本发明专利技术提供一种投影装置,其包括:光机;下盖,该下盖的内侧形成容置空间以容纳该光机,该下盖包括多个调节孔;辅助基座,包括多个光机固定部和多个下盖固定部,该光机经由该多个光机固定部固定于该辅助基座,该辅助基座经由该多个下盖固定部固定于该下盖;以及多个调节螺柱,每一该调节螺柱穿设于对应的该调节孔;该调节螺柱包括相对的第一端和第二端,该第二端用于抵接该辅助基座,该第一端用于自该下盖的外侧可转动地调节该调节螺柱以调节对应位置处该辅助基座相对该下盖的高度。置处该辅助基座相对该下盖的高度。置处该辅助基座相对该下盖的高度。
【技术实现步骤摘要】
一种投影装置
[0001]本专利技术涉及投影机领域,尤其涉及一种可自外部进行调节光机姿势的投影装置。
技术介绍
[0002]投影装置在使用中可能因震动、撞击而使得内部的光机发生偏移,从而光机中的空间光调制器的位置相对光轴发生偏移,例如空间光调制器为数字微镜(DMD,Digital Micromirror Device),其中心轴与光轴不相对齐,投影显示的画面会出现边缘偏色,甚至畸变。现有技术中,往往通过打开机壳露出待校正的部位进行手动调整,而调整过程往往需要投影画面,带电操作以及内部光束的暴露容易给人员带来危险和不便;如此,常常需要将投影设备送到专业的维修中心进行拆机维修。因此,有必要设计一种新型的校正结构和校正方式以克服上述缺陷。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的在于提供一种投影装置,其能够在不拆机的情况下自投影装置外部对内部的光机进行姿势调节。
[0004]为达到上述目的,本专利技术提供了一种投影装置,其包括:光机;下盖,该下盖的内侧形成容置空间以容纳该光机,该下盖包括多个调节孔;辅助基座,包括多个光机固定部和至少一个下盖固定部,该光机经由该多个光机固定部固定于该辅助基座,该辅助基座经由该多个下盖固定部固定于该下盖,该多个光机固定部不在同一直线上,该多个光机固定部和该至少一个下盖固定部位置不重叠;以及
[0005]多个调节螺柱,每一该调节螺柱对应于每一调节孔设置,并穿设于对应的该调节孔;该调节螺柱包括相对的第一端和第二端,该第二端突出于该下盖以抵接该辅助基座,该第一端用于自该下盖的外侧可转动地调节该调节螺柱以调节对应位置处该辅助基座相对于该下盖的高度。
[0006]较佳的,该多个下盖固定部于该下盖上的垂直投影位置与该多个调节孔的位置不相同。
[0007]较佳的,每个该调节孔对应该多个光机固定部中的其中之一设置。
[0008]较佳的,该多个光机固定部还包括第一定位槽,用于定位该调节螺柱的该第二端。
[0009]较佳的,该多个光机固定部中的至少一个还包括第二定位凸起,用于与光机对应位置的第二定位孔或第二定位槽相配合;或者,该多个光机固定部中的至少一个还包括第二定位孔或第二定位槽,用于与光机对应位置的第二定位凸起相配合。
[0010]较佳的,该辅助基座还包括基板,该多个光机固定部通过以下至少一种方式固定于该基板:焊接、热熔固定或一体成型。
[0011]较佳的,该光机固定部位于该基板的边缘。
[0012]较佳的,该辅助基座还包括第三定位凸起,用于与下盖对应位置的第三定位槽相配合;或者,该辅助基座还包括第三定位孔或第三定位槽,用于与下盖对应位置的第三定位
凸起相配合。
[0013]较佳的,该调节螺柱的螺杆部可转动地连接该调节孔。
[0014]较佳的,该调节孔中设有热熔螺母,该调节螺柱的螺杆部可转动地连接该热熔螺母。
[0015]较佳的,每一该调节螺柱还套设有弹性件,该弹性件的一端抵接于该调节孔或该热熔螺母,该弹性件的另一端抵接于该调节螺柱的该第一端;或者,每一该调节螺柱还套设有弹性件,该弹性件的一端抵接于该调节孔或该热熔螺母,该弹性件的另一端固设于该调节螺柱的螺杆部或第一端。
[0016]与现有技术相比,本专利技术提供的投影装置,其通过增加一辅助基座,光机固定于辅助基座,辅助基座固定于下盖,下盖的调节孔穿设有调节螺柱,以调节辅助基座的对应位置相对于下盖的高度,从而间接实现光机对应位置的调节,经由多个位置的调节螺柱的调节,可以实现光机姿势的微调,该结构可以带电调整,以安全便利地进行实时校正。
附图说明
[0017]图1为本专利技术第一实施例的辅助基座的结构示意图;
[0018]图2为本专利技术第一实施例的投影装置于调节螺柱处的局部截面结构示意图;
[0019]图3为本专利技术第一实施例的投影装置于下盖固定部的局部截面结构示意图。
具体实施方式
[0020]为使对本专利技术的目的、构造、特征及其功能有进一步的了解,兹配合实施例详细说明如下。
[0021]在说明书及权利要求书当中使用了某些词汇来指称特定的元件。所属领域中具有通常知识者应可理解,制造商可能会用不同的名词来称呼同一个元件。本说明书及权利要求书并不以名称的差异来作为区分元件的方式,而是以元件在功能上的差异来作为区分的准则。在通篇说明书及权利要求当中所提及的「包括」为开放式的用语,故应解释成「包括但不限定于」。
[0022]参照图1~图3所示,揭示了本专利技术投影装置的第一实施例的局部结构示意图,投影装置1包括下盖10、光机20以及辅助基座30。下盖10、光机20分别与辅助基座30相固定,并通过调节下盖10的局部位置与辅助基座30的相对高度,从而调节被固定支撑的光机20的对应位置的高度及倾斜度。
[0023]在本实施例中,下盖10的内侧(在本实施例中,或称上侧)形成一容置空间以容纳光机20、辅助基座30及其它部件,下盖10至少限定了容置空间的部分边界,换句话说,下盖10形成了投影装置1内侧与外侧的部分边界。下盖10的外侧还可设置支脚等结构,此处不再赘述。
[0024]辅助基座30包括多个光机固定部31和至少一个下盖固定部32。光机20通过光机固定部31固定于辅助基座30(参见图2),辅助基座30经由多个下盖固定部32固定于下盖10(参见图3)。辅助基座30包含有基板33,基板33材质较佳为铁件,多个光机固定部31和至少一个下盖固定部32可以设置在基板33上,也可与基板33一体成型。光机固定部31较佳的采用合金。较佳的,至少一个下盖固定部32位于基板33的中央,而多个光机固定部31位于基板33的
边缘。
[0025]请参见图2,下盖10包括多个调节孔11,调节螺柱40穿设于调节孔11,并可转动地调节。调节螺柱40包括相对的第一端41和第二端42,以及第一端41与第二端42之间的螺杆部43,第二端42抵接于辅助基座30,第一端41用于自下盖10的外侧可转动地调节,从而调整对应位置处的辅助基座30相对于下盖10的高度。
[0026]在本实施例中,下盖固定部32于下盖10上的垂直投影位置与调节孔11的位置不相同。如此,下盖固定部32处下盖10与辅助基座30之间的相对高度固定,而调节孔11处下盖10与辅助基座30之间的相对高度可调节,辅助基座30相对下盖10发生轻微变形,从而经由光机固定部31使得其固定承载的光机20各部位相对下盖10的高度被调节,从而实现光机20的姿势校正。在一较佳的实施例中,调节孔11对应一个光机固定部31设置,或者说,光机固定部31于下盖10上的投影位置与调节孔11至少部分重合;如此,该位置处下盖10与辅助基座30之间高度的变化量为Δh1,下盖10与光机20之间高度的变化量为Δh2,Δh1与Δh2相当,可以通过调节螺柱40更直观地调节光机20的姿势。
[0027]在本实施例中,多个调节孔11中至少包括三个调节孔,其两两连线不共线,从而可以调节光机20的高度及倾斜度,同样的,多个光本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种投影装置,其特征在于,包括光机;下盖,该下盖的内侧形成容置空间以容纳该光机,该下盖包括多个调节孔;辅助基座,包括多个光机固定部和至少一个下盖固定部,该光机经由该多个光机固定部固定于该辅助基座,该辅助基座经由该多个下盖固定部固定于该下盖,该多个光机固定部不在同一直线上,该多个光机固定部和该至少一个下盖固定部位置不重叠;以及多个调节螺柱,每一该调节螺柱对应于每一调节孔设置,并穿设于对应的该调节孔;该调节螺柱包括相对的第一端和第二端,该第二端突出于该下盖以抵接该辅助基座,该第一端用于自该下盖的外侧可转动地调节该调节螺柱以调节对应位置处该辅助基座相对于该下盖的高度。2.如权利要求1所述的投影装置,其特征在于:该多个下盖固定部于该下盖上的垂直投影位置与该多个调节孔的位置不相同。3.如权利要求1所述的投影装置,其特征在于:每个该调节孔对应该多个光机固定部中的其中之一设置。4.如权利要求3所述的投影装置,其特征在于:该多个光机固定部还包括第一定位槽,用于定位该调节螺柱的该第二端。5.如权利要求1所述的投影装置,其特征在于:该多个光机固定部中的至少一个还包括第二定位凸起,用于与光机对应位置的第二定位孔或第二定位槽相配...
【专利技术属性】
技术研发人员:潘旭,郝文光,
申请(专利权)人:苏州佳世达光电有限公司,
类型:发明
国别省市:
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