光学记录介质及其制造方法以及光学记录和再现装置制造方法及图纸

在此公开了一种光学记录介质，介质包括一个至少一层的信息层（１１），在其上以Ｎ．Ａ．（数值孔径）／λ（波长）≥１．２（μｍ↑［－１］）的光学参数执行至少记录和再现中的任意一项，并且至少在其信息信号区域，在等于或大于执行至少记录和再现中的任意一项的光学记录和再现装置的伺服截止频率的波带处，焦点误差量是等于或小于±λ／（Ｎ．Ａ．）↑［２］／８，而当只进行再现时焦点误差量在±λ／（Ｎ．Ａ．）↑［２］／４之内。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光学记录介质和使用该光学记录介质进行光学记录和再现的装置，以及制造该光学记录介质的方法。在这种情况中，光学记录介质以及光学记录和再现的装置指明为至少分别执行光学记录和再现中任意一项的光学记录介质和光学记录和再现的装置。另外，通过用激光进行光学记录和再现，尤其是高密度的记录。当利用激光对光学记录介质执行光学记录和再现(下文简称记录和再现)中的至少任意一项时，如果假定激光的波长取为λ，透镜系统即记录和再现装置的物镜的数值孔径取为N.A.，则记录和再现激光束的斑点直径由下式(1)表示＝1.22λ/(N.A.)........(1)因此，如果打算在光学记录介质如光盘上形成高密度记录，则有效的做法是把λ设置成较小，即波长设置的较短而N.A.设置成较大。至于记录和再现装置中机械特性的散射的容限量，如果假定光记录介质的激光入射面上透光层的厚度为t，则已知可以建立下列关系焦深FD＝λ/(N.A.)2........(2)光学记录介质的倾斜(歪斜)容限(极限)SM∝λ/(N.A.)3/t........(3)透光层的极限厚度tTM∝λ/(N.A.)4........(4)因为在传统的光学记录和再现装置如CD(密集盘)中λ＝0.78μm，N.A.＝0.45，故从上面的关系式中可以得出＝2.11μmFD＝3.85μmSM＝8.56α/t(α是任意常数)TM＝19.02β(β是任意常数)因为在DVD(数字视盘)的记录和再现装置中，λ＝0.65μm，N.A.＝0.6，故，从上面的关系式中可以得出＝1.32μmFD＝1.81μmSM＝3.01α/tTM＝5.02β把CD和DVD的各个值进行相互比较时，DVD的SM大约是CD的1/3，因此对于传统的CD需要把DVD的歪斜压制到1/3。事实上，CD的歪斜标准是0.6°，因此几乎不可能压制到0.2°。因此，为了校正歪斜，透光层的厚度t做成0.6mm或是CD厚度的一半，由此，歪斜极限SM翻倍，标准为0.4°。关于厚度不匀度的极限，因为与对应于CD激光入射面上的透光层的透明塑料基底的厚度误差设为100μm这一事实相比，DVD约是CD的1/4或更少，所以把DVD的厚度误差压制到30μm。这一值完全可以通过传统的制造基底的浇铸技术达到。至于FD，DVD的FD大约是CD的FD的1/2。在制造DVD时，还可以通过传统的浇铸技术和粘合技术在焦深内设置目标信息层。然而，因为希望DVD的记录容量从4.7GB(千兆字节)进一步增大以提高记录密度，所以需要N.A从传统DVD的值进一步增大。关于这一需要，正如本申请同一申请人提出的专利申请Hei9-185130中所述，建议大的N.A.由两组透镜生成。在这种情况中，N.A.肯定可以制成0.9，高于0.7。这种情况的光学参数是N.A./λ≥1.2(μm-1)，λ≤0.68μm，透光层的厚度不匀度Δt在±5.26λ/(N.A.)4μm的范围内。例如，如果N.A.＝0.85，则它是N.A.＝0.6的 倍。因此，即使不采用短波长的激光光源，表面密度也可以提高2倍。所以，如果采用与DVD相同的调制系统，可以实现4.7×2＝9.4GB的光学记录介质的光学记录盘。但是，在这种情况中，上面所述的每个极限降低。也就是如果λ＝0.64μm成立，则从上述表达式(1)～(4)可以得到下式＝0.93μmFD＝0.90μmSM＝1.06α/tTM＝5.02β以这种方式，当为了呈现高密度时，例如如上所述，N.A.增大至0.85时，则与DVD相比，其SM降至1/3，TM变为大约1/5，FD变为大约1/2，或者极限变得严格。因此，用与传统的DC或DVD相同的结构得到光学记录介质是不可能的。另外，如果使用波长为400nm或更小的激光光源，则上述的每个极限将进一步减小。本专利技术的目的在于提供一种相应于高N.A.物镜和短波长光源的光学记录介质，一种使用该种光学记录介质的光学记录和再现装置，以及一种制造该光学记录介质的方法。根据本专利技术的一方面，提供了一种光学记录介质，介质包括一个至少一层的信息层，对其以N.A.(数值孔径)/λ(波长)≥1.2(μm-1)的光学参数执行至少记录和再现中的任意一项，其中至少在其信息信号区域，在等于或大于光学记录和再现装置执行记录和再现中的至少任意一项的聚焦伺服截止频率的波带处，焦点误差量在±λ/(N.A.)2/8之内，当只进行再现时焦点误差量在±λ/(N.A.)2/4之内。根据本专利技术的另一方面，提供了一种通过使用上述的光学记录介质执行记录或再现中的任意一项的光学记录和再现装置，它包括一个波长等于或小于680nm的激光光源，和一个满足N.A./λ≥1.2(μm-1)的透镜系统。根据本专利技术的光学记录介质有一个由塑料、金属、玻璃等制成的厚度在0.3mm～1.2mm范围内的基底，基底上有一个以凹槽和凹点以及其表面形成的信号面和一个形成于信号面上的反射膜或记录膜，还有一个作为其中心的厚度为44μm～114μm的片，片的厚度不均匀范围为±/μm，被粘合层粘到反射膜或记录膜上，粘合层的厚度等于或小于6μm，其特征在于激光从片的表面即对着基底的面上入射，借此执行光学记录或再现中的至少一项。本专利技术的光学记录和再现装置利用光学介质至少执行光学记录或再现中的任一项，装置包括一个波长等于或小于680nm的激光光源，和一个满足N.A./λ≥1.2(μm-1)的透镜系统。根据本专利技术的另一方面，提供了一种制造光学记录介质的方法，包括步骤在形成在基底的至少一个面上的信号面上形成一个记录膜或反射膜，基底的厚度为0.3mm～1.2mm，把紫外线固化树脂滴注到记录膜或反射膜上，在记录膜或反射膜上放置塑料片，并高速旋转它以除去紫外线固化树脂的剩余物，通过辐照紫外线粘合塑料片而制造出一个目标光学记录介质。附图说明图1是本专利技术光学记录介质实例的截面图；图2是本专利技术光学记录介质另一实例的截面图；图3A-3C分别是本专利技术制作方法的过程图；图4是本专利技术光学记录介质的实例中片的厚度不均匀测量结果曲线图；图5是用于测量本专利技术光学记录介质特性的记录介质的伺服频率特性曲线图；图6是移走之后聚焦伺服的剩余量测量结果的曲线图；图7是波长和片的透射率关系测量结果曲线。图8是根据本专利技术的使用两组透镜系统的光学记录和再现装置示意图。下面将参考图1对本专利技术光学记录介质的实施例做一描述，其中图1是本专利技术光学记录介质实例的截面图。如图1所示，在基底10的一个表面上形成一个信息层11，在信息层上形成一个厚度为t的透光层12，基底例如可以是塑料基底，金属基底或玻璃基底等。图1所示的例子是一个在其中心有中心钻孔13的盘。图2是本专利技术光学记录介质另一实例的截面图。如图2所示，在此实施例中，类似的基底10的信号表面上形成有一个反射膜和记录膜，膜上通过粘合层15粘合一个具有透光特性的片14，由此形成一个透光层12。然而，不用说，本专利技术并不局限于上述实施例。本专利技术的光学记录介质包括信息层的至少一层，在其中的至少一层上以N.A.(数值孔径)/λ(波长)≥1.2(μm-1)的光学参数执行记录和再现中的至少任意一项。至少在其信息信号区域，在等于或大于光学记录和再现装置执行记录和再现中的至少任意一项的伺服截止频率的波带处，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学记录介质，包括： 一个至少一层的信息层，在其上以Ｎ．Ａ．（数值孔径）／λ（波长）≥１．２（μｍ↑［－１］）的光学参数执行至少记录和再现中的任意一项，其特征在于至少在其信息信号区域，在等于或大于光学再现装置的聚焦伺服截止频率的波带处，焦点误差量在±λ／（Ｎ．Ａ．）↑［２］／４之内。

【技术特征摘要】
JP 1998-6-29 182550/981.一种光学记录介质，包括一个至少一层的信息层，在其上以N.A.(数值孔径)/λ(波长)≥1.2(μm-1)的光学参数执行至少记录和再现中的任意一项，其特征在于至少在其信息信号区域，在等于或大于光学再现装置的聚焦伺服截止频率的波带处，焦点误差量在±λ/(N.A.)2/4之内。2.一种光学记录介质，包括一个至少一层的信息层，在其上以N.A.(数值孔径)/λ(波长)≥1.2(μm-1)的光学参数执行至少记录和再现中的任意一项，其特征在于至少在其信息信号区域，在等于或大于光学记录和再现装置的聚焦伺服截止频率的波带处，焦点误差量在±λ/(N.A.)2/8之内。3.如权利要求1所述的光学记录介质，其特征在于在基底的至少一个表面上形成的信号面上形成一个反射膜或记录膜，在膜上形成3～177μm的透光层。4.如权利要求2所述的光学记录介质，其特征在于在基底的至少一个表面上形成的信号面上形成一个反射膜或记录膜，在膜上形成3～177μm的透光层。5.如权利要求3所述的光学记录介质，其特征在于上述透光层的厚度不匀度Δt被设置为|Δt|2≤5.26λ/(N.A.)4(μm)6.如权利要求4所述的光学记录介质，其特征在于上述透光层的厚度不匀度Δt被设置为|Δt|2≤5.26λ/(N.A.)4(μm)7.如权利要求1所述的光学记录介质，其特征在于轨道间距P和歪斜θ被选成满足P≤0.64μmθ≤0.4°。8.如权利要求2所述的光学记录介质，其特征在于轨道间距P和歪斜θ被选成满足P≤0.64μm|θ|≤0.4°。9.如权利要求1所述的光学记录介质，其特征在于线密度选成在一个具有对应于密集盘(CD)大小的单层信息层中的记录容量等于或大于8GB。10.如权利要求2所述的光学记录介质，其特征在于线密度选成在一个具有对应于密集盘(CD)大小的单层信息层中的记录容量等于或大于8GB。11.如权利要求3所述的光学记录介质，其特征在于当λ等于或小于780nm时，所述透光层的透射率被设置成等于或大于70％。12.如权利要求4所述的光学记录介质，其特征在于当λ等于或小于780nm时，所述透光层的透射率被设置成等于或大于70％。13.一种光学记录和再现装置，利用光学记录介质通过波长为λ的激光进行光学再现，其中，光学记录介质具有至少一层的信息层，并且至少在其信息信号区域中，焦点误差在等于或大于伺服截止频率的波带处为±λ/(N.A.)2/4(N.A.是数值孔径)之内，装置包括；一个波长λ等于或小于680nm的激光光源；和一个满足N.A./λ≥1.2(μm-1)的透镜系统。14.一种光学记录和再现装置，利用光学记录介质通过波长为λ的激光进行光学记录或再现中的任意一项，其中，光学记录介质具有至少一层的信息层，并且至少在其信息信号区域中，焦点误差在等于或大于伺服截止频率的波带处为±λ/(N.A.)2/8(N.A.是数值孔径)之内，装置包括；一个波长λ等于或小于680nm的激光光源；和一个满足N.A./λ≥1.2(μm...

【专利技术属性】
技术研发人员：山崎刚，行本智美，古木基裕，柏木俊行，
申请(专利权)人：索尼株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]