光头和光信息处理设备制造技术

一种光头，有使光束会聚的物镜；有面向光记录介质、与光记录介质之间有空气层的光出射表面，从该表面向光记录介质射出经物镜会聚的光束；还有置于该光出射表面上的防光反射膜。在光出射表面中形成一凹进部分，防光反射膜设置在该凹进部分内。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及向记录介质记录数据和从记录介质读出数据的光信息处理设备，还涉及构成该光信息处理设备部件的光头。当本说明书单单提及“光记录介质”时，表示不仅包括光记录介质，也包括磁光记录介质。所以，当本说明书提及“光信息处理设备”时，表示包括能向磁光记录介质记录数据和从磁光记录介质读出数据的各种磁光盘设备，例如磁光盘。此外，当本说明书提及“光头”时，表示包括磁光头。
技术介绍
常规光头的一个例子画在图5。在该光头He中，两个物镜91和92被夹持在透镜座90内，而物镜92的平的透镜表面92a面向光盘D，其间有一空气层94。从图上没有画出的光源过来的激光，经物镜91和92会聚，在光盘D上形成光束光斑。在该种光头He中，透镜表面92a对应于物镜92和空气层94之间的界面，彼此各有不同的折射率，从而发生一种现象，就是通过物镜92传送的一些激光，在到达透镜表面92a时，被透镜表面92a反射。如果透镜表面92a反射的激光量大，则光盘D上的光辐照效率就低，从而需要降低反射量。因此，通常用防光反射膜93，或者涂覆在整个透镜表面92a，或者涂覆在透镜表面92a的激光通过部分。但是，该种常规办法存在如下问题。光头He与光盘D之间的空隙设计得非常小，因此，当光盘D因旋转而振动，或因弯曲时，可能使光头He与光盘D彼此接触。特别是，如果采用浮动滑座方法，该方法在光盘D旋转时，使光头He从光盘D浮起，然后，在光盘D停止旋转时，光头He可能与光盘D接触。但是，防光反射膜93通常只以暴露状态涂覆在面向光盘D的透镜表面92a上。这样当光头He与光盘D接触时，常常会出问题，就是防光反射膜93可能因与光盘D的直接接触而被损坏，或者，即使防光反射膜93不直接与光盘D接触，但因光头He与光盘D之间的接触而产生的振动，可能使该防光反射膜93从透镜表面92a剥落。在把光头作为磁光头的组成部分的情况下，磁光头有一产生磁场的线圈(图5中未画出)，在磁光头的制作过程中，必须避免对该线圈的热致损坏，因此，用汽相沉积或溅射法形成防光反射膜93时，是在相对低的温度氛围下进行的。但是，这样将导致防光反射膜93较低的附着力。因此，当光头He与光盘D彼此接触时，该防光反射膜93变得更易损坏。
技术实现思路
有鉴于前面所述，本申请的专利技术的一个目的，是提供一种光头和光信息处理设备，能适当防止对防光反射膜93的损坏，从而能在更长的时间内，保持光记录介质上高的光辐照效率。为达到上述目的，本专利技术采取如下的技术手段。按照本专利技术的第一方面，所提供的光头包括物镜；面向光记录介质的光出射表面，从该表面出射的光束被该物镜会聚，射向光记录介质；以及涂覆在该光出射表面上的防光反射膜。该光出射表面有一凹进部分，在该凹进部分内涂覆防光反射膜。最好是，涂覆的防光反射膜不要从该凹进部分凸出。按照上述构造，即使发生光头与光记录介质接触的情况，该防光反射膜也不会与光记录介质直接接触，从而避免因该类接触而损坏防光反射膜。此外，按照防光反射膜涂覆在凹进部分内的结构，即使当光头与光记录介质彼此接触时发生振动，该防光反射膜也不容易因振动而剥落。按照上述构造，能因之而减少防光反射膜的损坏和剥落，因此，用该防光反射膜能提高光辐照的效率。最好是，凹进部分的深度至少是光束波长的1/4n倍，这里n是防光反射膜的折射率。取凹进部分在其上形成的单元的折射率为ng，则防光反射膜的折射率n在单层的情形下，能够由关系式n=Ng]]>确定。波长λ的光的反射率在满足公式n·d＝λ/4时为最小，这里λ是光束的波长，d是防光反射膜的厚度。显而易见，只要凹进部分的深度不小于光束波长的1/4n倍，那么，能够在凹进部分内，适当涂覆相应厚度的防光反射膜，不致从凹进部分凸出，且只要据此设定防光反射膜的厚度，反射光的量最小。严格地说，上面的论述只适于单层防光反射膜。但是，按照本专利技术，防光反射膜还可以有多层结构。最好是，本专利技术的光头还可以包括产生磁场的线圈，并用透明的绝缘保护膜涂覆线圈。线圈放在物镜和光记录介质之间，且设有一中央光透射部分，用于让由该物镜会聚的光透过。绝缘保护膜包括用作光出射表面的表面。据此，本专利技术的光头能作为带有产生磁场的线圈的磁光头而构成。最好是，该物镜包括一用作光出射表面的透镜表面。据此，容纳防光反射膜的凹进部分形成在该透镜表面内。最好是，本专利技术的光头还包括一夹持物镜的滑座，并在光记录介质旋转时从光记录介质浮起。在该光头被制成所谓浮动滑座型的情形下，当光记录介质停止旋转时，存在光头与记录介质彼此接触的危险。因此，把本专利技术应用于该类光头，在保护防光反射膜方面是特别理想的。按照本专利技术的第二方面，是提供一种光信息处理设备，该设备包括一悬臂和由该悬臂支承的光头。光头包括把光束会聚的物镜、能使光束射向光记录介质的光出射表面、和防光反射膜。光出射表面形成一凹进部分，在其中涂覆防光反射膜。显然，该结构享有上面关于光头所说的相同优点。本申请的专利技术的其他特性和优点，将从下述本专利技术优选实施例的说明中看得更为明显。附图说明图1是示意的解释性视图，画出本申请的专利技术的一个实施例；图2是图1中主要部分放大了的断面视图；图3是图2中主要部分放大了的断面视图； 图4表明本申请的专利技术的另一个实施例，画出其中主要部分的断面视图；和图5举出常规技术的一个例子，画出其中主要部分的断面视图。具体实施例方式下面参照附图，说明本专利技术各优选实施例。图1画出本专利技术的一个实施例。本实施例的光信息处理设备A，是作为磁光盘设备构成的，磁光盘设备是能在磁光盘上记录数据又能从磁光盘读出数据的设备。因此，在该光信息处理设备中的光头H，是作为磁光头而构成的。光头H包括由小车20通过悬臂10支承的滑座11、安装在滑座11上的两个物镜5a和5b、以及将在下面参照图2和3说明的其他列举的单元。磁光盘D在主轴电机M的驱动下，能以高速绕其中心轴C旋转。磁光盘D靠下的表面层部分，用作记录层99，记录层99上涂覆透明的薄的保护膜98。在本实施例中，采用一种被称为表面记录的方法，其中，光头H通过保护膜98，面向并接近磁光头的记录层99。安装在小车20上的静态反射镜23，从固定的光单元4接收激光。固定的光单元4的构造，是使激光二极管40发射的激光，经准直透镜41成为平行光束，然后，该激光经过光束分束镜42、光束扩束镜43、和检流计反射镜44，向静态反射镜23传送。被引向静态反射镜23的激光相继通过物镜5a和5b，并被该两个物镜会聚。结果，在磁光盘D的记录层99上形成一光束光斑。射到磁光盘D上的激光被记录层反射，因而沿上面所述光路往回传播，最终被光束分束镜42分束，然后被光检测电路45检测。光束扩束镜43例如用两个透镜43a和43b，使激光通过光束扩束镜43后，激光的有效直径变小。通过这样减小激光的有效直径，能减小物镜5a和5b的直径，从而能够减小支承在滑座11上各单元的总重量，这对改善滑座的工作性能是需要的。检流计反射镜44可以绕轴44a自由旋转，借助检流计反射镜44绕轴44a的旋转，可以对光的反射方向进行小的调整，从而能实现跟踪控制。小车20能在磁光盘D下面沿跟踪方向Tg(磁光盘D的径向)自由地前后移动。不过应当指出，按照本申请的专利技术，代替使用小车20，也可以使用摇臂结构，该摇臂能沿磁光盘D本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光头，包括： 物镜； 面向光记录介质的光出射表面，从该表面向光记录介质射出经该物镜会聚的光；和 置于该光出射表面上的防光反射膜； 其中，该光出射表面与一凹进部分一起形成，防光反射膜设在该凹进部分内。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2001-12-27 395973/20011.一种光头，包括物镜；面向光记录介质的光出射表面，从该表面向光记录介质射出经该物镜会聚的光；和置于该光出射表面上的防光反射膜；其中，该光出射表面与一凹进部分一起形成，防光反射膜设在该凹进部分内。2.按照权利要求1的光头，其中防光反射膜的这种设置使之不致从凹进部分凸出。3.按照权利要求1的光头，其中的防光反射膜的折射率为n，凹进部分的深度不小于光束波长的1/4n倍。4.按照权利要求1的光头，还包括产生磁场的线圈和涂覆该线圈的透明绝缘保护膜，其中，该线圈放在物镜与光记录介质之间，且有一中心透光部分，让经物镜会聚的光透过，绝缘保护膜包括用作光出射表面的表面。5.按照权利要求1的光头，其中的物镜包括用作光出射表面的透镜表面。6.按照权利要求1的光头，还包括夹持物镜、并在光记录介质旋转时从光记录...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤卷彻，松本刚，
申请(专利权)人：富士通株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]