支撑装置及镀膜设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种支撑装置及镀膜设备，支撑装置包括框架及多个托盘，其中，框架由多根横梁与多根竖梁架设而成，且相邻的两根横梁和竖梁围成第一凹槽，横梁具有至少一个斜面，斜面自横梁在第一凹槽的槽深方向上的最高位置向着第一凹槽倾斜；托盘嵌设于第一凹槽内，且托盘具有多个第二凹槽，第二凹槽用于放置基板；横梁具有斜面结构使得嵌设有托盘的支撑装置在溅射镀膜过程中，横梁对于两侧放置的基板遮挡面积减小，提高了支撑装置上有效镀膜面积，从而提高了支撑装置利用率与靶材收集率，并且实现产能的提升。并且实现产能的提升。并且实现产能的提升。

【技术实现步骤摘要】
支撑装置及镀膜设备


[0001]本技术涉及太阳能电池制造
，特别是涉及一种支撑装置及镀膜设备。

技术介绍

[0002]在太阳能电池制造
，镀膜设备以其能够实现连续镀膜、卓越的镀膜效果、环保无毒等优点广泛应用在HIT(Heterojunction with intrinsic Thinlayer，本征薄膜异质结电池)电池行业，而在镀膜设备中普遍采用载板(carrier)装载基板进行镀膜。
[0003]目前，随着整个行业对于降本及大产量需求，载板的尺寸越来越大，载板的横梁数量也会随之增多，而且为了减小载板的变形量，当前普遍将横梁设计成横向强度很高的方钢，但使用这种横梁的镀膜设备在溅射过程中横梁对于放置于载板上的基板遮挡较大，导致放置于载板上的基板的镀膜效果较差，产品良率较低。并且放置于载板上的基板被遮挡部分由于无法镀膜或镀到的膜很薄，导致此区域无法放置基板，使得载板的利用率与靶材的收集率较低，造成了载板和靶材的浪费。

技术实现思路

[0004]基于此，有必要针对载板利用率较低的问题，提供一种用于承托基板的支撑装置及镀膜设备。
[0005]一种支撑装置，包括框架及多个托盘，其中：
[0006]所述框架由多根横梁与多根竖梁架设而成，且相邻的两根所述横梁和所述竖梁围成第一凹槽，所述横梁具有至少一个斜面，所述斜面自所述横梁在所述第一凹槽的槽深方向上的最高位置向着所述第一凹槽倾斜；
[0007]所述托盘嵌设于所述第一凹槽内。
[0008]上述支撑装置，应用于镀膜设备内，用于承载基板进行溅射镀膜，通过多根横梁与多根竖梁架设形成框架，并且相邻的两根横梁与竖梁围成第一凹槽用于嵌设托盘，在横梁上设置有至少一个斜面，并且限定该斜面自横梁在第一凹槽的槽深方向上的最高位置向着第一凹槽倾斜，使得嵌设有托盘的支撑装置在溅射镀膜过程中，横梁对于溅射出的靶材原子遮挡减小，更多的靶材原子沉积于靠近横梁的基板表面形成薄膜，提高了支撑装置上基板的有效镀膜面积，从而提高了支撑装置利用率与靶材收集率，提高了基板表面镀膜质量，并且实现产能的提升。
[0009]在其中一个实施例中，所述横梁具有对称面，所述对称面穿过所述横梁的中心，且既与所述横梁的延伸方向平行，又与所述第一凹槽的槽深方向平行，所述对称面的两侧分别设置所述斜面。
[0010]在其中一个实施例中，所述斜面与所述对称面所成夹角为30
°‑
60
°
，所述对称面两侧的两个所述斜面关于所述对称面对称设置。
[0011]上述支撑装置，通过设置斜面与对称面的夹角为30
°‑
60
°
，可满足在不同溅射方向
上减小遮挡，提高支撑装置的利用率与镀膜质量。通过在对称面两侧对称设置斜面，使得对称面两侧的放置的溅射对象在溅射过程中遮挡均减小，以使得横梁两侧放置的溅射对象均可得到较大的利用率，镀膜质量均较好。
[0012]在其中一个实施例中，所述横梁还具有两个竖直面，所述竖直面对称设置于所述对称面两侧，且与所述横梁的延伸方向平行，所述竖直面的一侧与所述斜面连接，所述竖梁固定在所述竖直面上。
[0013]在其中一个实施例中，所述横梁上开设有定位凹槽，所述定位凹槽开口位于所述竖直面，所述托盘设置有与所述定位凹槽相对应的定位块。
[0014]在其中一个实施例中，在所述横梁两个端部均设置有固定块，所述横梁与位于其端部的所述竖梁通过所述固定块固定连接。
[0015]在其中一个实施例中，所述横梁为六角方钢或八角方钢。
[0016]上述支撑装置，由于六角方钢与八角方钢都具有对称设置的斜面并且强度较高，通过将横梁设置为六角方钢或八角方钢，能够在溅射过程中可减小遮挡面积，并且能减小横梁在延伸方向的变形。
[0017]在其中一个实施例中，所述框架还包括挡板和挡板托条，所述挡板铺设于所述横梁且靠近所述横梁的两端部，所述挡板托条设置在所述横梁且靠近所述横梁的两端部，所述挡板固定于所述挡板托条上。
[0018]在其中一个实施例中，所述托盘具有多个第二凹槽，所述第二凹槽用于放置基板。
[0019]一种镀膜设备，包括设备本体、靶材、工作台，还包括如上述技术方案任一项所述的支撑装置，所述工作台设于设备本体内，所述靶材固定于所述设备本体内，所述支撑装置固定于所述工作台上。
[0020]上述镀膜设备，通过将放置有基板的支撑装置固定于工作台上，驱动工作台平移至设备本体内，固定于设备本体内的靶材对基板表面进行溅射镀膜，由于支撑装置中横梁上设置有至少一个斜面，并且该斜面自横梁在第一凹槽的槽深方向上的最高位置向着第一凹槽倾斜，使得嵌设有托盘的支撑装置在溅射镀膜过程中，横梁对于溅射出的靶材原子遮挡减小，更多的靶材原子沉积于靠近横梁的基板表面形成薄膜，提高了支撑装置利用率与基板表面镀膜质量，并且实现产能的提升。因此，具有该支撑装置的镀膜设备的产品良率以及产能较高。
附图说明
[0021]图1为本技术支撑装置的结构示意图；
[0022]图2为本技术支撑装置中横梁、固定块和挡板托条所组成模块的爆炸示意图；
[0023]图3为本技术支撑装置中横梁的截面示意图；
[0024]图4为本技术支撑装置中框架与托盘所组成模块的局部示意图；
[0025]图5为本技术支撑装置溅射工作示意图。
[0026]附图标记
[0027]100、支撑装置；
[0028]110、框架；111、横梁；112、竖梁；113、第一凹槽；114、定位凹槽；115、固定块；116、挡板；117、挡板托条；1111、斜面；1112、对称面；1113、竖直面；
[0029]120、托盘；121、第二凹槽；122、定位块；
[0030]130、基板；
[0031]210、靶材；220、工作台。
具体实施方式
[0032]为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术。但是本技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似改进，因此本技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0033]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0034]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种支撑装置，其特征在于，包括框架及多个托盘，其中：所述框架由多根横梁与多根竖梁架设而成，且相邻的两根所述横梁和所述竖梁围成第一凹槽，所述横梁具有至少一个斜面，所述斜面自所述横梁在所述第一凹槽的槽深方向上的最高位置向着所述第一凹槽倾斜；所述托盘嵌设于所述第一凹槽内。2.根据权利要求1所述的支撑装置，其特征在于，所述横梁具有对称面，所述对称面穿过所述横梁的中心，且既与所述横梁的延伸方向平行，又与所述第一凹槽的槽深方向平行，所述对称面的两侧分别设置所述斜面。3.根据权利要求2所述的支撑装置，其特征在于，所述斜面与所述对称面所成夹角为30
°‑
60
°
，所述对称面两侧的两个所述斜面关于所述对称面对称设置。4.根据权利要求2所述的支撑装置，其特征在于，所述横梁还具有两个竖直面，所述竖直面对称设置于所述对称面两侧，且与所述横梁的延伸方向平行，所述竖直面的一侧与所述斜面连接，所述竖梁固定在所述竖直面上。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：周剑，宋文华，张永胜，彭孝龙，杨肸曦，解传佳，
申请(专利权)人：苏州迈为科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：