一种打印头清洗装置及打印设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种打印头清洗装置及打印设备。本实用新型专利技术技术方案通过在清洗件上开设清洗槽，清洗槽能够容纳打印头，且在清洗槽内设置吸附机构、清洗机构和风干机构。当打印头接近清洗槽的槽底时，启动吸附机构，利用负压将打印头上的挂液吸取干净，接着，打印头再远离清洗槽的槽底，位移至清洗机构所在位置时，并启动清洗机构，清洗机构可以朝向打印头喷出清洗剂等，用于清洗打印头，最后打印头再远离清洗槽的槽底，位移至风干机构所在位置，并启动风干机构，将经过清洗的打印头进行吹干，实现无接触式清洗打印头，避免利用布料等擦拭打印头而导致打印头损伤，以及造成布料等的浪费。的浪费。的浪费。

【技术实现步骤摘要】
一种打印头清洗装置及打印设备


[0001]本技术涉及打印设备
，特别涉及一种打印头清洗装置及打印设备。

技术介绍

[0002]随着纳米材料技术与设备技术的发展，在OLED/QLED显示技术中，采用喷墨印刷在刚性/柔性衬底上实现低成本、大面积印刷制备成为最被青睐的技术。当把某种打印墨水加入墨盒后，在打印之前需要进行墨滴观测，往往会多次清洗打印通道，使得在打印过程中墨滴稳定出墨，在清洗后需要把打印头上喷嘴处的挂液擦拭干净，现有技术中，往往采用布直接擦拭，即把打印头移动到布上再从左到右水平运动来擦拭打印头，这种接触式擦拭多次后往往会损伤打印头，且布擦拭一次后需要更换，浪费时间且成本高。

技术实现思路

[0003]本技术的主要目的是提供一种打印头清洗装置及打印设备，旨在解决现有技术中，往往采用布直接擦拭损伤打印头，且布擦拭一次后需要更换，浪费时间且成本高的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提出的一种打印头清洗装置，所述打印头清洗装置包括：
[0005]清洗件，所述清洗件上开设有清洗槽；
[0006]吸附机构，所述吸附机构设置于所述清洗槽的槽底上；
[0007]清洗机构，所述清洗机构与所述清洗槽连接；
[0008]风干机构，所述风干机构与所述清洗槽连接，所述清洗机构与所述吸附机构之间的高度小于所述风干机构与所述吸附机构之间的高度。
[0009]优选的，所述清洗机构、所述风干机构均设置于所述清洗槽的槽壁上。
[0010]优选的，所述清洗机构与所述风干机构间隔设置。
[0011]优选地，所述清洗槽的槽壁上开设有至少一个第一通孔，至少一所述第一通孔外接清洗剂，形成所述清洗机构。
[0012]优选地，所述清洗槽的槽壁上开设有至少一个第二通孔，至少一所述第二通孔外接气源，形成所述风干机构。
[0013]优选地，自所述清洗槽的槽底至所述清洗槽的槽口的方向上，所述第一通孔与所述第二通孔之间的间距大于5mm。
[0014]优选地，所述气源为惰性气体。
[0015]优选地，所述清洗槽的槽底开设有至少一个第三通孔，所述吸附机构包括：
[0016]真空泵，所述真空泵与至少一个所述第三通孔连通。
[0017]优选地，所述打印头清洗装置还包括：
[0018]密封圈，所述密封圈设置于所述清洗槽的槽壁上，所述密封圈位于所述清洗机构与所述清洗槽的槽底之间。
[0019]优选地，所述密封圈与所述清洗槽的槽底之间的间距大于12mm。
[0020]本技术提出的一种打印设备，所述打印设备包括上述所述的打印头清洗装置，以及
[0021]机座，所述清洗件设置于所述机座上；
[0022]打印头，所述打印头升降设置于所述机座上，且所述打印头位于所述清洗槽的槽口上方，所述打印头可伸入或者远离所述清洗槽。
[0023]本技术技术方案通过在清洗件上开设清洗槽，清洗槽能够容纳打印头，且在清洗槽内设置吸附机构、清洗机构和风干机构。当打印头接近清洗槽的槽底时，启动吸附机构，利用负压将打印头上的挂液吸取干净，接着，打印头再远离清洗槽的槽底，位移至清洗机构所在位置时，并启动清洗机构，清洗机构可以朝向打印头喷出清洗剂等，用于清洗打印头，最后打印头再远离清洗槽的槽底，位移至风干机构所在位置，并启动风干机构，将经过清洗的打印头进行吹干，实现无接触式清洗打印头，避免利用布料等擦拭打印头而导致打印头损伤，以及造成布料等的浪费。
附图说明
[0024]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0025]图1为本技术打印头清洗装置一实施例的结构示意图；
[0026]图2为本技术打印头清洗装置一实施例清洗件的结构示意图；
[0027]图3为本技术打印头清洗装置再一实施例的结构示意图。
[0028]附图标号说明：
[0029]标号名称标号名称100打印头清洗装置10清洗件20吸附机构30清洗机构40风干机构50密封圈200打印头A清洗槽B第一通孔C第二通孔D第三通孔
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[0030]本技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0031]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0032]需要说明，本技术实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如
果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
[0033]另外，在本技术中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本技术要求的保护范围之内。
[0034]如图1至图2所示，图1为打印头清洗装置100的截面结构示意图，图2为清洗件的立体图，本技术提出了一种打印头清洗装置100，所述打印头清洗装置100包括清洗件10，所述清洗件10上开设有清洗槽A；吸附机构20，所述吸附机构20设置于所述清洗槽A的槽底上；清洗机构30，所述清洗机构30与所述清洗槽A连接；风干机构40，所述风干机构40与所述清洗槽A连接，所述清洗机构30与所述吸附机构20之间的高度小于所述风干机构40与所述吸附机构20之间的高度。
[0035]显示技术从早期的阴极射线管(CRT)，到20世纪80年底中期的液晶显示(LCD)、等离子体平板显示(PDP)，再到目前主流的OLED/QLED显示，完成了一次又一次质的飞跃。
[0036]有机电致发光二极管(OLED)由于其具有自发光、结构简单、超轻薄、相应速度快、宽视角、低功耗、可柔性显示等十分优异的显示性能，已成为显示
中的主流技术。量子点发光二极管(QLED)具有出射光颜色饱和，波长可调的优点，而且光致、电致发光量子产率高，近年来成了OLED的有力竞争着。
[0037]目前，在OLED/QLED显示技术中，厂家都采用成熟的真空蒸镀技术来制备各功能层，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种打印头清洗装置，其特征在于，所述打印头清洗装置包括：清洗件，所述清洗件上开设有清洗槽；吸附机构，所述吸附机构设置于所述清洗槽的槽底上；清洗机构，所述清洗机构与所述清洗槽连接；风干机构，所述风干机构与所述清洗槽连接，所述清洗机构与所述吸附机构之间的高度小于所述风干机构与所述吸附机构之间的高度。2.如权利要求1所述的打印头清洗装置，其特征在于，所述清洗机构、所述风干机构均设置于所述清洗槽的槽壁上。3.如权利要求1所述的打印头清洗装置，其特征在于，所述清洗机构与所述风干机构间隔设置。4.如权利要求3所述的打印头清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的槽壁上开设有至少一个第一通孔，至少一所述第一通孔外接清洗剂，形成所述清洗机构。5.如权利要求4所述的打印头清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的槽壁上开设有至少一个第二通孔，至少一所述第二通孔外接气源，形成所述风干机构。6.如权利要求5所述的打印头清洗装置，其特征在于，自所述清洗槽的槽底至所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：眭俊，
申请(专利权)人：广东聚华印刷显示技术有限公司，
类型：新型
国别省市：