一种适用于刻蚀机氮气供应分配装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及半导体设备技术领域，特别涉及一种适用于刻蚀机氮气供应分配装置。具有安装板，所述安装板上设置有减压阀，所述减压阀一端连接有压力计，另一端连接有第一隔膜阀，所述压力计另一端和三通焊接管的第一端口连接，所述三通焊接管的第二端口连接有第二隔膜阀，所述三通焊接管的第三端口连接有第三隔膜阀，所述第一隔膜阀另一端连接有过滤器，所述过滤器另一端连接有转接头。本实用新型专利技术节约了内部使用空间，降低了使用成本，便于维护。通过减压阀使得机台用气压不受气源气压干扰，保证了机台用气可靠性，固定底板通孔式设计使更换阀件更加便利，提高效率的同时也保证了可靠性。性。性。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于刻蚀机氮气供应分配装置


[0001]本技术涉及半导体设备
，特别涉及一种适用于刻蚀机氮气供应分配装置。

技术介绍

[0002]等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气体被导入并与等离子体进行交换。等离子体在工件表面发生反应，反应的挥发性副产物被真空泵抽走。等离子体刻蚀工艺实际上便是一种反应性等离子工艺。近期的发展是在反应室的内部安装成搁架形式，这种设计的是富有弹性的，用户可以移去架子来配置合适的等离子体的蚀刻方法：反应性等离子体(RIE)，顺流等离子体(downstream)，直接等离子体(direction plasma)。
[0003]现有的氮气分配装置占用了机台的内部空间，不利于设备的维护。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是克服现有技术存在的缺陷，提供一种适用于刻蚀机氮气供应分配装置。
[0005]实现本技术目的的技术方案是：一种适用于刻蚀机氮气供应分配装置，具有安装板，所述安装板上设置有减压阀，所述减压阀一端连接有压力计，另一端连接有第一隔膜阀，所述压力计另一端和三通焊接管的第一端口连接，所述三通焊接管的第二端口连接有第二隔膜阀，所述三通焊接管的第三端口连接有第三隔膜阀，所述第一隔膜阀另一端连接有过滤器，所述过滤器另一端连接有转接头。
[0006]进一步的，所述减压阀和第一隔膜阀之间设置有直通焊接管，所述第一隔膜阀和过滤器之间设置有直角焊接管。
[0007]进一步的，所述第一隔膜阀为直通型隔膜阀。
[0008]进一步的，所述第二隔膜阀为两段式隔膜阀。
[0009]进一步的，所述第三隔膜阀为气动隔膜阀。
[0010]进一步的，所述转接头为卡套转VCR接头。
[0011]进一步的，所述第一隔膜阀、第二隔膜阀、第三隔膜阀底部设置有缓冲垫。
[0012]采用上述技术方案后，本技术具有以下积极的效果：
[0013](1)本技术节约了内部使用空间，降低了使用成本，便于维护。
[0014](2)本技术通过减压阀使得机台用气压不受气源气压干扰，保证了机台用气
可靠性，固定底板通孔式设计使更换阀件更加便利，提高效率的同时也保证了可靠性。
附图说明
[0015]为了使本技术的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本技术作进一步详细的说明，其中
[0016]图1为本技术的结构示意图；
[0017]图2为本技术的装配图。
具体实施方式
[0018]见图1和图2，本技术具有安装板1，安装板1上设置有减压阀2，减压阀2一端连接有压力计3，另一端连接有第一隔膜阀4，压力计3另一端和三通焊接管5的第一端口连接，三通焊接管5的第二端口连接有第二隔膜阀6，三通焊接管5的第三端口连接有第三隔膜阀7，第一隔膜阀4另一端连接有过滤器8，过滤器8另一端连接有转接头9。第一隔膜阀4、第二隔膜阀6、第三隔膜阀7底部设置有缓冲垫12。减压阀2和第一隔膜阀4之间设置有直通焊接管10，第一隔膜阀4和过滤器8之间设置有直角焊接管11。第一隔膜阀4为直通型隔膜阀。第二隔膜阀6为两段式隔膜阀。第三隔膜阀7为气动隔膜阀。转接头9为卡套转VCR接头。
[0019]本技术工作原理：通过上述的若干减压阀使得机台用气压不受气源气压干扰，保证了机台用气可靠性，固定底板通孔式设计使更换阀件更加便利，提高效率的同时也保证了可靠性。
[0020]以上所述的具体实施例，对本技术的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本技术的具体实施例而已，并不用于限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于刻蚀机氮气供应分配装置，其特征在于：具有安装板(1)，所述安装板(1)上设置有减压阀(2)，所述减压阀(2)一端连接有压力计(3)，另一端连接有第一隔膜阀(4)，所述压力计(3)另一端和三通焊接管(5)的第一端口连接，所述三通焊接管(5)的第二端口连接有第二隔膜阀(6)，所述三通焊接管(5)的第三端口连接有第三隔膜阀(7)，所述第一隔膜阀(4)另一端连接有过滤器(8)，所述过滤器(8)另一端连接有转接头(9)。2.根据权利要求1所述的适用于刻蚀机氮气供应分配装置，其特征在于：所述减压阀(2)和第一隔膜阀(4)之间设置有直通焊接管(10)，所述第一隔膜阀(4)和过滤器(8)之间...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖海涛，孙文彬，林政勋，
申请(专利权)人：无锡邑文电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：