本实用新型专利技术公开了一种平衡式流体研磨料箱,包括底板、箱体、旋转组件、振动组件和平衡组件;所述振动组件设于箱体,所述振动组件用于驱使箱体振动;所述旋转组件设于底板上,所述旋转组件包括旋转电机、传动齿轮组以及旋转盘,所述旋转电机与传动齿轮组传动连接,所述旋转盘与传动齿轮组啮合,所述箱体设于旋转盘上,并与所述旋转盘共轴设置;所述平衡组件包括环绕箱体设置的安装体,设于安装体上的第一磁吸件,以及设于箱体上的第二磁吸件,所述第一磁吸件和第二磁吸件之间相互排斥且位置相对应。本实用新型专利技术提供的平衡式流体研磨料箱,研磨质量好,效率高。效率高。效率高。
【技术实现步骤摘要】
平衡式流体研磨料箱
[0001]本技术涉及研磨设备
,具体地说,涉及一种平衡式流体研磨料箱。
技术介绍
[0002]现有技术的流体抛光设备包括磨料箱和研磨杆组件,待磨工件装夹于研磨杆,使研磨杆在磨料箱移动,流体研磨料与工件表面发生高速碰撞,使得流体研磨料对工件表面产生磨削作用。由于磨料箱内的磨料流动性差,工件无法与新磨料充分接触,其打磨质量受局限,表面处理效率难以满足生产需求。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于提供一种平衡式流体研磨料箱,研磨质量好,效率高。
[0004]本技术公开的平衡式流体研磨料箱所采用的技术方案是:
[0005]一种平衡式流体研磨料箱,包括底板、箱体、旋转组件、振动组件和平衡组件;所述振动组件设于箱体,所述振动组件用于驱使箱体振动;所述旋转组件设于底板上,所述旋转组件包括旋转电机、传动齿轮组以及旋转盘,所述旋转电机与传动齿轮组传动连接,所述旋转盘与传动齿轮组啮合,所述箱体设于旋转盘上,并与所述旋转盘共轴设置;所述平衡组件包括环绕箱体设置的安装体,设于安装体上的第一磁吸件,以及设于箱体上的第二磁吸件,所述第一磁吸件和第二磁吸件之间相互排斥且位置相对应。
[0006]作为优选方案,所述第一磁吸件环绕安装体的内壁设置,所述第二磁吸件环绕箱体的外壁设置。
[0007]作为优选方案,所述第二磁吸件设有至少两组,两组所述第二磁吸件分别设于箱体的底部和顶部,所述第一磁吸件设有至少两组,两组所述第一磁吸件分别设于安装体的底部和顶部。
[0008]作为优选方案,所述旋转盘包括旋转齿轮以及固定于旋转齿轮上的盘体。
[0009]作为优选方案,所述旋转盘与底板之间设有平面轴承。
[0010]作为优选方案,所述旋转组件还包括可转动设于底板的旋转筒轴;所述旋转盘固定于旋转筒轴上端,所述旋转盘、平面轴承、旋转筒轴共轴设置。
[0011]作为优选方案,所述旋转筒轴包括轴盘和轴杆,所述轴盘与旋转盘固定连接,所述轴杆上端连接轴盘,所述轴杆下端可转动的穿设在底板上开设的轴孔内。
[0012]作为优选方案,所述振动组件包括振动电机、弹簧组以及振动座;所述振动电机固定于箱体,所述振动座固定于旋转盘,所述箱体设于振动座,并与所述振动座通过弹簧组弹性连接。
[0013]作为优选方案,所述箱体下端周缘围设有护罩,所述弹簧组设于护罩内侧,且所述护罩直径大于所述振动座上端。
[0014]本技术公开的平衡式流体研磨料箱的有益效果是:研磨时,振动组件使箱体振动,从而使箱体内的磨料之间产生一定的位移。同时旋转电机转动,转动通过传动齿轮组
传递至旋转盘,使箱体转动,一方面提高了磨料与工件之间碰撞的速度,另一方面还起到了搅拌磨料的作用,从而使得研磨质量好,效率高。而安装体上的第一磁吸件与箱体上的第二磁吸件相斥,可以防止箱体振动时因旋转而导致的倾斜,从而可以使得箱体以较大的幅度进行振动,进一步提高研磨效果。
附图说明
[0015]图1是本技术平衡式流体研磨料箱的结构示意图。
[0016]图2是本技术平衡式流体研磨料箱的正视图。
[0017]图3是本技术平衡式流体研磨料箱的A
‑
A的剖视图。
具体实施方式
[0018]下面结合具体实施例和说明书附图对本技术做进一步阐述和说明:
[0019]请参考图1、图2和图3,平衡式流体研磨料箱包括底板10、箱体20、旋转组件30、振动组件40和平衡组件50。
[0020]所述振动组件40设于箱体20,所述振动组件40用于驱使箱体20振动。
[0021]所述旋转组件30设于底板10上,所述旋转组件30包括旋转电机31、传动齿轮组32以及旋转盘33。所述旋转电机31与传动齿轮组32传动连接,所述旋转盘33与传动齿轮组32啮合,所述箱体20设于旋转盘33上,并与所述旋转盘33共轴设置。
[0022]所述平衡组件50包括环绕箱体20设置的安装体52,设于安装体52上的第一磁吸件54,以及设于箱体20上的第二磁吸件56,所述第一磁吸件54和第二磁吸件56之间相互排斥且位置相对应。
[0023]研磨时,振动组件40使箱体20振动,从而使箱体20内的磨料之间产生一定的位移。同时旋转电机31转动,转动通过传动齿轮组32传递至旋转盘33,使箱体20转动,一方面提高了磨料与工件之间碰撞的速度,另一方面还起到了搅拌磨料的作用,从而使得研磨质量好,效率高。而安装体52上的第一磁吸件54与箱体20上的第二磁吸件56相斥,可以防止箱体20振动时因旋转而导致的倾斜,从而可以使得箱体20以较大的幅度进行振动,进一步提高研磨效果。
[0024]当箱体20进行振动时,此时箱体20处于不平衡状态,即底面有的点高,有的点低,若此时箱体20再进行旋转,则可能因为旋转所带来的离心力导致箱体20倾斜,从而影响到产品的研磨。安装体52通过支撑管固定于底板10上,而安装体52上的第一磁吸件54相当于对箱体20有一个推力,使得将要倾斜的箱体20恢复平衡,从而保证产品能够进行较好的研磨。
[0025]本实施例中,所述第一磁吸件54环绕安装体52的内壁设置,所述第二磁吸件56环绕箱体20的外壁设置。具体的,第一磁吸件54和第二磁吸件56可以是连续的一体环绕设置,也可以是分成若干段的间隔设置。另一实施方式中,第一磁吸件54的宽度大于等于第二磁吸件56的宽度,使得第二磁吸件56能够一直处于第一磁吸件54的受力范围内。第一磁吸件54和第二磁吸件56均可通过磁铁来实现,且第一磁吸件54和第二磁吸件56的相对面为不同磁极,从而产生斥力。
[0026]所述第二磁吸件56设有至少两组,两组所述第二磁吸件56分别设于箱体20的底部
和顶部,所述第一磁吸件54设有至少两组,两组所述第一磁吸件54分别设于安装体52的底部和顶部。通过至少两组第一磁吸件54和第二磁吸件56,分别对箱体20的顶部和底部产生斥力,从而保证箱体20能较好的保持平衡。
[0027]研磨时,振动组件40使箱体20振动,从而使箱体20内的磨料之间产生一定的位移。同时旋转电机31转动,转动通过传动齿轮组32传递至旋转盘33,使箱体20转动。
[0028]所述旋转盘33包括旋转齿轮331以及固定于旋转齿轮331上的盘体332。其中,旋转齿轮331上开设有若干减重孔,以降低自身重量。
[0029]所述旋转盘33与底板10之间设有平面轴承34,以此实现旋转盘33与底板10之间的可转动连接。旋转盘33设在平面轴承34的上环,平面轴承34的下环设在底板10上。
[0030]所述旋转组件30还包括可转动设于底板10的旋转筒轴35。所述旋转盘33固定于旋转筒轴35上端,通过该旋转筒轴35限制旋转盘33的径向移动,避免工作时旋转盘33退让而导致其与传动齿轮组32脱离。其中,所述旋转盘33、平面轴承34、旋转筒轴35共轴设置。
[0031]所述本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种平衡式流体研磨料箱,其特征在于,包括底板、箱体、旋转组件、振动组件和平衡组件;所述振动组件设于箱体,所述振动组件用于驱使箱体振动;所述旋转组件设于底板上,所述旋转组件包括旋转电机、传动齿轮组以及旋转盘,所述旋转电机与传动齿轮组传动连接,所述旋转盘与传动齿轮组啮合,所述箱体设于旋转盘上,并与所述旋转盘共轴设置;所述平衡组件包括环绕箱体设置的安装体,设于安装体上的第一磁吸件,以及设于箱体上的第二磁吸件,所述第一磁吸件和第二磁吸件之间相互排斥且位置相对应。2.如权利要求1所述的平衡式流体研磨料箱,其特征在于,所述第一磁吸件环绕安装体的内壁设置,所述第二磁吸件环绕箱体的外壁设置。3.如权利要求2所述的平衡式流体研磨料箱,其特征在于,所述第二磁吸件设有至少两组,两组所述第二磁吸件分别设于箱体的底部和顶部,所述第一磁吸件设有至少两组,两组所述第一磁吸件分别设于安装体的底部和顶部。4.如权利要求1所述的平衡式流体研磨料箱,其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员:蔡巧莉,夏金荣,
申请(专利权)人:深圳市佳利研磨设备有限公司,
类型:新型
国别省市:
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