磁记录媒体用衬底、磁记录媒体及其制造方法技术

本发明专利技术的课题在于提供表面粗糙度小、低成本的磁记录媒体用衬底和含有该磁记录媒体用衬底的磁记录媒体及其制造方法。磁记录媒体用衬底（１０）包括主衬底（１２）和副衬底（１４）；该主衬底（１２）至少以一个面作为基面（１２Ａ）；该副衬底（１４）通过偏置溅射法等的施加偏置功率的成膜方法，形成于该主衬底（１２）的基面（１２Ａ）上；副衬底（１４）的表面粗糙度小于主衬底（１２）的基面（１２Ａ）的表面粗糙度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及比如硬盘等的。
技术介绍
为了提高磁记录媒体的记录·读取精度，极力地减小表面粗糙度是重要的。比如，在硬盘的情况下，上浮式磁头成为主流，为了获得良好的记录·读取精度，重要的是极力减小表面粗糙度，将上浮式磁头和磁记录媒体的间隙保持在微小范围内。在过去，在硬盘等的磁记录媒体的制造步骤中，将衬底的两个面或一个面作为基面，通过CMP(Chemical Mechanical Polishing)法等，进行研磨并制作成平坦的，在该衬底的基面上，通过用溅射法等叠置记录层、保护层等，极力地将磁记录媒体整体的表面粗糙度抑制得小(比如参照专利文献1、专利文献2)。专利文献1日本专利特开平5-314471号公报专利文献2日本专利特开平5-231562号公报但是，过去的衬底的平坦化处理具有下述的问题，即，为了获得所需的表面粗糙度，必须反复多次地对衬底的基面进行研磨，生产效率较低。另外，在采用CMP法的情况下，每当多次反复对衬底的基面研磨时，必须进行用于去除浆液的清洗，成了生产效率大幅度地降低的原因。此外，由于过去的衬底的生产效率低，故磁记录媒体的成本中，衬底的成本比例高。
技术实现思路
本专利技术是针对以上的问题而提出的，本专利技术的课题在于，提供表面粗糙度小、低成本的磁记录媒体用衬底和具有该磁记录媒体用衬底的磁记录媒体及其制造方法。本专利技术是，磁记录媒体用衬底由在主衬底的基面上形成副衬底而构成的，并处理成该副衬底的表面粗糙度小于主衬底的基面的表面粗糙度，由此，实现了表面粗糙度小的低成本的磁记录媒体用衬底。采用比如，偏置溅射法等，在主衬底上施加偏置功率的同时，形成非磁性材料的膜的成膜方法，在主衬底的基面上形成副衬底，由此，可有效地且以低成本制造(副衬底)表面粗糙度小的磁记录媒体用衬底。即，施加偏置功率的成膜方法同时进行成膜作用，和通过偏置功率附加的气体等对已形成的膜的一部分进行蚀刻的蚀刻作用，由成膜作用超过蚀刻作用而形成膜，但是，由于蚀刻作用具有相对于其它的部位，有选择地较快地去除膜中的突出的部位的倾向，故可通过该蚀刻作用，抑制膜的表面的凹凸，形成表面粗糙度小的副衬底的膜。另外，在主衬底的基面上，由比主衬底加工更容易的材料形成副衬底，通过比如离子束蚀刻等的干式蚀刻，将副衬底平坦化，由此，可有效地且以低成本可靠地制造表面粗糙度小的磁记录媒体用衬底。另外，在本专利技术中，通过比如离子束蚀刻等的干式蚀刻处理，将磁记录媒体用衬底的基面平坦化，实现了表面粗糙度小的低成本的磁记录媒体用衬底。即，由于干式蚀刻也与施加偏置功率的成膜方法的蚀刻作用相同，具有相对于其它部位有选择性地较快地将膜中的突出的部位去除的倾向，故可将基板的表面平坦化。另外，不依赖于如CMP法这样的湿式工艺，而采用干式蚀刻的干式工艺，这样不需要清洗等，于是，可有效地且低成本地制造表面粗糙度小的磁记录媒体用衬底。即，通过下述这样的本专利技术，力求实现上述课题的解决。(1)一种磁记录媒体用衬底，其特征在于该磁记录媒体用衬底包括主衬底和副衬底；该主衬底至少以一个面作为基面；该副衬底形成于该主衬底的上述基面上；该副衬底的表面粗糙度小于上述主衬底的基面的表面粗糙度。(2)如(1)所述的磁记录媒体用衬底，其特征在于上述副衬底的表面的中心线平均粗糙度在1nm及其以下。(3)如(1)或(2)所述的磁记录媒体用衬底，其特征在于，上述副衬底的材料为包括二氧化硅、硅、类金刚石碳、氧化铝、氧化镁、氧化铬、碳化物、氮化物、ITO中的任意一个的材料。(4)如(1)至(3)中的任意一项所述的磁记录媒体用衬底，其特征在于，上述主衬底的材料为包含玻璃、氧化铝、硅、玻璃碳和树脂中的任意一个的材料。(5)如一种磁记录媒体，其特征在于，在上述(1)至(4)中的任意一项所述的磁记录媒体用衬底的副衬底上，直接或间接地形成了记录层。(6)一种磁记录媒体用衬底的制造方法，其特征在于，在至少以一个面作为基面的主衬底上，施加偏置功率的同时，在上述基面上形成非磁性材料膜，而形成副衬底，获得表面粗糙度小于上述主衬底的基面的表面粗糙度的磁记录媒体用衬底。(7)一种磁记录媒体用衬底的制造方法，其特征在于，在至少以一个面作为基面的主衬底的上述基面上形成非磁性材料膜，而形成副衬底，通过干式蚀刻，加工该副衬底的表面，获得表面粗糙度小于上述主衬底的基面的表面粗糙度的磁记录媒体用衬底。(8)如(6)或(7)所述的磁记录媒体用衬底的制造方法，其特征在于，作为上述副衬底的材料，采用包括二氧化硅、硅、类金刚石碳、氧化铝、氧化镁、氧化铬、碳化物、氮化物、ITO中的任意一个的材料。(9)如(6)至(8)中的任意一项所述的磁记录媒体用衬底的制造方法，其特征在于，作为上述主衬底的材料，采用包含玻璃、氧化铝、硅中的任意一个的材料。(10)一种磁记录媒体用衬底的制造方法，其特征在于，采用蚀刻方法，将至少以一个面作为基面的衬底的上述基面平坦化。(11)一种磁记录媒体用衬底的制造方法，其特征在于，将表面处理成中心线平均粗糙度在1nm及其以下。(12)一种磁记录媒体的制造方法，其特征在于，在通过上述(6)至(11)中的任意一项所述的磁记录媒体用衬底的制造方法制造的磁记录媒体用衬底的上述副衬底上，直接或间接地形成记录层。另外，在本申请中，所述的“类金刚石碳(ダイヤモンドライクカ一ボン/在下面称为“DLC”)”的术语是，以碳作为主成分的非晶质结构，用维氏硬度测量，呈现200～8000kgf/mm2的硬度的材料的含义上采用。此外，在本申请中，所述的“ITO(Indium Tin Oxide)”的术语是，以In2O3(氧化铟)为主成分的，比如添加了5～10重量％程度的少量的SnO(氧化锡)的材料的总称的含义上采用。还有，在本申请中，所述的“离子束蚀刻”的术语是，以比如离子铣削(ionmilling)等的、将离子化的气体照射到被加工体而将其去除的加工方法的总称的含义上采用，不限于以聚集方式照射离子束的加工方法。另外，在本申请中，所述的“磁性记录妹体”的术语并不限局于信息的记录、读取仅仅采用磁的硬盘、软磁盘(注册商标)、磁带等，以还包括同时采用磁和光的MO(Magneto Optical)等的光磁记录媒体、同时采用磁和热的热助型的记录媒体的含义上采用。根据本专利技术，可以有效且低成本地制造表面粗糙度较小的磁记录媒体用衬底。于是，通过在该磁记录媒体用衬底上形成记录层等，可以有效地且低成本地制造表面粗糙度小的磁记录媒体。附图说明图1为示意地表示与本专利技术的第一实施方式相关的磁记录媒体用衬底的结构的侧面剖视图；图2为表示该磁记录媒体用衬底的制造方法的概略的流程图；图3为示意地表示该磁记录媒体用衬底的主衬底的冲压成形后的形状的侧面剖视图；图4为表示与本专利技术的第2实施方式相关的磁记录媒体用衬底的制造步骤的概略的流程图；图5为示意地表示该磁记录媒体用衬底的制造方法的结构的侧面剖视图；图6为表示与本专利技术的第3实施方式相关的磁记录媒体用衬底的制造方法的概略的流程图；图7为示意地表示与本专利技术的第4实施方式相关的磁记录媒体的结构的侧面剖视图；图8为表示该磁记录媒体的制造方法的概略的流程图；图9为示意地表示与本专利技术的第5实施方式相关的磁记录媒体的结构的侧面剖视图；图10为示意地表示与本专利技术的第6实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁记录媒体用衬底，其特征在于：该磁记录媒体用衬底包括主衬底和副衬底而成；该主衬底至少以一个面作为基面；该副衬底形成于该主衬底的上述基面上；该副衬底的表面粗糙度小于上述主衬底的基面的表面粗糙度。

【技术特征摘要】
JP 2003-9-5 2003-3145421.一种磁记录媒体用衬底，其特征在于该磁记录媒体用衬底包括主衬底和副衬底而成；该主衬底至少以一个面作为基面；该副衬底形成于该主衬底的上述基面上；该副衬底的表面粗糙度小于上述主衬底的基面的表面粗糙度。2.根据权利要求1所述的磁记录媒体用衬底，其特征在于，上述副衬底的表面的中心线平均粗糙度在1nm及其以下。3.根据权利要求1或2所述的磁记录媒体用衬底，其特征在于，上述副衬底的材料为包括二氧化硅、硅、类金刚石碳、氧化铝、氧化镁、氧化铬、碳化物、氮化物、ITO中的任意一个的材料。4.根据权利要求1至3中的任何一项所述的磁记录媒体用衬底，其特征在于上述主衬底的材料为包含玻璃、氧化铝、硅、玻璃碳和树脂中的任何成分的材料。5.一种磁记录媒体，其特征在于，在权利要求1至4中的任意一项所述的磁记录媒体用衬底的副衬底上，直接或间接地形成了记录层。6.一种磁记录媒体用衬底的制造方法，其特征在于，在至少以一个面作为基面的主衬底上施加偏置功率，同时，在上述基面上形成非磁性材料膜，并形成副衬底，获得表面粗糙度小于上述主衬底的基面...

【专利技术属性】
技术研发人员：高井充，服部一博，
申请(专利权)人：TDK股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]