颗粒敏感度降低且盘跟随能力改善的盘头浮动块设计制造技术

技术编号:3059326 阅读:151 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
提供一种盘头浮动块,它包括一具有一面对盘的表面的浮动块主体,该主体包括一支承面,该支承表面大体设置在一支承表面平面(229)内。在面对盘的表面上形成有一倾斜的内侧轨道、一倾斜的外侧轨道以及一凹腔气坝(223)。至少倾斜的内侧轨道、倾斜的外侧轨道以及凹腔气坝之一包括形成支承表面的至少一部分的一表面部分。在倾斜的内侧和外侧轨道之间形成有一低于周围压力的凹腔,该低于周围压力的凹腔具有从支承表面平面移置开的一凹腔底板(244)。至少一个凹入表面形成在面对盘的表面上并且大体位于倾斜的内侧轨道、倾斜的外侧轨道以及低于周围压力的凹腔(242)的外面。凹入表面(204)比凹腔底板从支承表面平面移置得更远。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术总的涉及盘驱动器系统,特别是、但不局限于在盘驱动器系统中的盘头(disc head)浮动块。
技术介绍
在数据处理系统中,通常将盘驱动器用作存储装置。这样的盘驱动器使用硬质的盘,这些硬质的盘覆涂有可磁化的介质,以用于在多个圆形、同心的数据磁道中存储数字信息。盘安装在一主轴电动机上,该主轴电动机使盘转动,并使盘的表面在相应的流体动力学(例如空气)支承的盘头浮动块下方通过。浮动块载有向盘表面写入信息和从盘表面读出信息的换能器。一致动器机构在电子线路系统的控制下横穿盘表面地将浮动块从一个磁道移动到另一磁道。致动器机构包括一磁道接近臂和用于每一浮动块组件的一悬架。悬架包括一加载梁和一万向节。加载梁提供一将浮动块压向盘表面的一加载力。万向节定位在浮动块和加载梁之间,或者在加载梁中结合成一体,以提供弹性的连接,以使浮动块能随着盘的表面起伏而摇摆。浮动块包括一面向盘表面的支承表面。当盘转动时,盘沿着支承表面在大致平行于盘的切向速度的方向上拖曳浮动块下方的空气。当空气在支承表面下通过时,空气沿着其空气流动路径的压缩致使盘与支承表面之间的空气压力增加,这产生一抵抗加载力的流体动力学升举力,并致使浮动块抬升并在盘表面上方或附近飞行。一种类型的浮动块是“自加载”的空气支承浮动块,它包括一前导变细部分(“或阶梯变细部分”)、一对高出的侧护轨、一凹腔气坝以及一低于周围压力的凹腔。前导变细部分通常是叠置或蚀刻到浮动块的与记录头相对的端部上的。当浮动块下方的空气被盘表面拖曳时,前导变细部分对空气加压。前导变细部分的还有一个作用是浮动块下方的压力分布由于变细部分或阶梯的大压缩角度而在变细部分端或“前导边”附近有一第一峰值,并且由于为了有效地进行磁性记录而留出的一小支承间隙而在记录端或“后随边”附近有一第二峰值。该双峰压力分布产生了一种前后摇摆(pitch)刚度较大的支承。在记录高度处浮动块与盘表面之间的支承间隙对于盘驱动器的性能来说是一个重要的参数。人们曾努力设计在面对盘的表面上具有专用的结构特征的浮动块,这些专用的结构特征使浮动块能在极其低的飞行高度处工作。随着浮动块设计的进步,随着平均飞行高度不断地减小,已经发现污染颗粒正越来越称成读/写头调制的原因,且这样的调制在某些情况下会导致读/写操作的失败。已经发现,许多低飞行高度的浮动块设计不利地促使污染颗粒在浮动块支承表面的后随边和/或浮动块的换能器区域附近发生积累。到达浮动块这些区域的颗粒有时可能会导致不可恢复的数据损失。许多浮动块设计包括位于浮动块的面对盘的表面的一后随边附近的一中心垫支承表面(例如一空气支承表面)。中心垫支承表面通常位于紧接换能器且沿着后随边横向居中的位置处。在许多例子中,浮动块的其它的面对盘的表面结构特征构造成在运行时指向中心垫支承表面的流体流(例如空气流)没有被加强。诸如此类的结构是不利的,因为已经发现,中心垫支承表面的加压增加可改善换能器的盘跟随能力。本专利技术的实施例为这些和其它的问题提供了解决方案,并提供比现有技术更佳的优点。
技术实现思路
本专利技术涉及数据存储装置,且该装置包括具有致力于解决上述问题的面对盘表面的结构的盘头浮动块。本专利技术的一个实施例涉及一种盘头浮动块,它具有包括一支承表面的一面对盘的表面,该支承表面大体设置在一支承表面平面内。在面对盘的表面上形成有一倾斜的内侧轨道、一倾斜的外侧轨道以及一凹腔气坝。至少倾斜的内侧轨道、倾斜的外侧轨道以及凹腔气坝之一包括形成支承表面的至少一部分的一表面部分。在倾斜的内侧和外侧轨道之间形成一低于周围压力的凹腔,且该凹腔包括从支承表面平面移置开的一凹腔底板。在面对盘的表面上形成有至少一个凹入表面,并且所述凹入表面大体位于倾斜的内侧轨道、倾斜的外侧轨道以及低于周围压力的凹腔的外面。凹入表面比凹腔底板从支承表面平面移置得更远。根据一个实施例,凹腔气坝包括一倾斜的前导边。本专利技术的另一实施例涉及一种盘头浮动块,它包括一具有一面对盘的表面的浮动块主体,该面对盘的表面包括大体设置在一支承表面平面内的一支承表面。在面对盘的表面上形成有一倾斜的内侧轨道、一倾斜的外侧轨道以及一凹腔气坝。至少倾斜的内侧轨道、倾斜的外侧轨道以及凹腔气坝之一包括形成支承表面的至少一部分的一表面部分。在倾斜的内侧和外侧轨道之间的面向盘的表面上形成一低于周围压力的凹腔。该低于周围压力的凹腔包括从支承表面平面移置开的一凹腔底板。在面对盘的表面上形成有至少一个凹入表面,并且所述凹入表面大体位于倾斜的内侧轨道、倾斜的外侧轨道以及低于周围压力的凹腔的外面。凹入表面与凹腔底板相比,从支承表面平面移置大致相同的距离。根据一个实施例,凹腔气坝包括一倾斜的前导边。另一实施例涉及一种盘头浮动块,它包括一具有一面对盘的表面的浮动块主体,该面对盘的表面包括一内侧边、一外侧边以及大体设置在一支承表面平面内的一支承表面。在面对盘的表面上形成有一倾斜的内侧轨道,该内侧轨道有一前导端和一后随端。倾斜的内侧轨道的后随端设置成比前导端离开浮动块主体的内侧边远。在面对盘的表面上形成一倾斜的外侧轨道,且该外侧轨道有一前导端和一后随端。外侧轨道的后随端设置成比前导端离开浮动块主体的外侧边远。在面对盘的表面上形成有一凹腔气坝,并且该凹腔气坝有一倾斜的前导边和一至少形成支承表面的一部分的表面部分。在面对盘的表面上、在倾斜的内侧和外侧轨道之间形成一低于周围压力的凹腔。该低于周围压力的凹腔有一从支承表面平面移置开的凹腔底板。设置了至少一个凹入表面,且该或这些凹入表面比凹腔底板从支承表面平面移置得更远。该或这些凹入表面形成在面对盘的表面上,并且大体位于倾斜的内侧轨道、倾斜的外侧轨道以及低于周围压力的凹腔的外面。所述至少一个凹入表面是大体设置在浮动块主体的内侧边与倾斜的内侧轨道之间的一第一凹入表面。而一第二凹入表面大体设置在浮动块主体的外侧边与倾斜的外侧轨道之间。在阅读了以下的详细说明并参阅了相关的附图之后,为本专利技术诸实施例的特征的其它特征和优点将变得清楚。附图简述附图说明图1是一盘驱动器的轴测图。图2是根据本专利技术一示例性实施例的浮动块的立体图。图3是图2所示浮动块的平面图。图4是沿着图2中的线4-4截取的剖面图。图5是描述图2所示浮动块的示例性工作质量流量线的示意图。图6是根据本专利技术另一示例性实施例的浮动块的平面图。图7是根据本专利技术另一示例性实施例的浮动块的平面图。图8是根据本专利技术另一示例性实施例的浮动块的平面图。图9是根据本专利技术另一示例性实施例的浮动块的平面图。图10描述图9所示浮动块的示例性工作质量流量线的示意图。图11是根据本专利技术另一示例性实施例的浮动块的立体图。图12是图11所示浮动块的平面图。具体实施例方式图1是本专利技术的实施例可用于的一盘驱动器100的轴测图。盘驱动器100包括带有一底座102和一顶盖(未示出)的一壳体。盘驱动100还包括一盘组件106,它通过一盘夹具108安装在一主轴电动机(未示出)上。盘组件106包括多个单独的盘107,它们安装成绕中心轴线109共同转动。各盘表面设有相关的浮动块110,诸浮动块安装在盘驱动器100上并装载有一用于与盘表面通讯的读/写头。读/写头可包括任何类型的换能头,例如感应头、磁阻磁头、光度头或磁光头。在图1所示的例子中,浮动块110由悬本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种盘头浮动块,它包括:一具有一面对盘的表面的浮动块主体,该面对磁盘的表面包括大体设置在一支承表面平面内的一支承表面;形成在面对盘的表面上的一倾斜的内侧轨道、一倾斜的外侧轨道以及一凹腔气坝,其中,至少倾斜的内侧轨道、倾斜的外 侧轨道以及凹腔气坝之一包括形成支承表面的至少一部分的一表面部分;形成在面对盘的表面上、倾斜的内侧和外侧轨道之间的一低于周围压力的凹腔,该低于周围压力的凹腔具有从支承表面平面移置开的一凹腔底板;以及比凹腔底板更进一步从支承表面 平面移置开的至少一个凹入表面,所述至少一个的凹入表面形成在面对盘的表面上并大体位于倾斜的内侧轨道、倾斜的外侧轨道以及低于周围压力的凹腔的外面。

【技术特征摘要】
US 2001-8-22 60/314,522;US 2001-9-13 60/318,8521.一种盘头浮动块,它包括一具有一面对盘的表面的浮动块主体,该面对磁盘的表面包括大体设置在一支承表面平面内的一支承表面;形成在面对盘的表面上的一倾斜的内侧轨道、一倾斜的外侧轨道以及一凹腔气坝,其中,至少倾斜的内侧轨道、倾斜的外侧轨道以及凹腔气坝之一包括形成支承表面的至少一部分的一表面部分;形成在面对盘的表面上、倾斜的内侧和外侧轨道之间的一低于周围压力的凹腔,该低于周围压力的凹腔具有从支承表面平面移置开的一凹腔底板;以及比凹腔底板更进一步从支承表面平面移置开的至少一个凹入表面,所述至少一个的凹入表面形成在面对盘的表面上并大体位于倾斜的内侧轨道、倾斜的外侧轨道以及低于周围压力的凹腔的外面。2.如权利要求1所述的盘头浮动块,其特征在于,凹腔气坝包括一倾斜的前导边。3.如权利要求2所述的盘头浮动块,其特征在于,面对盘的表面还包括一前导边,并且其中,凹腔气坝的倾斜的前导边从一中点向两侧角点倾斜,两侧角点比中点从面对盘的表面的前导边移置得更远。4.如权利要求1所述的盘头浮动块,其特征在于,面对盘的表面还包括一前导边,并且其中凹腔气坝包括一凹腔气坝上表面;一凹腔气坝前导表面,该凹腔气坝前导表面从凹腔气坝上表面移置开并从支承表面移置开;以及其中,至少凹腔气坝上表面和凹腔气坝前导表面之一包括具有一中点和多个侧角点的一倾斜的前导边,所述多个侧角点设置成比中点离开面对盘的表面的前导边远。5.如权利要求4所述的盘头浮动块,其特征在于,凹腔气坝大体定位在面对盘的表面的前导边附近。6.如权利要求1所述的盘头浮动块,其特征在于,面对盘的表面还包括一内侧边和一后随边,并且其中,所述至少一个的凹入表面包括一内侧后随凹入表面,它大体设置在倾斜的内侧轨道和面对盘的表面的内侧边之间,并延伸至面对盘的表面的后随边。7.如权利要求1所述的盘头浮动块,其特征在于,面对盘的表面还包括一外侧边和一后随边,并且其中,所述至少一个的凹入表面包括一外侧后随凹入表面,它大体设置在倾斜的外侧轨道和面对盘的表面的外侧边之间,并延伸至面对盘的表面的后随边。8.如权利要求1所述的盘头浮动块,其特征在于,面对盘的表面还包括一前导边,并且其中,所述至少一个的凹入表面包括至少一个前导凹入表面,所述前导凹入表面大体设置在凹腔气坝和面对盘的表面的前导边之间。9.如权利要求1所述的盘头浮动块,其特征在于,凹腔气坝大体定位在面对盘的表面的前导边附近。10.如权利要求1所述的盘头浮动块,其特征在于,面对盘的表面还包括一前导边、一内侧边、一外侧边以及一后随边,并且其中,所述至少一个的凹入表面包括一内侧后随凹入表面,它大体设置在倾斜的内侧轨道和面对盘的表面的内侧边之间,并延伸至面对盘的表面的后随边;一外侧后随凹入表面,它大体设置在倾斜的外侧轨道和面对盘的表面的外侧边之间,并延伸至面对盘的表面的后随边;以及至少一个前导凹入表面,所述前导凹入表面大体设置在凹腔气坝和面对盘的表面的前导边之间。11.如权利要求1所述的盘头浮动块,其特征在于,所述至少一个的凹入表面大体设置成离开支承表面平面一至少为凹腔底板从支承表面移置开的距离的两倍的距离。12.如权利要求1所述的盘头浮动块,其特征在于,所述至少一个的凹入表面大体设置成离开支承表面平面一在大致8至10微米的范围内的距离。13.如权利要求1所述的盘头浮动块,其特征在于,所述至少一个的凹入表面大体设置成离开支承表面平面一至少6微米的距离。14.如权利要求1所述的盘头浮动块,其特征在于,所述凹腔底板大体设置成离开支承表面平面一在大致2至3微米的范围内的距离。15.如权利要求1所述的盘头浮动块,其特征在于,面对盘的表面还包括一外侧边,其中倾斜的外侧轨道包括一轨道前导端和一轨道后随端,并且其中,倾斜的外侧轨道构造成轨道后随端设置得比轨道前导端离开面对盘的表面的外侧边远。16.如权利要求1所述的盘头浮动块,其特征在于,面对盘的表面还包括一内侧边,其中倾斜的内侧轨道包括一轨道前导端和一轨道后随端,并且其中,倾斜的内侧轨道构造成轨道后随端设置得比轨道前导端离开面对盘的表面的内侧边远。17.如权利要求1所述的盘头浮动块,其特征在于,还包括至少一个外槽沟表面,所述槽沟表面与凹腔底板共面并大体设置在至少倾斜的内侧轨道和倾斜的外侧轨道之一的外面和附近。18.如权利要求1所述的盘头浮动块,其特征在于,还包括设置在低于周围压力...

【专利技术属性】
技术研发人员:RM拉奥
申请(专利权)人:希捷科技有限公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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