一种电解蚀刻生产线制造技术

本实用新型专利技术涉及电解蚀刻技术领域，具体提供一种电解蚀刻生产线，包括上料区、显影区、电解区及下料区；设在显影区内的至少一个显影槽及设在电解区内的至少一个电解槽，相邻的显影槽和电解槽密封连通，及分别设在显影槽和电解槽内的一喷淋机构，喷淋机构用于向各自所对应的槽内喷淋溶液，以使各个槽内的溶液处于流动状态。通过在显影槽和密封槽内放置喷淋机构，利用喷淋机构将溶液喷淋到对应槽内的阳极板上，使得各个槽内的溶液处于流动的状态，保证各槽体内的溶液的密度处于均匀的状态，当将阳极板浸泡到溶液内后，密度均匀的溶液能够对阳极板进行均匀的浸泡，避免由于溶液发生沉积现象导致阳极板水平浸泡在槽体内时，其电解和显影效果差的问题。影效果差的问题。影效果差的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种电解蚀刻生产线


[0001]本技术涉及电解蚀刻的
，具体涉及一种电解蚀刻生产线。

技术介绍

[0002]电解蚀刻在PCB板生产过程中是首次运用，是指电解PCB板，将待蚀刻板件作为阳极，将不锈钢板或纯铜板作为阴极，将阳极连接电源的正极，阴极连接电源的负极，阳极和阴极都浸在电解质溶液中。当电流通过电极和电解质溶液时，在电极的表面及电解质溶液中发生电化学反应，利用这种反应将PCB板面裸露要蚀刻的铜去除，达到PCB板面裸露不需要的铜被腐蚀的目的。电解蚀刻装置的电源接通后，在阳极上发生氧化反应、在阴极上发生还原反应。阳极反应的结果是待蚀刻部分的金属被氧化变成金属铜离子进入电解质溶液。
[0003]现有技术中的电解蚀刻生产线，在将阳极板水平地放入到显影槽或者电解槽中药液中浸泡并进行相应处理的过程中，利用输送机构将阳极板输送到各槽体内，进行通电处理，然后再被输送机构从相应的槽体内进行输出，在对阳极板进行处理一段时间后，由于各工序上的槽体内的药液，尤其是电解槽和显影槽内的药液会发生沉积现象，使得槽体内的药液的密度不均匀，进而使得阳极板在药液中浸泡时，药液不能够对阳极板进行均匀的浸泡，导致阳极板的电解和显影的效果较差的缺陷。

技术实现思路

[0004]因此，本技术要解决的技术问题在于克服现有技术中的电解蚀刻生产线中，对阳极板进行相应处理时，采用将阳极板水平的浸泡的溶液中的方式对工件进行相应的处理，但是在处理一段时间后，溶液会发生沉积现象，使得槽体内的溶液的密度不均匀，进而使得阳极板在溶液中浸泡时，溶液不能够对阳极板进行均匀的浸泡，导致阳极板的电解和显影的效果较差的缺陷。
[0005]本技术提供一种电解蚀刻生产线，包括机架，所述机架上具有上料区、显影区、电解区及下料区；设在所述显影区内的至少一个显影槽及设在所述电解区内的至少一个电解槽，相邻的所述显影槽和电解槽密封连通，及分别设在所述显影槽和电解槽内的一个喷淋机构，所述喷淋机构用于向各自所对应的槽内喷淋溶液，以使各个槽内的溶液处于流动状态；
[0006]设在所述机架上且横跨所述上料区、显影区、电解区及下料区的第一输送机构；
[0007]所述第一输送机构悬空在所述显影槽和所述电解槽的上方，且用于驱动待蚀刻的阳极板沿竖向经上料区、至少依次穿过所述显影槽和电解槽及下料区。
[0008]可选地，上述电解蚀刻生产线中，所述电解槽和/或显影槽包括位于第一槽体下方的至少一个第二槽体；
[0009]所述喷淋机构包括设在所述第一槽体内的至少一组喷淋管，和将所述第二槽体的内腔与所述喷淋管连接的第一输送管路，及设在所述第一输送管路上的泵体。
[0010]可选地，上述电解蚀刻生产线中，还包括设在所述第一槽体与所述喷淋管之间的
第二输送管路，及设在所述第二输送管路上的过滤器。
[0011]可选地，上述电解蚀刻生产线中，还包括设于所述显影槽和所述电解槽之间的至少一个过渡槽，所述过渡槽的进口端和出口端分别与所述显影槽和电解槽密封连通，以供阳极板随第一输送机构穿过。
[0012]可选地，上述电解蚀刻生产线中，所述电解蚀刻生产线中还包括至少一个微蚀刻槽，所述微蚀刻槽和所述显影槽位于所述电解槽的两侧，所述微蚀刻槽的进口端与所述电解槽的出口密封连通。
[0013]可选地，上述电解蚀刻生产线中，所述电解蚀刻生产线还包括设在所述显影槽与所述电解槽之间的至少一个第一后处理槽，其中一个所述第一后处理槽用于容纳清洁液；所述第一后处理槽的进口端和出口端分别与所述显影槽的出口端和所述电解槽的进口端密封连通；和/或，
[0014]所述电解蚀刻生产线还包括位于所述电解槽与所述微蚀刻槽之间的至少一个第二后处理槽；其中一个所述第二后处理槽用于容纳清洁液。
[0015]可选地，上述电解蚀刻生产线中，还包括至少一个去膜槽，所述去膜槽的进口端与所述微蚀刻槽的出口端密封连通。
[0016]可选地，上述电解蚀刻生产线中，还包括至少一个高压冲洗槽，所述高压冲洗槽的进口端密封连通于所述去膜槽的出口端；及干膜剥离装置；
[0017]所述干膜剥离装置包括：第三槽体、滤筒和第二输送机构，其中滤筒水平可转动地设在所述第三槽体内；所述滤筒的轴向的端部上设有至少一个第一开口及所述滤筒的周向壁面上设有若干个滤孔；所述第二输送机构包括沿所述滤筒的轴向方向设置的输送带，所述输送带的一端经所述第一开口伸入所述滤筒内，另一端伸出所述滤筒和所述第三槽体外；所述输送带的顶部表面作为承载面；所述承载面适于承载来自于其上方的所述滤筒的内壁面上掉落的干膜渣。
[0018]可选地，上述电解蚀刻生产线中，所述干膜剥离装置还包括至少一个吹落件，至少一所述吹落件设在第三槽体或机架上且位于所述滤筒的顶部外，所述吹落件的出风口朝向所述输送带的承载面的一侧，所述吹落件经所述出风口吹风而施加朝向所述承载面方向的正压力。
[0019]可选地，上述电解蚀刻生产线中，所述输送带倾斜设在所述第三槽体或机架上，且所述输送带的位于所述滤筒内的伸入端高于位于所述第三槽体外的伸出端；所述伸出端的端部作为下料端；
[0020]所述干膜剥离装置还包括设在所述下料端的上方的至少一个刮料件，所述刮料件的刮面可与所述承载面抵接，以将所述输送带上的干膜渣刮出。
[0021]可选地，上述电解蚀刻生产线中，还包括烘干槽，所述烘干槽位于所述下料区内，所述烘干槽的进口端适于与所述电解槽的出口端密封连通，且所述烘干槽内设有烘干件，所述烘干件的出风口朝向所述阳极板设置。
[0022]可选地，上述电解蚀刻生产线中，还包括设在所述电解槽和显影槽中的至少一个槽内的导向机构，所述导向机构包括相对且可转动地设置的两组轮片，两组轮片之间形成过板通道，供所述阳极板随第一输送机构穿过。
[0023]可选地，上述电解蚀刻生产线中，还包括设在所述电解槽和显影槽中的至少一个
槽内的调节机构，所述调节机构包括相对设置的第一浮板和第二浮板，所述第一浮板和第二浮板之间形成过板通道，以供阳极板穿过，及分别驱动所述第一浮板和第二浮板做升降运动的第一升降机构和第二升降机构。
[0024]可选地，上述电解蚀刻生产线中，所述电解槽为至少两个；
[0025]所述电解蚀刻生产线还包括设在机架上的回收机构，所述回收机构包括转移机构及设在所述转移机构上的第三升降机构，所述第三升降机构受所述转移机构的驱动可在至少两个电解槽的上方往复移动；所述第三升降机构包括升降部件，及驱动所述升降部件做升降运动的驱动组件，所述升降部件的底部设有挂钩，适于勾在所述电解槽内的阴极板上。
[0026]可选地，上述电解蚀刻生产线中，所述转移机构包括沿第一方向可滑动地设在所述机架上的辊轮移动组件，及设在辊轮移动组件上且沿第二方向移动的滑轨移动组件，所述第一方向和第二方向在水平面上垂直；所述第三升降机构固定在所述滑轨移动组件上。
[0027]本技术技术方案，具有如下优点：
[0028]1.本实用本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电解蚀刻生产线，其特征在于，包括机架，所述机架上具有上料区(1)、显影区、电解区及下料区(15)；设在所述显影区内的至少一个显影槽(2)及设在所述电解区内的至少一个电解槽(6)，相邻的所述显影槽(2)和电解槽(6)密封连通，及分别设在所述显影槽(2)和电解槽(6)内的一个喷淋机构，所述喷淋机构用于向各自所对应的槽内喷淋溶液，以使各个槽内的溶液处于流动状态；设在所述机架上且横跨所述上料区(1)、显影区、电解区及下料区(15)的第一输送机构；所述第一输送机构悬空在所述显影槽(2)和所述电解槽(6)的上方，且用于驱动待蚀刻的阳极板沿竖向经上料区(1)、至少依次穿过所述显影槽(2)和电解槽(6)及下料区(15)。2.根据权利要求1所述的电解蚀刻生产线，其特征在于，所述电解槽(6)和/或显影槽(2)包括位于第一槽体(17)下方的至少一个第二槽体(18)；所述喷淋机构包括设在所述第一槽体(17)内的至少一组喷淋管(16)，和将所述第二槽体(18)的内腔与所述喷淋管(16)连接的第一输送管路(19)，及设在所述第一输送管路(19)上的泵体(22)。3.根据权利要求2所述的电解蚀刻生产线，其特征在于，还包括设在所述第一槽体(17)与所述喷淋管(16)之间的第二输送管路(20)，及设在所述第二输送管路(20)上的过滤器(21)。4.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的电解蚀刻生产线，其特征在于，还包括设于所述显影槽(2)和所述电解槽(6)之间的至少一个过渡槽(4)，所述过渡槽(4)的进口端和出口端分别与所述显影槽(2)和电解槽(6)密封连通，以供阳极板随第一输送机构穿过。5.根据权利要求4所述的电解蚀刻生产线，其特征在于，所述电解蚀刻生产线还包括至少一个微蚀刻槽(8)，所述微蚀刻槽(8)和所述显影槽(2)位于所述电解槽(6)的两侧，所述微蚀刻槽(8)的进口端与所述电解槽(6)的出口密封连通。6.根据权利要求5所述的电解蚀刻生产线，其特征在于，所述电解蚀刻生产线还包括设在所述显影槽(2)与所述电解槽(6)之间的至少一个第一后处理槽(3)，其中一个所述第一后处理槽(3)用于容纳清洁液；所述第一后处理槽(3)的进口端和出口端分别与所述显影槽(2)的出口端和所述电解槽(6)的进口端密封连通；和/或所述电解蚀刻生产线还包括位于所述电解槽(6)与所述微蚀刻槽(8)之间的至少一个第二后处理槽(7)；其中一个所述第二后处理槽(7)用于容纳清洁液。7.根据权利要求6所述的电解蚀刻生产线，其特征在于，还包括至少一个去膜槽(11)，所述去膜槽(11)的进口端与所述微蚀刻槽(8)的出口端密封连通。8.根据权利要求7所述的电解蚀刻生产线，其特征在于，还包括至少一个高压冲洗槽，所述高压冲洗槽的进口端密封连通于所述去膜槽(11)的出口端；及干膜剥离装置；所述干膜剥离装置包括：第三槽体(23)、滤筒(24)和第二输送机构，其中滤筒(24)水平可转动地设在所述第三槽体(23)内；所述滤筒(24)的轴向的端部上设有至少一个第一开口(25)及所述滤筒(24)的周向壁面上设有若干个滤孔；所述第二输送...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘建波，
申请(专利权)人：广德东威科技有限公司，
类型：新型
国别省市：