用于全息介质的液体容纳基底制造技术

一种具有夹层结构的全息数据存储介质（１０），其中全息记录材料（１１）夹在两个基底（１２，１３）之间。这些基底在其外缘附近形成有流体容纳结构（１４，１５）。还有，这些基底可以形成有相对于相应基底的外表面开有槽的中央件（１６，１７）。这些流体容纳结构（１４，１５）还设有一通气间隙（９１），在注入全息记录材料（１１）时气体可以通过该间隙从空腔逸出。这些基底结构可以改善并且简化介质制造过程，而且可以改善介质质量。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及全息数据存储介质，并且更具体地说涉及能够在介质制造期间容纳粘性全息记录材料的基底。
技术介绍
已经研制出许多不同类型的数据存储介质来存储信息。传统的介质例如包括磁性介质、光学介质和机械介质，仅仅举了几个例子。增大数据存储密度是在研制新型或改进型数据存储介质中的极为重要的目标。在传统的介质中，将各个信息比特存储作为在介质表面上的不同机械、光学或磁性变化。为此，数据存储介质表面区域对于给定记录技术而言在数据密度上存在物理限制。全息数据存储介质可以赋予比传统介质更高的存储密度。在全息介质中，数据可以存储在整个全息记录材料的体积上。换句话说，全息介质能够进行三维数据存储。理论上的全息存储密度能够接近每立方厘米几十兆兆位。在全息数据存储介质中，全部信息页例如位图可以存储作为在感光全息记录材料内的光学干涉图案。可以通过使两条相干的激光束在记录材料内相交来产生出这些光学干涉图案。第一激光束(被称为目标光束)包含有所要存储的信息；并且第二激光束(被称为参考光束)与目标光束干涉，从而产生出能够以全息图的形式存储在记录材料中的干涉图案。当随后只用参考光束照射所存储的全息图时，一些参考光束在全息干涉图案的作用下衍射。而且，所衍射的光产生出原始目标光束的重显。因此，通过用参考光束照射所记录的全息图，从而编码在目标光束中的数据可以重新生成并且由数据检测器例如摄像机检测到。全息数据存储介质可以具有一种夹层结构，其中感光全息记录材料例如光敏聚合物成分夹在两个基底之间然后固化。全息图记录并且存储在全息记录材料中。但是全息记录材料在它初始夹在基底之间时通常以粘性流体或凝胶形式。该全息记录材料的粘性特性在介质制造中给出了挑战。
技术实现思路
本专利技术涉及一种具有夹层结构的全息数据存储介质，其中全息记录材料夹在两个基底之间。各种基底结构可以改善介质质量，简化制造过程，并且为所产生出的介质提供改进的环境稳定性。例如，这些基底的一个或两个可以在相应基底的外缘附近形成有流体容纳结构。还有，这些基底可以形成有中央件而不是中央孔。这些中央件也可以相对于相应基底的外表面开有槽。在一个实施方案中，全息数据存储介质包括第一基底、第二基底和位于第一和第二基底之间的全息记录材料。至少一个基底也可能是这两个基底可以形成为在基底外缘附近包括容纳结构。这些流体容纳结构可以用来在这些基底之间形成一空腔，该空腔在材料以粘性形式时容纳全息记录材料。流体容纳结构还可以提供一通气间隙，在注入全息记录材料时气体可以通过该间隙从空腔中跑出。另外，除了在材料以粘性形式时在全息记录材料的容纳方面具有优点之外，该流体容纳结构还可以在全息记录材料固化之后在全息记录材料和环境之间提供环境屏障。在另一个实施方案中，这些基底可以形成有中央件而不是一般形成在光学基底中的中央孔。这些中央件可以用来更完全地封闭该空腔，由此将所注入的全息记录材料容纳在该空腔内。另外，这些中央件可以相对于相应基底的外表面开有槽。通过将这些中央件相对于相应基底的外表面开槽，从而可以改善这些基底的最外面表面的平坦度，由此使得制造设备的参考平面能够在介质制造过程期间在外表面之间形成改善的平行度。具体地说，带槽中央件可以避免由在中央件附近的厚度变化引起的问题。因此，在介质制造过程期间可以将这些基底的外表面推压在参考平面上，从而这些外表面基本上相互平行，并且不会受到在中央件附近的厚度变化的抑制。在另一个实施方案中，本专利技术涉及用在夹层结构数据存储介质中的一组基底，其中粘性材料在介质制造期间夹在第一基底和第二基底之间。这组基底可以由包括形成在其外缘附近的第一流体容纳结构的第一基底和包括形成其外缘附近的第二流体容纳结构的第二基底构成。在另一个实施方案中，本专利技术可以涉及一种全息数据存储系统。例如该系统可以包括产生出至少一条激光束的激光器、让激光束从中穿过的光学元件、将数据编码在至少一部分激光束中的数据编码器和存储至少一个全息图的全息记录介质。该全息记录介质可以包括第一基底、第二基底和位于第一和第二基底之间的全息记录材料。这些基底中的一个或两个可以形成有在这里所述的基底结构的一个或多个。在另一个实施方案中，本专利技术涉及一种制造全息记录介质的方法。例如，该方法可以包括使第一基底相对于第二基底设置以形成一空腔，所述第一基底包括形成在其外缘附近的第一流体容纳结构，并且第二基底包括形成在其外缘附近的第二流体容纳结构，从而所述空腔由第一和第二基底的内表面以及第一和第二流体容纳结构的至少一个所限定。该方法还包括将粘性全息记录材料注入到所述空腔中，并且使所述全息记录材料固化。各个实施方案能够提供一个或多个优点。具体地说，在这里所述的基底结构可以改善介质质量、简化并且改进与介质制造相关的制造过程，并且可以为所产生的介质提供改进的环境稳定性。在下面的附图和说明中给出了这些和其它实施方案的其它细节。从该说明和附图以及从权利要求书中将了解其它结构、目的和优点。附图说明图1为根据本专利技术一实施方案的示例性全息数据存储介质的侧剖视图；图2为在图1中所示的全息数据存储介质的顶视图；图3为一侧剖视图，显示出通过中央注入方法形成全息介质；图4为可以用在全息数据存储介质中的示例性顶部基底的侧剖视图；图5为在图4中所示的顶部基底的顶视图；图6为可以用在全息数据存储介质中的示例性底部基底的侧剖视图；图7为在图6中所示的底部基底的顶视图；图8为可以用在全息数据存储介质中的一组基底的侧剖视图；图9-12为在其中将全息记录材料注入在两个基底之间的制造过程期间一部分全息数据存储介质的侧剖视图；图13为一部分基底的侧剖视图，显示出形成在基底中央件中的注入通道；图14为一部分基底的侧剖视图，显示出形成在基底中央件上的流道；图15和16为根据本专利技术实施方案的示例性全息数据存储介质的其它侧剖视图；并且图17为用于相对于全息记录介质进行读取和写入的全息数据存储系统的方框图。具体实施例方式一般来说，本专利技术涉及一种具有夹层结构的全息数据存储介质，其中全息记录材料夹在两个基底之间。这些基底可以在其外缘附近形成有流体容纳结构。还有，这些基底可以形成有中央件而不是中央孔。这些中央件可以相对于相应基底的外表面开槽。这些基底结构可以改善并且简化介质制造过程并且还可以改善介质质量。这些基底可以形成一空腔，可以将全息记录材料注入到该空腔中。具体地说，形成在这些基底外缘附近的流体容纳结构可以限定形成在这两个基底之间的空腔的外缘。因此，这些流体容纳结构在介质制造期间在全息记录材料为粘性的即以基本上为液体或凝胶形式时可以用来将全息记录材料容纳在空腔内。可以将全息记录材料注入到空腔中，在那里该材料由这些基底的流体容纳结构容纳，并且可以使该全息记录材料固化。在固化之后，这些流体容纳结构还可以保护该全息记录材料以免受到环境要素影响。这些流体容纳结构可以采取各种各样的形状和结构。在下面更详细地列出的示例性实施方案中，这些流体容纳结构限定了围绕着相应基底的外周边形成的唇状元件。这些流体容纳结构可以沿着与相应基底的主表面垂直的方向延伸。因此，这些基底可以限定该介质的顶部和底部表面以及在这些基底之间的空腔。顶部和底部基底的流体容纳结构可以例如按照邻接的方式装配在一起以便在全息记录材料在其中固化时基本上密封该空腔本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全息数据存储介质，它包括：第一基底，它包括形成在其外缘附近的第一流体容纳结构；第二基底；以及位于所述第一和第二基底之间的全息记录材料。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2002-8-20 10/224,0131.一种全息数据存储介质，它包括第一基底，它包括形成在其外缘附近的第一流体容纳结构；第二基底；以及位于所述第一和第二基底之间的全息记录材料。2.如权利要求1所述的存储介质，其中所述第二基底包括形成在其外缘附近的第二流体容纳结构。3.如权利要求2所述的存储介质，其中所述全息记录材料在空腔内固化，该空腔由第一和第二基底的内表面以及第一和第二流体容纳结构的至少一个的内表面所限定。4.如权利要求3所述的存储介质，其中所述第一和第二流体容纳结构相互邻接以基本上密封该空腔。5.如权利要求3所述的存储介质，其中所述第一和第二流体容纳结构在介质制造期间形成一通气间隙，用来在将全息记录材料注入在所述第一和第二基底之间时使得气体能够从空腔中跑出。6.如权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：亚坦D爱德华，
申请(专利权)人：伊美申公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]