全息记录介质制造技术

本发明专利技术提供了一种全息记录介质，该全息记录介质使用简单的结构来精确执行光束点的定位控制，并在在该记录介质的切向和径向上执行二维定位控制的同时执行移位复用记录。所提供的全息记录介质具有位于两个基底之间的记录／再现层和反射层，并且用于执行光学定位控制的连续的或间断的凸单元或凹单元被安置在与反射层相邻的基底上，该基底具有面向反射层的平坦表面。因此，所提供的全息记录介质精确地执行记录数据的光束点的定位控制，并在在该记录介质的切向和径向上执行二维定位控制的同时执行移位复用记录。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种记录介质，更具体地讲，涉及一种通过使用物光束和参考光束的干涉条纹来将数据记录在上面的全息记录介质。
技术介绍
最近，相移型光盘或磁光型光盘被广泛用作信息记录介质。为了增加这样的光盘的记录密度，需要减小光束点的直径和相邻轨道或相邻位之间的距离。尽管光盘的记录密度已增加，但是用于将数据记录在表面上的光束的衍射极限在物理上限制了光盘的记录密度。因此，需要包括深度方向的三维复用记录来增加光盘的记录密度。因此，全息记录介质作为下一代计算机记录介质已吸引了公众的注意，该全息记录介质由于三维复用记录区域而具有大容量并且由于二维记录/再现方案而可在高速下使用。可通过在两片玻璃之间插入由光聚合物形成的记录/再现层来形成这样的全息记录介质。为了将数据记录在全息记录介质上，与将被记录的数据对应的物光束和参考光束被照射在全息记录介质上以形成干涉条纹。为了从全息记录介质再现数据，参考光束被照射到干涉条纹。由于多个二维数据记录在相同的区域，因此以与CD相同的形状形成的全息记录介质具有兆兆字节级的巨大的记录密度。就这一点，第2000-268380号日本公开专利公开了一种将定位信号作为全息数据记录在全息记录介质上的方法。
技术实现思路
技术问题根据这样的方法，可将数据记录在全息记录介质的前表面上。然而，当经不同的记录/再现装置从全息记录介质再现数据时，由于对于不同的记录/再现装置，偏心的芯轴的振动量或者卡紧偏离量不同，因此难以精确地确定全息记录介质上的位置。技术解决方案本专利技术提供一种全息记录介质，该全息记录介质允许对其上的光束点进行定位控制和在其切向和径向上的二维定位控制期间的移位复用记录。有利的效果在根据本专利技术的全息记录介质中，可经简单的结构实现光束点的定位控制，并且可基本上同时执行在记录介质的切向和径向上的二维移位复用记录。附图说明从下面结合附图对实施例的描述，本专利技术的这些和/或其他方面和优点将变得更加清楚并更容易理解，附图中图1A和图1B是根据本专利技术实施例的全息记录介质的剖视图；图2示出根据本专利技术实施例的全息记录介质；图3是示出用于定位的凹单元或凸单元的宽度的根据本专利技术实施例的全息记录介质的剖视图；和图4示出通过二维移位复用记录来记录数据的方案。最佳模式本专利技术提供一种全息记录介质，该全息记录介质允许对其上的光束点进行定位控制和在其切向和径向上的二维定位控制期间的移位复用记录。根据本专利技术的一方面，全息记录介质包括用于记录数据的位于第一表面上的记录/再现层和位于第二表面上的光学定位控制层。因此，对于包括大容量的所述全息记录介质，可控制光束点的定位以便记录/再现数据。根据本专利技术的另一方面，全息记录介质包括位于两个基底之间的记录/再现层和反射层，其中，用于执行光学定位控制的连续或间断的凸单元或凹单元被安装在与反射层相邻的基底上。这里，所述基底包括面向反射层的平坦平面。因此，对于具有大容量的所述全息记录介质，可控制光束点的定位以便记录/再现数据。另外，由于用于记录/再现数据的层是平的，因此可执行二维移位复用记录。在使用与反射层相邻的基底的凸单元或凹单元来执行用于记录和再现数据的光学定位操作的同时，可在记录/再现层的基底方向上对数据进行记录和再现。因此，可提供一种适合用于具有独立的信息记录/再现光学系统和定位控制光学系统的装置的全息记录介质。当执行移位复用记录时，用于定位控制的凸单元或凹单元的宽度与光束点的移位量相同。当执行移位复用记录时，用于定位控制的凸单元或凹单元的宽度被确定为是光束点的移位量的整数倍。因此，提供一种使用简单的结构来执行二维移位复用记录/再现的全息记录介质。当执行移位复用记录时，用于定位控制的凸单元和凹单元的宽度之和与光束点的移位量近似。当执行移位复用记录时，用于定位控制的凸单元和凹单元的宽度之和被确定为是光束点的移位量的整数倍。因此，提供一种经简单的结构来执行二维移位复用记录/再现的全息记录介质。所述全息记录介质是盘形的。因而，由于大容量的所述全息记录介质是盘形的，因此在该全息记录介质中可控制光束点的定位来记录/再现数据。另外，由于用于记录/再现数据的层是平的，因此可执行二维移位复用记录。所述全息记录介质是卡形的。因而，由于大容量的所述全息记录介质是卡形的，因此在该全息记录介质中可控制光束点的定位来记录/再现数据。另外，由于用于记录/再现数据的层是平的，因此可执行二维移位复用记录。本专利技术的另外和/或其他方面和优点将在下面的描述中被部分地阐述，并且部分地根据描述将变得明显，或者可通过实施本专利技术而了解。本专利技术的模式现在，将详细说明本专利技术的实施例，其例子示于附图中，在附图中相同的标号始终表示相同的部件。下面将参照附图描述这些实施例以解释本专利技术。图1A和图1B是根据本专利技术实施例的全息记录介质的剖视图。参照图1A，根据本专利技术第一实施例的全息记录介质包括基底1a、记录/再现层2、反射层3、基底1b和覆盖层4。为了在全息记录介质上记录数据或从该全息记录介质再现数据，信息记录/再现光学系统被安置在基底1a的上部。然后从该信息记录/再现光学系统发射光束点，换言之，物光束和参考光束。因此，由物光束和参考光束形成的干涉条纹被记录在记录/再现层2上。当再现数据时，不使用位于反射层3的下面的基底1b和覆盖层4。同时，凹单元或凸单元形成于基底1b的与反射层3相对的表面。当全息记录介质是盘形时，所述凹单元或凸单元可形成为与光盘的轨道凹槽相似的螺旋形或圆形。另外，覆盖层4将定位控制光学系统安置在基底1b的凹单元或凸单元上以将光束点照射到凹单元或凸单元，从而方便地执行定位检测和定位控制。覆盖层4在物理上保护基底1b的凹单元或凸单元免受外界损伤。参照图1B，中间层5可形成于反射层3的下面，具有凹单元或凸单元的基底1b可被布置在中间层5的下面。当然，尽管未示出，但是像图1A中所示的实施例一样本实施例也可包括覆盖层。而且，只要记录/再现层面向位置控制层安置，全息记录介质可形成为不同的形状。在另一种情况下，可通过将信息记录/再现光学系统与定位控制光学系统连接来相对简单地形成信息记录/再现光学系统中的定位控制，从而相对精确地对定位控制光学系统进行控制。这样的结构显示在图2中，其中，信息记录/再现光学系统和定位控制光学系统被物理连接。当然，信息记录/再现光学系统和定位控制光学系统也可被物理分离。在这种情况下，控制信号从定位控制光学系统反馈到信息记录/再现光学系统和定位控制光学系统二者，以便控制这些光学系统的定位。现在，将参照图3描述形成在基底1b上的凹单元或凸单元的宽度。上述根据本专利技术实施例的全息记录介质包括能够实现定位控制的结构，并包括基底1a、记录/再现层2和具有平坦表面的反射层3。因此，当执行移位复用记录(shift multi-recording)操作时，可在全息记录介质的径向上对数据进行相对精确的记录/再现。另外，也可在切向上对数据进行相对精确的记录/再现。换言之，可在控制定位的同时执行二维移位复用记录。基于由基底1b的凹单元或凸单元提供的信息来执行定位控制。然而，通过将其连接到定位控制光学系统来确定其位置的信息记录/再现光学系统可在沿径向自动地移位的同时记录/再现数据。这可通过将凹单元或凸单元的宽度设置为与在记录/再现数据本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种全息记录介质，具有位于一个表面上的用于记录数据的记录／再现层和位于另一表面上的光学定位控制层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】KR 2004-10-5 10-2004-0079206;JP 2004-2-18 041429/21.一种全息记录介质，具有位于一个表面上的用于记录数据的记录/再现层和位于另一表面上的光学定位控制层。2.一种全息记录介质，具有位于两个基底之间的记录/再现层和反射层，其中，用于光学定位控制的连续的或间断的凸单元或凹单元位于与反射层相邻的一个基底上，该基底具有面向反射层的平坦表面。3.如权利要求2所述的全息记录介质，其中，在通过与反射层相邻的基底的凸单元或凹单元来执行用于记录和再现操作的光学定位的同时，在记录/再现层上对数据进行记录和再现。4.如权利要求2所述的全息记录介质，其中，当执行移位复用记录时，用于定位控制的凸单元或凹单元的每一个的宽度与光束点的移位量相同。5.如权利要求2所述的全息记录介质，其中，当执行移位复用记录时，用于定位控制的凸单元和凹单元的宽度之和与光束点的移位量相同。6.如权利要求2所述的全息记录介质，其中，当执行移位复用记录时，通过将光束点的移位量乘以整数来确定用于定位控制的凸单元或凹单元的每一个的宽度。7.如权利要求2所述的全息记录介质，其中，当执行移位复用记录时，通过将光束点的移位量乘以整数来确定用于定位控制的凸单元和凹单元的宽度之和。8.如权利要求2所述的全息记录介质，其中，所述介质是盘形的。9.如权利要求2所述的全息记录介质，其中，所述介质是卡形的。10.一种介质，包括第一基底，信息记录/再现光学系统可设置于其上，所述信息记录/再现光学系统被物光束和参考光束照射；与第一基底相邻的记录/再现层，物光束和参考光束在该记录/再现层上形成干涉条纹；与记录/再现层相邻的第二基底，在该第二基底的一个表面上形成有凹单元或凸单元，用于提供定位信息；和覆盖层，与第二基底相邻，用于设置定位控制光学系统的位置以便检测定位信息并控制定位。11.如权利要求10所述的介质，还包括与记录/再现层相邻的反射层。12.如权利要求10所述的介质，其中，所述介质是盘形的，所述凹单元或凸单元是螺旋形或圆形。13.如权利要求10所述的介质，其中，所述定位控制光学系统将光束点照射到凹单元或凸单元上以便执行定位信息的检测和定位的控制。14.如权利要求10所述的介质，其中，所述覆盖层保护第二基底的凹单元或凸单元。15.如权利要求11所述的介质，还包括与反射层和第二基底相邻的中间层。16.如权利要求10所述的介质，其中，当执行移位复用记录操作时，能够在介质的径向上相对精确地记录/再现数据，并且当执行移位复用记录操作时，能够在该全息记录介质的切向上相对精确地记录/再现数据。17.如权利要求16所述的介质，其中，所述凹单元或凸单元的每一...

【专利技术属性】
技术研发人员：青木育夫，高桥义孝，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]