在于：所述定位环设置有两个，所述支撑环位于两所述定位环之间，任一所述定位环与所述支撑环之间均设置有多个所述冷凝板。5.如权利要求2所述的蚀...
【专利技术属性】
技术研发人员：贺海龙，
申请(专利权)人：深圳市轩宇飞龙机械设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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