一种透射式全息存储介质和装置制造方法及图纸

技术编号:30745199 阅读:15 留言:0更新日期:2021-11-10 11:54
本实用新型专利技术提供一种透射式全息存储介质和装置,所述的透射式全息存储介质,包括第一基板、第二基板、记录层和二向色层,记录层用于读写光记录载有数据信息的全息图,第二基板朝向记录层的一侧的表面刻有凹凸结构用于伺服光束定位读写位置,同时实现伺服索轨功能。二向色层能反射伺服光束并透射读写光,且二向色层的厚度介于600nm

【技术实现步骤摘要】
一种透射式全息存储介质和装置


[0001]本技术涉及光学存储
,更具体地,涉及一种透射式全息存储介质和装置。

技术介绍

[0002]全息存储是把数据以三维的形式记录在全息存储介质上的大容量存储方式,它能满足21世纪大规模数据存储所需的性能,有望取代磁存储和光学存储技术,成为下一代的高容量数据存储技术。
[0003]为了能精确定位全息记录或读取位置,一般设计伺服光束路,并在全息存储介质上设置地址,伺服光束从地址层获得信息后,经四象探测器捕捉,获得地址信息,实现伺服光束对读写位置的定位。
[0004]全息存储中的信息是通过光路访问获取的,其中蓝色激光或绿色激光为参考光束,红色激光为伺服光束。蓝色激光或绿色激光照射记录材料中的光栅条纹,衍射出信号光束,信号光束被相机捕捉并成像。红色激光从地址层读取伺服信息,最终被四像探测器捕捉,获得地址信息。
[0005]国内外报道的全息存储介质大多为反射式全息存储介质,如CN 207517357 U公开的一种基于分色反射的全息存储装置,主要是利用二向色层和地址层对参考光束和伺服光束分别进行反射,从而获取信息。反射式存储介质的二向色层和地址层大多数是分开的,其中间设置有分隔层,反射式存储介质的结构复杂,增大了加工工艺难度。且反射式存储介质由于反射回的伺服光束和反射回的读写光束在同侧,极易相互干扰,且易受外部因素的影响,如读写光波长、入射角度的变化。另外,如果反射式全息存储介质想要实现双面读写的话,需要在存储介质两侧分别设置记录层,会进一步增加加工的难度和信息读写的不稳定性。
[0006]因此,有必要设计一种全息存储介质,使得载有数据信息的全息图的记录和读取更稳定,并且也不会增加加工难度。

技术实现思路

[0007]本技术旨在克服上述现有技术的至少一种缺陷(不足),提供一种透射式全息存储介质和装置,用于解决信息读写的稳定性问题以及加工问题。
[0008]一方面,本技术提供了一种透射式全息存储介质,包括第一基板、第二基板、记录层和二向色层,记录层用于读写光记录载有数据信息的全息图,第二基板朝向记录层一侧的表面刻有凹凸结构,用于伺服光束定位读写位置,同时实现伺服锁轨功能,二向色层均匀涂布在第二基板的凹凸结构表面,二向色层能反射伺服光束并透射读写光,且二向色层的厚度介于600nm

760nm之间。
[0009]反射式全息存储介质是在二向色层的作用下反射读写光,这样的话,反射式全息存储介质中光栅方向主要是平行于介质表面,信息读取过程易受波长、介质形变和光路不
稳定性的影响,对外部因素较敏感;且记录和读取在同侧进行。不同方向的光栅,受环境干扰的影响会不同,其中,光栅垂直于介质表面的全息图,其信息读取过程受波长、介质形变和光路不稳定性的影响较小。本技术采用的透射式全息光存储介质,其光栅方向主要是垂直于介质表面,并且读写和记录是在不同侧进行。因此,本技术中的信息读取过程不易受外部环境的影响,相对于传统反射式的全息存储介质来说更稳定。同时本专利技术的全息光存储介质的第一基板、第二基板、记录层和二向色层之间没有间隔设计,不需要在存储介质两侧分别设计记录层就可以实现双面读写,其加工工艺简单。所述的读写光为参考光束和/或信号光束。并且在第二基板朝向记录层一侧的表面刻有凹凸结构,该凹凸结构用于伺服光束定位读写位置,并且使信号光或参考光在伺服系统的作用下按一定的轨迹移动,实现伺服锁轨功能。
[0010]具体地,所述二向色层均匀涂布在第二基板的凹凸结构表面。
[0011]针对上述技术方案,所述存储介质第一基板位于记录层远离二向色层的一侧,第二基板位于二向色层远离记录层的一侧。第一基板、记录层、二向色层和第二基板依次层叠设置。记录全息图时,从第一基板或第二基板入射的参考光和信号光在记录层发生干涉并使得记录层曝光生成全息图;再现全息图上的数据信息时,参考光透过第一基板或第二基板入射,并透过记录层和二向色层后,最终透过第二基板或第一基板,在介质另一侧实现载有数据信息的全息图的读取。
[0012]该方案中第二基板表面的凹凸结构可包含各种结构。第一基板和第二基板的设置,可保护记录层和第二基板表面的凹凸结构不受损。
[0013]本技术方案中第二基板表面的凹凸结构可用于伺服光束定位读写位置,同时实现伺服锁轨功能,而不是单独的设置一层地址层,可大大简化存储介质的生产工艺。
[0014]在另一个优选方案中,在第一基板远离记录层的一侧设有抗反射层,同时在第二基板远离记录层的一侧设有抗反射层,这样设置可减少读写光或伺服光束在透过第一基板和第二基板时的反射,使得读写光或伺服光束尽可能全部透过第一基板和第二基板。
[0015]为了更好的保护记录层和第二基板表面的凹凸结构,第一基板和第二基板最好为透明的热塑性塑料,不会使记录层和第二基板表面的凹凸结构产生形变,如皱缩。
[0016]鉴于红光、蓝光和绿光的特性,伺服光束优选为红色激光,读写光优选为蓝色激光或绿色激光。
[0017]本技术另一方面,还提供了一种透射式全息存储装置,包括上述的透射式全息存储介质,还包括:伺服模块,用于输出伺服光束,伺服光束经二向色层反射回获得地址信息,对读写光的读写位置进行定位;读写模块,用于输出读写光,信息记录时,根据伺服光束定位的读写位置,作为读写光的信号光和参考光直接在记录层发生干涉形成全息图,或先透射出二向色层再在记录层发生干涉形成全息图。
[0018]所述透射式全息存储装置还包括信号输出模块,信息读取时,输入的参考光束在伺服光束定位位置处发生衍射,再现信号光束,信号光束透过二向色层,在参考光束入射的存储介质另一侧实现信息的读取。
[0019]所述读写模块可以是信号光束与参考光束合束的单臂结构,也可以是信号光束与参考光束分开的双臂机构。对于单臂结构,读写模块具体包括用于输出读写光的光源模块;用于将输入的读写光转化为同轴的具有正交偏振方向的信号光束和参考光束的合束模块;
光头模块,用于将输入的同轴的具有正交偏振方向的信号光束和参考光束转化为不同轴,并且将读写光与伺服光束进行合束,在伺服光束的定位作用下,信号光束和参考光束直接在记录层发生干涉形成全息图,或先透射出二向色层在记录层发生干涉形成全息图;以及信号输出模块,信息读取时,输入的参考光束在伺服光束定位位置处发生衍射,再现信号光束,再现信号光束透过二向色层,在参考光束入射的存储介质另一侧再现信息。
[0020]在伺服模块中,伺服光束经二向色层反射回获得的地址信息,对读写光的读写位置进行定位,同时对读写光进行伺服锁轨,使其按特定的轨迹移动。
[0021]与现有技术相比,本技术的有益效果为:根据本技术的存储介质,不易受外部环境的影响,相对于传统反射式的全息存储介质来说更稳定,且第一基板、第二基板、记录层和二向色层之间没有间隔设计,不需要在存储介质两侧分别设计记录层就可以实现双面读写,加工工艺简单。
附图说明...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种透射式全息存储介质,其特征在于,包括第一基板、第二基板、记录层和二向色层,记录层用于读写记录载有数据信息的全息图,第二基板朝向记录层一侧的表面刻有凹凸结构,用于伺服光束定位读写位置,同时实现伺服索轨功能,二向色层能反射伺服光束并透射读写光,所述二向色层的厚度介于600nm

760nm之间。2.根据权利要求1所述的透射式全息存储介质,其特征在于,所述二向色层均匀涂布在第二基板的凹凸结构表面。3.根据权利要求2所述的透射式全息存储介质,其特征在于,第一基板位于记录层远离二向色层的一侧,第二基板位于二向色层远离记录层的一侧,记录全息图时,从第一基板或第二基板入射的参考光和信号光在记录层发生干涉并使得记录层曝光生成全息图;再现全息图上的数据信息时,参考光透过第一基板或第二基板入射,并透过记录层和二向色层后,最终透过第二基板或第一基板,在介质另一侧实现全息信息的读取。4.根据权利要求3所述的透射式全息存储介质,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡德骄刘义诚田军
申请(专利权)人:广东紫晶信息存储技术股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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