隙间有金属的磁头制造技术

一种磁头，其通过防止在磁心产生摆动噪音以及改善再生波形的非对称性而不会在再生过程中产生错误读取，其中，磁性涂层形成于第一磁块及第二磁块的至少一个上，其厚度小于一轨迹宽度的一半及一深度长度，且不大于一表层厚度的两倍，并且设于第二磁块的磁性涂层的厚度不小于设于第一磁块的磁性涂层的１．５倍。（*该技术在2012年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种磁头，特别是一种用于硬盘驱动装置等的浮动磁头。一种具有示于图6的形式的被称为隙间有金属(metal-in-gap)型的磁头公知为是一种用于硬盘驱动的磁头。这种metal-in-gap型的磁头包括一类，其中具有预定厚度并由如Fe-Al-si合金(铝硅铁磁合金)，坡莫合金或非晶体合金等磁性金属制成的涂层2设置于一第一磁块1a和一第二磁块1b的相对端面之一上，例如设置于第二磁块1b的端面上，所述磁块均由多晶铁气体制成，且一磁隙由如SiO2等的非磁性材料构成的隙层3形成于磁性涂层2和另一磁块即第一磁块1a的相对端面之间。这种磁头的另一类中，所述磁性涂层2设置于第一磁块1a和第二磁块1b的两者上，如图7所示。一般地，磁记录介质从第一磁块1a向第二磁块1b运动，如图6中箭头所示，以读取该磁记录介质上记录的信号或将信号记录到磁记录介质上。这种metal-in-gap型磁头的优点是，与普通的在两磁块1a，1b的相对端面上未设置磁性涂层的磁头相比，它能提供一强且尖锐的记录磁场，因此它作为适用于最近的要求实现高密度记录的硬盘驱动的磁头而引起人们的重视。然而，在上述的的metal-in-gap型的磁头中，由于所述磁性涂层2的厚度比第一磁块1a和第二磁块1b的厚度薄，在再生信号的过程中磁力线穿过由多晶铁气体制成的第一和第二磁块1a和1b并在第一和第二磁块的多晶铁氧体内引起磁畴结构的扰动。相应地，由第一和第二磁块1a、1b及磁性涂层2构成的磁路被影响而在磁头再生信号过程中引起噪音。这些噪音一般被称作摆动噪音，它们会影响由磁头再生的波形的不对称性，甚至会导致磁头的读出错误。特别是当磁头尺寸减小而磁路亦变小时，这种影响即增大，因此这是减小磁头尺寸的一大障碍。作为引起上述摆动噪音的原因，不仅是铁氧体内磁畴结构的扰动，还有由所述多晶铁氧体和连接磁芯的连接玻璃间热膨胀系数的不同而引起的应力应变也可被想到，然而，所有这些原因都不是很清楚。解决这些问题的方法包括控制磁性涂层的晶粒取向及在一磁场中溅射等形成该磁性涂层，然而，这些方法带来了如下问题，即，控制磁性涂层的晶粒取向要求严格的溅射控制而在磁场中溅射的过程要求大型设备。因此本专利技术的目的在于消除上述不足，根据本专利技术的第一方面，提供了一磁头，其包括一连接一第一磁块和一第二磁块而形成的磁芯，一由软磁性材料制成的磁性涂层形成于至少第一和第二磁块之上，该磁性涂层设置于第一和第二磁块之间;其中，由软磁性材料形成的磁性涂层的厚度不小于一轨迹宽度的一半，也不小于一深度长度，且不大于一表层厚度的两倍。根据本专利技术的第二方面，所述磁性涂层设置于所述第一和第二磁块两者上，并且设置于第二磁块上的磁性涂层的厚度不小于设置于如本专利技术第一方面所述的磁头的第一磁块上的涂层厚度的1.5倍。通过采用上述磁头结构，磁力线在磁头再生信号的过程中不太容易穿过磁芯的多晶铁氧体部分，且多晶铁氧体部分中的磁畴结构不受影响。相应地，在磁头再生信号过程中不会产生摆动噪音，并且非对称性的稳定程度和磁头再生特性得到改善并使得获得高密度记录成为可能。附图的简要说明附图说明图1是根据本专利技术一实施例的磁芯的剖视图;图2是根据本专利技术的一磁芯和一滑块的示意图;图3显示了本专利技术的另一实施例;图4是一显示磁性涂层厚度与非对称性变化关系的曲线;图5是一显示磁性涂层厚度比与非对称性变化关系的曲线;图6是一习用磁芯的剖视图;图7是另一习用磁芯的剖视图。以下将参照附图对本专利技术实施例详细描述。图1和图2显示了根据本专利技术的磁芯的一个实施例，图3显示了另一实施例。在一实施例的磁头中，由Fe-Al-Si(铝硅铁磁合金)等制成的一磁性涂层由如溅射等方法形成于由多晶铁氧体制成的一第一磁块1a和一第二磁块1b相对端面之一上，例如，形成于第二磁块的端面上，如图1所示。然后一如SiO2的非磁性体的隙层3被形成以构成一磁芯10。该磁芯即形成一如图1中曲线所示的磁路。图1顶部的箭头显示磁记录介质的运动方向，而L显示一深度长度。在所述磁芯10中，轨迹的周边被连接玻璃所保护，如图2所示。在本实施例中，所述第一磁块侧1a成为前侧，而所述第二磁块侧1b成为后侧。所述第一磁块1a与一滑块5做成为一体，而所述第二磁块1b由连接玻璃4连接于所述第一磁块1a。磁记录介质沿图中箭头所示方向运动。W表示一轨迹宽且磁头在轨迹宽W内记录和再生信号。图4是一显示磁头的磁性涂层2的厚度和非对称性变化的关系的曲线，其中横坐标轴表示磁性涂层2的厚度(单位μm)，而纵坐标轴表示非对称性变化(单位nS)。至于磁头，采用了一轨迹宽度W为8μm而深度长度L为4μm的磁头。由图中可看出，当厚度不大于4μm时，非对称性变坏。相应地，磁性涂层2的厚度应大于轨迹宽度W的一半，或深度长度L。然而，当所述磁性涂层的厚度增大，涡流损失亦增大。涡流损失的增大导致再生信号输出的降低，因此该厚度不能增大到超过所需。一般地，当涂层2的厚度大于表层厚度δ＝(ρ/πfμeff)1/2的两倍时(其中，ρ是一特定电阻，f是一频率，而μeff是一磁导率)，涡流损失增大的影响即不能忽略，涂层2的厚度应控制在不大于该表层深度的两倍。典型地，在此类磁头中，轨迹宽度被定为6～11μm，且深度长度被定为2～10μm，而表层厚度δ此时约为11μm。根据该磁头的规格，轨迹宽度的一半不一定等于深度长度，在这种情况下，要求磁性涂层的厚度比该二尺寸都大，以使本专利技术完全有效。本专利技术的另一实施例描述如下。图3显示了根据本专利技术另一实施例的磁芯的剖面图。与图1所示实施例不同之处在于，一磁性涂层2a设置于前侧的第一磁块1a上。图5是一显示设置于第二磁块1b(后侧)上的磁性涂层2的厚度和设置于第一磁块1a(前侧)上的磁性涂层2a的厚度的比值与非对称性变化的关系的曲线。其中横坐标轴表示后侧的磁性涂层2的厚度T和前侧的磁性涂层2a的厚度D的比值，而纵坐标轴表示非对称性变化。由图中可看出，当T/D大于1.5时，非对称性变化急剧减小。即使在此情况下，磁性涂层2和2a的厚度最好分别控制在不大于表层深度δ(约为11μm)的两倍，以控制涡流损失的影响。虽然本专利技术的实施例已如上描述，但本专利技术的技术范围并不限于上述实施例的浮动磁头，而可应用于一磁带录象机的图象用磁头或一薄膜磁头等。如上所述，根据本专利技术，提供了一种具有低摆动噪音和稳定的非对称性再生波形的磁头。相应地，可防止错误读取并使减小磁头尺寸成为可能。另外，根据本专利技术，诸如严格的溅射率控制或在磁场中完成溅射的麻烦可被消除。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁头，其通过防止在磁心产生摆动噪音以及改善再生波形的非对称性而不会在再生过程中产生错误读取，其中，磁性涂层形成于第一磁块及第二磁块的至少一个上，其厚度小于一轨迹宽度的一半及一深度长度，且不大于一表层厚度的两倍，并且设于第二磁块的磁性涂层的厚度不小于设于第一磁块的磁性涂层的１．５倍。

【技术特征摘要】
JP 1991-9-3 250431/911.一种磁头，包括一由连接一第一磁头和一第二磁块而形成的磁芯，一由软磁性材料制成的形成于至少所述第一和第二磁块之一上的磁性涂层，该磁性涂层设置于第一和第二磁块之间，其中，该由...

【专利技术属性】
技术研发人员：新田敦已，野岛刚，齐藤昭次，
申请(专利权)人：阿鲁普斯电气株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]