记录介质制造技术

本发明专利技术揭示一种光贮存介质，在一较佳实施例中，一基片上具有一膨胀层，一记忆层与基片相对，一液体反射层毗连记忆层，且或毗连或相对膨胀层，反射层被保护层封住，本发明专利技术还揭示改进的膨胀层和记忆层。（*该技术在2010年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
本申请是1989年5月25日递交的美国专利申请第07/357377号的部分继续申请，美国专利申请第07/357377号是1989年1月10递交的美国专利申请第07/294723号的部分继续申请，美国专利申请第07/294723号是1988年2月5日递交的美国专利申请第07/153288号的部分继续申请;本申请也是1989年11月28日同时递交的美国专利申请第07/414041号和第07/414044号的部分继续申请。上述申请由此依据实际的应用而使每一申请相互联系。本专利技术一般涉及记录介质领域，尤其是本专利技术的一个实施例提供一种可抹去的光存储介质和可以记录数据且在一些实施例中可以用热，尤其是光抹去所记录的数据的写/读/抹机理。众所周知激光唱片形式的光数据存储介质作为一种替代物，以替代慢转密纹唱片和盒式磁带。消费者熟悉的唱片是光只读唱片，而且普通的唱机是为这种唱片而特别设计的。这些唱片具有一包含以二进制形式表示数据的凹槽的反射表面，这些凹槽的描述和它们工作方法由Watkinson的“数字声频技术”一书的第13章“聚焦”所揭示。凹槽增加了等于半波长的激光束的光路，由此当与其他(没有偏移的)反射光束混合时产生相消干涉，这样数据的出现使反射光的强度下降，因此当不产生相消干涉时，在标准唱机上的检测系统设计成需要大于70%的反射光，当数据出现时调节幅度大于30%，这些强度限制与聚焦参数组合，为在这种唱机上可读或放的激光唱片和其他光数据存储介质建立标准。待批专利申请第294723号(转让给本申请的受让人)描述一种改进的光记录方法和装置。在一实施例中，本专利技术包括一膨胀层、一反射层和一记忆层，当膨胀层受热膨胀时，凸入薄反射层且可能凸入记忆层，记忆层一般由保护层包住。在另一实施例中，记忆层设置在反射层和膨胀层之间，在任何情况下，例如记忆层凸入足够柔顺以允许变形的保护层，反射层例如描述成由镓、铝、铜、银、金和铟制成。虽然上述的光介质基本上是成功的，但有一个或多个限制，例如，在一些实施例中需要二种激光，每种产生各自的波长一“记录激光”，它发出波长相应于膨胀层中染料的吸收频率的光束;和一“抹去激光”，它发出波长相应于记忆层中染料的吸收频率的光束。第二，这些介质的生产需要几步分开的镀覆操作，因此由于如镀层缺陷、粉尘和整理，增加了缺陷的产生，而且生产费用也随每一附加的镀覆操作而增加。而且，上述光记录方法和介质要求反射层能经得起反复弯曲和/或如记忆层之类的聚合物层之间有足够的粘合力以避免两层之间的界面分离。而且，需要大量的能量以在固体或有延伸性的保护层上产生凸缘。从上述可以看到，改进的光记录介质和在其上写和抹数据的改进的方法一直是所期望的。本专利技术揭示一种光记录方法和装置。在一实施例中，一软材料层，一般高于其熔点或一过冷液体，在一光记录介质中与一记忆层或膨胀层毗连。在第一实施例中，软层与形成在膨胀层上或替代软层中的容积的凸缘相比较最好相当厚，因此由凸缘替代的软材料通过增加的压力在如一保护层中的大面积上调整，从而由于凸缘形变遇到更少的阻碍，使凸缘更容易形成。而且，软化区能较好地经得起反复弯曲且保证限制软化层从膨胀层上分开。根据第一实施例，本专利技术包括一基片;一膨胀区，一般毗连基片，在一写波长光照射下膨胀区膨胀;和用于接纳由膨胀区膨胀引起的一容积的装置，接纳装置包括在记录介质的操作温度上的一很软的材料、一液体或一蒸汽层，接纳装置最好是一液体金属。本专利技术也揭示一种在介质上记录数据的方法。在第一实施例中，该方法包括下述步骤将光照射在介质上，介质包括一膨胀区，膨胀区在光的照射下膨胀;在一液体或蒸汽层内接纳一膨胀区的膨胀容积;和在膨胀状态下保持膨胀区。记忆功能可以由一在软层的一侧的分开的记忆层或通过将记忆性能加入膨胀层由此形成一单活性或膨胀/记忆层而得到。在第二实施例中，本专利技术包括一基片;一膨胀区，一般毗连基片，在一写波长光照射下膨胀区膨胀;和用于接纳由膨胀区膨胀引起的一容积的装置，接纳装置包括在记录介质的操作温度上的一很软的材料、一液体或一蒸气层。然而，与前述的第一实施例相比较，反射材料层，一般为高于其熔点或过冷液体的软金属，相对于从膨胀层上形成的凸缘的高度是相当薄的。该实施例部分基于对很薄的膜的反射性能很大程度上根据层的厚度的观察，很薄的膜的反射率比较厚的膜低得多。在一特别的实施例中，凸缘完全穿透软材料，记忆功能可以从一在软材料的一侧或另一侧的记忆层或通过将记忆性能加入膨胀层由此形成一单活性层或膨胀/记忆层而得到。在这种介质上记录和抹去数据的方法也被提供。在第三实施例中，本专利技术一般包括一基片;一膨胀区，一般毗连基片，在一写波长光照射下所述膨胀区膨胀;和用于接纳由膨胀区膨胀引起的一容积的装置，接纳装置包括在记录介质的操作温度上的一反射材料(最好为一很软的材料)、一液体或一蒸气层。然而，与前述第一和第二实施例相比较，反射材料层的厚度与从膨胀层上形成的凸缘的高度相差不大。该实施例部分基于如这里所述的对很薄的膜的反射性能对层厚很敏感的观察，很薄的层的反射率比厚的层低得多。在一特别的实施例中，凸缘几乎但不完全穿透材料，该材料最好是流体，因而薄层部分相对于层的其余部分大大改变了其反射性能。记忆功能可以从一分开的记忆层、或通过将记忆性能加入膨胀层由此形成一单活性层或膨胀/记忆层、或通过将记忆性能加入反射层由此形成一单反射/记忆层而得到。本专利技术也揭示改进的光记录介质材料。在一实施例中，介质包括一膨胀层，膨胀层在至少具有一种波长的光照射下膨胀，膨胀层由一第一环氧树脂构成;一记忆层，记忆层适于保持处于膨胀状态的膨胀层，记忆层由一第二环氧树脂构成，第二环氧树脂的玻璃化温度高于第一环氧树脂。在较佳实施例中，膨胀层的玻璃化温度低于约50℃，记忆层的玻璃化温度约为80℃至120℃。另外，记忆功能可以加入膨胀层，以提供一单组合的膨胀/记忆层或活性层。在另一些实施例中，介质由特别排列的层组成。例如，在各实施例中，膨胀层毗连基片;夹在膨胀层和一记忆层中间的是一用作反射层的液体或蒸汽“流体”层。其他各实施例重新对层进行排列，以将一记忆层夹在膨胀层和用作反射层的软固体、液体或蒸汽层中。其他各实施例对层进行重新排列以在膨胀层和软的、液体或蒸汽层之间提供一记忆夹层，或将膨胀和记忆功能组成一单活性层，一般是一均质层。附图说明图1是说明本专利技术的一实施例的一记录介质的剖视图。这种形式具有分开的膨胀层和记忆层，排列顺序为(基片)-膨胀层-记忆层-反射层-(保护层)，其中在括号内的那些层可任意选择的;图2是图1中所说明的介质的俯视图;图3说明本专利技术的另一实施例，这种形式具有一单活性层，其中活性层综合了膨胀层和记忆层的性能，排列顺序为(基片)-活性层-反射层-(保护层);图4A和4B说明各个实施例所记录的凸缘(bump)，图4A说明图1中具有一记录的“凸缘”的基片的一部分，图4B说明图3中具有一记录的“凸缘”的基片的一部分;图5说明一用于记录、抹去和阅读介质的电-光系统;图6说明一具有很薄反射层的光介质的实施例，这种形式在反射层的相对侧具有分开的膨胀层和记忆层，排列顺序为(基片)-膨胀层-反射层-记忆层-(保护层);图7说明具有很薄的软反射层的另一实施例，这种形式在反射层的任一侧具有分开本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种记录介质，它包括：ａ）一基片；ｂ）一毗连所述基片的膨胀区，所述膨胀区在具有一写波长的写光束照射下膨胀，以在其上形成一可检测的凸缘；和ｃ）用于接纳由所述膨胀区膨胀引起的一容积的装置，接纳装置包括在所述记录介质的操作温度上的一液 体或蒸汽层。

【技术特征摘要】
US 1989-5-25 357,377;US 1989-9-28 414,041;US 1989-1.一种记录介质，它包括a)一基片；b)一毗连所述基片的膨胀区，所述膨胀区在具有一写波长的写光束照射下膨胀，以在其上形成一可检测的凸缘；和c)用于接纳由所述膨胀区膨胀引起的一容积的装置，接纳装置包括在所述记录介质的操作温度上的一液体或蒸汽层。2.根据权利要求1所述的一种记录介质，其特征在于，所述膨胀区包括一膨胀层。3.根据权利要求1所述的一种记录介质，还包括一记忆层，其特征在于，所述记忆层在抹光束的照射下不再保持所述可检测的凸缘。4.根据权利要求1所述的一种记录介质，包括一膨胀层和一记忆层。5.根据权利要求1所述的一种记录介质，其特征在于，所述膨胀层包括一活性层。6.根据权利要求1所述的一种记录介质，其特征在于，所述接纳装置厚度约在0.5和1.5微米之间。7.根据权利要求1所述的一种记录介质，其特征在于，所述接纳装置的厚度约为1微米。8.一种用于记录和抹去数据的光记录介质，它包括，a)一基片;b)一毗连所述基片的膨胀层，所述膨胀层在具有一写波长的写光束照射而得到局部加热下膨胀，且在其上形成一可检测的凸缘;c)一记忆层，所述记忆层在所述写光束停止照射后保持所述可检测的凸缘，且在具有一抹波长的抹光束照射下消除所述凸缘;和d)一毗连所述记忆层的液体或蒸汽层，所述液体或蒸汽层接纳一来自所述可检测的凸缘的膨胀容积。9.根据权利要求8所述的一种光记录介质，其特征在于，所述液体或蒸汽层毗连所述膨胀层。10.一种用于记录和抹去数据的光记录介质，它包括a)一基片;b)一毗连所述基片的活性层，所述活性层在具有一写波长的写光束照射而得到局部加热下膨胀，且在所述写波长光停止照射后在其上形成一可检测的凸缘，所述活性层在具有一抹波长的抹光束照射下回缩成一平面状态;和c)一液体或蒸汽层。11.一种用于记录和抹去数据的光记录介质，它包括a)一基片;b)一毗连所述基片的活性层，所述活性层在具有一写波长的写光束照射而得到局部加热下膨胀，且在所述写波长光停止照射后在其上形成一可检测的凸缘，所述活性层在具有一抹波长的抹光束照射下回缩成一平面状态;和c)一液体或蒸汽层，所述层是足够薄，使所述可检测的凸缘穿透所述液体或蒸汽层。12.根据权利要求11所述的一种记录介质，其特征在于，将所述膨胀层与所述记忆层相比较，吸收所述抹光束的比率约在1∶10和10∶1之间。13.根据权利要求11所述的一种记录介质，其特征在于，将所述膨胀层与所述记忆层相比较，吸收所述抹光束的比率约在1∶5和5∶1之间。14.根据权利要求11所述的一种记录介质，其特征在于，将所述膨胀层与所述记忆层相比较，吸收所述抹光束的比率约在1∶2和2∶1之间。15.根据权利要求11所述的一种记录介质，其特征在于，将所述膨胀层与所述记忆层相比较，吸收所述抹光束的比率约为1∶1。16.根据权利要求1、8、9、10或11所述的一种光记录介质，其特征在于，所述液体或蒸汽层是反射层。17.根据权利要求1、8、9、10或11所述的一种光记录介质，其特征在于，所述液体或蒸汽层包括一金属层。18.根据权利要求1、8、9、10或11所述的一种光记录介质，其特征在于，所述液...

【专利技术属性】
技术研发人员：布赖恩K克拉克，舍里耶L约翰逊，罗伯特格拉，
申请(专利权)人：坦迪公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]