本实用新型专利技术涉及单晶硅片技术领域，且公开了一种单晶硅片的超声波清洗装置，包括主体，所述主体的内部活动连接有移动杆，所述移动杆的底端固定连接有固定块，所述固定块的前侧连接有连板，所述连板的前侧固定连接有承载机构，所述承载机构包括两个第一固定板、两个第二固定板、两个第一连接杆、两个第二连接杆、两个第一承载杆和两个第二承载杆。该单晶硅片的超声波清洗装置，通过第一固定板、第二固定板、第一连接杆、第二连接杆、第一承载杆、第二承载杆、卡槽、固定杆、螺杆和转动管之间的相互配合，达到了减小硅片承载篮对超声波阻碍的效果，解决了现有硅片承载篮在清洗硅片时会对超声波传递造成较大阻碍的问题。声波传递造成较大阻碍的问题。声波传递造成较大阻碍的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种单晶硅片的超声波清洗装置
[0001]本技术涉及单晶硅片
，具体为一种单晶硅片的超声波清洗装置。
技术介绍
[0002]在硅片制备的过程中，每一道工序都涉及到了清洗，而且清洗的好坏会直接影响下一道工序，甚至会影响器件的成品率和可靠性，而硅片因有多道清洗步骤，所以清洗装置也各不相同，其中便含有超声波清洗机，超声波清洗机包括清洗机主体以及硅片承载篮，硅片会被放置在承载篮内，并通过清洗机上的机械臂将承载篮放入清洗槽内进行清洗，但现有的硅片承载篮因对硅片的覆盖面积较大，在进行清洗时会对超声波的传递造成较大的阻碍，从而影响承载篮内硅片的清洗效果。
技术实现思路
[0003](一)解决的技术问题
[0004]针对现有技术的不足，本技术提供了一种单晶硅片的超声波清洗装置，具备减小硅片承载篮对超声波阻碍的优点，解决了现有硅片承载篮在清洗硅片时会对超声波传递造成较大阻碍的问题。
[0005](二)技术方案
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种单晶硅片的超声波清洗装置，包括主体，所述主体的内部活动连接有移动杆，所述移动杆的底端固定连接有固定块，所述固定块的前侧连接有连板，所述连板的前侧固定连接有承载机构，所述承载机构包括两个第一固定板、两个第二固定板、两个第一连接杆、两个第二连接杆、两个第一承载杆和两个第二承载杆，所述第一承载杆与第二承载杆的侧表面均活动连接有硅片，所述第一固定板的右侧固定连接有固定杆，所述固定杆的侧表面连接有转动管，所述第二固定板的左侧固定连接有螺杆。<br/>[0007]优选的，所述连板的后侧固定连接有限位块，所述固定块的内部开设有限位滑槽，所述限位块的侧表面与限位滑槽的内部活动连接。
[0008]优选的，所述固定杆的侧表面固定套接有限位环，所述转动管的内部开设有限位槽，所述限位环与限位槽的内部活动连接。
[0009]优选的，所述第一承载杆与第二承载杆的侧表面均开设有卡槽，所述硅片的侧表面与卡槽的内部卡接。
[0010]优选的，所述转动管的内壁开设有螺纹槽，所述螺纹槽与螺杆表面的螺纹相匹配。
[0011]优选的，所述承载机构的数量为五个，中间承载机构的后侧与连板的前侧固定连接。
[0012]与现有技术相比，本技术提供了一种单晶硅片的超声波清洗装置，具备以下有益效果：
[0013]1、该单晶硅片的超声波清洗装置，通过第一固定板、第二固定板、第一连接杆、第
二连接杆、第一承载杆、第二承载杆、卡槽、固定杆、螺杆和转动管之间的相互配合，达到了减小硅片承载篮对超声波阻碍的效果，解决了现有硅片承载篮在清洗硅片时会对超声波传递造成较大阻碍的问题。
[0014]2、该单晶硅片的超声波清洗装置，通过固定杆、螺杆、限位环和转动管之间的相互配合，可以通过拧动转动管使螺杆进行伸长或收缩，从而改变承载篮的大小，达到了便于改变承载篮大小的效果，解决了当承载篮扩大后，不易进行运输的问题。
附图说明
[0015]图1为本技术正视图；
[0016]图2为本技术限位块结构示意图；
[0017]图3为本技术承载机构结构示意图；
[0018]图4为本技术承载机构侧视图；
[0019]图5为本技术图3中A处放大图；
[0020]图6为本技术螺杆与固定杆连接状态结构示意图。
[0021]其中：1、主体；2、移动杆；3、固定块；4、连板；5、承载机构；6、第一固定板；7、第二固定板；8、第一连接杆；9、第二连接杆；10、第一承载杆；11、第二承载杆；12、硅片；13、卡槽；14、固定杆；15、螺杆；16、限位环；17、转动管；18、限位块；19、限位滑槽。
具体实施方式
[0022]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0023]请参阅图1
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6，一种单晶硅片的超声波清洗装置，包括主体1，主体1为超声波清洗机，超声波清洗机是利用超声波在液体中的空化、加速度及直进流作用对液体和污物直接或间接的作用，使污物层被分散、乳化和剥离而达到清洗目的，主体1的内部活动连接有移动杆2，移动杆2可在主体1的控制下进行移动和升降，移动杆2的底端固定连接有固定块3，固定块3的前侧连接有连板4，连板4的后侧固定连接有限位块18，固定块3的内部开设有限位滑槽19，限位块18的侧表面与限位滑槽19的内部活动连接，连板4的前侧固定连接有承载机构5，承载机构5的数量为五个，中间承载机构5的后侧与连板4的前侧固定连接，后侧第一固定板6和后侧第二固定板7的后侧均与连板4的前侧固定连接，承载机构5包括两个第一固定板6、两个第二固定板7、两个第一连接杆8、两个第二连接杆9、两个第一承载杆10和两个第二承载杆11。
[0024]前后两侧的第一固定板6之间通过第一连接杆8和第二连接杆9连接，第一连接杆8的前端与前侧第一固定板6的后侧固定连接，第一连接杆8的后端与后侧第一固定板6的前侧固定连接，第二连接杆9的前端与前侧第一固定板6的后侧固定连接，第二连接杆9的后端与后侧第一固定板6的前侧固定连接，前后两侧的第二固定板7之间通过第一连接杆8和第二连接杆9连接，第一连接杆8的前端与前侧第二固定板7的后侧固定连接，第一连接杆8的后端与后侧第二固定板7的前侧固定连接，第二连接杆9的前端与前侧第二固定板7的后侧
固定连接，第二连接杆9的后端与后侧第二固定板7的前侧固定连接，第一固定板6与第二固定板7之间则通过第一承载杆10和第二承载杆11连接，第一承载杆10的左端与第二固定板7的右侧固定连接，第一承载杆10的右端与第一固定板6的左侧固定连接，第二承载杆11的左端与第二固定板7的右侧固定连接，第二承载杆11的右端与第一固定板6的左侧固定连接，第一承载杆10与第二承载杆11的侧表面均活动连接有硅片12，第一承载杆10与第二承载杆11的侧表面均开设有卡槽13，硅片12的侧表面与卡槽13的内部卡接。
[0025]第一固定板6的右侧固定连接有固定杆14，最右侧的第一固定板未连接有固定杆14，固定杆14的侧表面连接有转动管17，固定杆14的侧表面固定套接有限位环16，转动管17的内部开设有限位槽，限位环16与限位槽的内部活动连接，转动管17的内壁开设有螺纹槽，螺纹槽与螺杆15表面的螺纹相匹配，两两相邻的承载机构之间通过由固定杆14、螺杆15、限位环16和转动管17组成的连接装置连接在一起，固定杆14的内部开设有通槽，螺杆15的侧表面与通槽的内部活动连接，通过固定杆14、螺杆15、限位环16和转动管17之间的相互配合，可以通过拧动转动管17使螺杆15进行伸长或收缩，从而改变承载篮的大小，达到了便于改变承载篮大小的效果，本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种单晶硅片的超声波清洗装置，包括主体(1)，其特征在于：所述主体(1)的内部活动连接有移动杆(2)，所述移动杆(2)的底端固定连接有固定块(3)，所述固定块(3)的前侧连接有连板(4)，所述连板(4)的前侧固定连接有承载机构(5)，所述承载机构(5)包括两个第一固定板(6)、两个第二固定板(7)、两个第一连接杆(8)、两个第二连接杆(9)、两个第一承载杆(10)和两个第二承载杆(11)，所述第一承载杆(10)与第二承载杆(11)的侧表面均活动连接有硅片(12)，所述第一固定板(6)的右侧固定连接有固定杆(14)，所述固定杆(14)的侧表面连接有转动管(17)，所述第二固定板(7)的左侧固定连接有螺杆(15)。2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片的超声波清洗装置，其特征在于：所述连板(4)的后侧固定连接有限位块(18)，所述固定块(3)的内部开设有限位滑...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈锋，沈国君，陆勇，汪国平，
申请(专利权)人：浙江众晶电子有限公司，
类型：新型
国别省市：
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