一种COF卷带精准蚀刻管控系统及蚀刻系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种COF卷带精准蚀刻管控系统及蚀刻系统，包括蚀刻上单元、蚀刻下单元、回收单元、第一造液单元、第一添加剂原液单元、第二添加剂原液单元、酸原液单元、第一送液单元、第二送液单元、第二造液单元、强氧化剂原液单元、高效液相色谱仪和电位测量仪，蚀刻上单元与蚀刻下单元通过管道连接。本实用新型专利技术大大减少了高成本的蚀刻添加剂的使用，控制了药液成本，同时减少了对环境的影响和废液处理的成本。成本。成本。

【技术实现步骤摘要】
一种COF卷带精准蚀刻管控系统及蚀刻系统


[0001]本技术涉及COF Film生产领域，特别涉及一种COF卷带精准蚀刻管控系统及蚀刻系统。

技术介绍

[0002]柔性薄膜(flexiblefilm)经过许多工程移送的曝光、显影及蚀刻等阶段在薄膜表面形成预定线路图案，如COF(Chip On Film)，覆晶薄膜。柔性薄膜由于容易弯曲的性质，一般以卷对卷(Roll to Roll)的方式从一侧轮上转出，再收卷至另外一侧轮。
[0003]在COF Film生产工艺中，为了对金属形成微细线路，需要使用蚀刻液对COF Film进行微蚀，微蚀是在COF Film的电路形成中，选择性地只留下电路，而去除铜及铜合金的工艺。
[0004]在高价Cu离子+酸+添加剂的蚀刻体系中，高价Cu离子具有氧化性，可以将Cu氧化成Cu
+
，蚀刻反应为：
[0005]高价Cu离子+Cu
→
低价Cu离子
[0006]随着蚀刻工艺的进行，副产物Cu
+
不断增加，蚀刻能力随之下降，而COF蚀刻需要实现蚀刻精细管控，因此蚀刻液的各组分需要稳定在一定范围内才能使蚀刻实现精细管控(否则产品不符合生产要求)，随着生产反应的进行，浓度逐渐偏离有效范围，当偏出目标范围后，原有蚀刻液不符合蚀刻要求。
[0007]现有的方式是当蚀刻液偏出目标范围后，将旧蚀刻液整体排走，重新加入新蚀刻液生产，排走的药液进行后续废液处理，虽然废液可以通过再生后再使用，但是，整个蚀刻工序长时期不能连续生产(连续生产只能在同一次蚀刻液时进行)。而重新药液配置，耗费大量药液，同时排走的药液后期处理也需浪费大量资源。

技术实现思路

[0008]针对上述缺陷，本技术一方面提供一种蚀刻液自主回收系统，大大减少了高成本的蚀刻添加剂的使用，控制了药液成本，同时减少了对环境的影响和废液处理的成本。
[0009]本技术中，为了能够保持蚀刻能力，需要对蚀刻废液进行再生，使低价Cu离子重新转变为高价Cu离子，蚀刻液恢复正常蚀刻能力，现有通过添加双氧水等强氧化剂的方式使蚀刻液进行再生，反应为：
[0010]低价Cu离子+酸+强氧化剂
→
高价Cu离子+H2O
[0011]本技术提供一种蚀刻液自主回收系统，所述COF卷带精准蚀刻管控系统包括蚀刻上单元、蚀刻下单元、回收单元、第一造液单元、第一添加剂原液单元、第二添加剂原液单元、酸原液单元、第一送液单元、第二送液单元、第二造液单元和强氧化剂原液单元，蚀刻上单元与蚀刻下单元通过管道连接，回收单元分别与蚀刻下单元和第一造液单元通过管道连接，第一造液单元还分别与第一添加剂原液单元、第二添加剂原液单元、酸原液单元和第一送液单元通过管道相连，第一送液单元还与蚀刻下单元通过管道相连，第二送液单元分
别与第二造液单元和蚀刻下单元通过管道相连，第二造液单元还与强氧化剂原液单元相连，COF卷带精准蚀刻管控系统还分别设置有用于检测蚀刻下单元中的蚀刻液浓度的高效液相色谱仪和用于检测蚀刻下单元中的蚀刻液电位的电位测量仪。一方面通过将溢出的蚀刻液经回收单元送入第一造液单元并在第一单元中与从第一添加剂原液单元、第二添加剂原液单元、酸原液单元来的补充量混合后送入蚀刻下单元，另一方面将氧化液直接加入蚀刻下单元，不但实现了高成本的蚀刻添加剂的精确管控，而且实现了对蚀刻液浓度的精细管控。通过高效液相色谱仪分析蚀刻液浓度，电位测量仪检测强氧化剂，确保了蚀刻液中不含有强氧化剂，杜绝了强氧化剂对添加剂的影响。
[0012]本技术还提供一种COF卷带精准蚀刻管控系统，包括第一水洗单元、第二水洗单元、酸洗单元、第三水洗单元和烘干单元，所述COF卷带精准蚀刻管控系统还包括上述的COF卷带精准蚀刻管控系统，第一水洗单元、蚀刻上单元、第二水洗单元、酸洗单元、第三水洗单元和烘干单元顺次排列，蚀刻下单元位于蚀刻上单元下方。通过蚀刻液自主回收系统的设置，蚀刻无积液，实现对蚀刻液浓度的精细管控，确保铜线路的完美形状，达到蚀刻液稳定生产的目的。
[0013]与现有技术相比，本技术的有益效果在于：
[0014]①
本技术的蚀刻回收再生体系，大大减少了高成本的蚀刻添加剂的使用，控制了药液成本，同时减少了对环境的影响和废液处理的成本，本技术将溢出的药液进行回收，并在供给侧重新调整药液至蚀刻液里，通过定量的补充消耗的HCl，Cu2+和添加剂，在生产的同时给蚀刻液进行再生补充，从而实现对蚀刻液浓度的精细管控，确保铜线路的完美形状，达到蚀刻液稳定生产的目的。
[0015]②
本技术通过高效液相色谱对蚀刻液中添加剂含量进行分析，精准控制添加剂添加量，同时通过测量电位蚀刻液的电位，确保蚀刻液中不存在未反应的强氧化剂，杜绝了强氧化剂对添加剂的影响。
附图说明
[0016]图1是本技术COF卷带精准蚀刻管控系统示意图；
[0017]图2是本技术COF卷带精准蚀刻系统示意图。
具体实施方式
[0018]下面将结合附图对本技术作进一步说明。
[0019]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“底”、“顶”、“长度方向”、“宽度方向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0020]在本技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“贴合”、“连接”应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，
可以是焊接，也可以是封装连接等，对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0021]参考图1，图1为一种COF卷带精准蚀刻管控系统。
[0022]如图1，一种COF卷带精准蚀刻管控系统，包括蚀刻上单元20、蚀刻下单元1、回收单元2、第一造液单元3、第一添加剂原液单元4、第二添加剂原液单元5、酸原液单元6、第一送液单元10、第二送液单元9、第二造液单元8和强氧化剂原液单元7，蚀刻上单元20与蚀刻下单元1通过管道连接，回收单元2分别与蚀刻下单元1和第一造液单元3通过管道连接，第一造液单元3还分别与第一添加剂原液单元4、第二添加剂原液单元5、酸原液单元6和第一送液单元10通过管道相连，第一送液单元10还与蚀刻下单元1通过管道相连，第二送液单元9分别与第二造液单元8和蚀刻下单元1通过管道相连，第二造液单元8还与强氧化剂原液单元7相连。
[0023]本技术中，蚀刻下单元1接收本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种COF卷带精准蚀刻管控系统，其特征在于：所述COF卷带精准蚀刻管控系统包括蚀刻上单元(20)、蚀刻下单元(1)、回收单元(2)、第一造液单元(3)、第一添加剂原液单元(4)、第二添加剂原液单元(5)、酸原液单元(6)、第一送液单元(10)、第二送液单元(9)、第二造液单元(8)和强氧化剂原液单元(7)，蚀刻上单元(20)与蚀刻下单元(1)通过管道连接，回收单元(2)分别与蚀刻下单元(1)和第一造液单元(3)通过管道连接，第一造液单元(3)还分别与第一添加剂原液单元(4)、第二添加剂原液单元(5)、酸原液单元(6)和第一送液单元(10)通过管道相连，第一送液单元(10)还与蚀刻下单元(1)通过管道相连，第二送液单元(9)分别与第二造液单元(8)...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑先锋，桂珍珍，
申请(专利权)人：合肥颀中材料技术有限公司，
类型：新型
国别省市：