一种用于在第一表面记录结构中进行磁光记录的记录头，在使用中想要基本上平行于可记录介质（２）的平面里具有透明孔（８；２２；３２）。配置该头提供允许光束（６）穿过透明孔（８；２２；３２）到可记录介质（２）上的光路，并且进一步包括一具有磁导（１２；２４；３５）的中心磁头构件（１１；２０；３４），所述中心磁头构件用于部分地阻碍透明孔（８；２２；３２）。该中心磁头构件（１１；２０；３４）在平行于该平面的第一方向（ｘ）上具有基本上比平行于该平面的第二方向（ｙ）上大的尺寸。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于在第一表面记录结构中进行磁光记录的记录头，其包括在想要基本上平行于使用中的可记录介质的平面里具有透明孔，配置该头用于提供允许光束穿过透明孔到可记录介质上的光路，并且还包括一具有磁导的中心磁头构件，用于部分地阻碍透明孔。本专利技术进一步涉及一种包括这样的记录头的磁光记录装置。从WO00/31734中已知上述类型的记录头和装置的一个例子。该已知头是包括磁头、带有用于产生辐射束的辐射源的光学子系统、适合用于在磁头和辐射源的结合控制下记录或擦除其中或其上的信息的可记录介质的系统的一部分。头和源位于可记录介质的相同侧。该系统进一步包括反射介质，以反射从源到可记录介质上的、入射到其上的辐射线。该磁头位于辐射源和可记录介质之间的光路上以仅部分地阻碍射束。该反射介质用于在可记录介质上的某个位置产生光学系统的焦点。该已知构造的问题是记录层位于记录头和反射介质之间并且在记录中光必须穿过该层。因为这个层通常是金属的，它的透射系数很低。当也通过穿过该记录头的光束读取已记录的数据时，例如作为应用克尔(Kerr)效应用于进行磁光记录的情况，这是尤其成问题的。为了提供足够的光能给该可记录介质的记录层上的光点，反射介质是必需的。本专利技术的一个目的是提供一种上述类型的记录头和记录装置，其分别提供了在可记录介质上的磁场以及足够强度和亮度的光束，同时允许以相对小的功率产生磁场和光束。通过根据本专利技术的记录头实现这个目的，其特征在于中心磁头构件在平行于表面的第一方向上具有基本上比平行于该平面的第二方向上大的尺寸。本专利技术基于以下认识，为了针对给定场感应电流获得相对高的磁场强度，中心磁头构件并且尤其是磁导部分应当具有大的横截面积。另一方面，由光束产生的光点的遮掩部分将导致光点轮廓的锐化和旁瓣的出现。当遮掩很小时，旁瓣强度可以保持很小，从而有利地在一个方向上保持它们很小，以防止由旁瓣引起的受热并且因此扩大热轮廓，否则其可以破坏记录在介质上的相邻位。在一优选实施方式中，中心磁头构件包括至少一个电导绕组。因此，用于记录的磁场至少部分通过在这些绕组中通过电流而产生。因为它们是在中心磁头构件中，它们可以具有小的直径，从而产生线圈中的相对低的自感。这具有使记录头更适合用于高比特率记录的优点并且通常所有的记录技术要求频繁地反转磁场的方向，例如激光脉冲磁场调制。在一优选实施方式中，磁导包括具有基本上以穿过透明孔的光束为中心的轴的中心磁极。因此，磁通量集中在光束聚焦于其上的可记录介质上的光点周围的小区域。这允许了高效率的磁头，其可以依靠低功率驱动器运行。在结合了两个前述的实施方式的实施方式中，至少一个绕组是缠绕在中心磁极上的。因为仅光点周围的小区域产生了磁场以及磁头的紧凑尺寸和它的绕组导致了相对低的自感，因此实现了在最低自感的最高可能的磁头效率。优选地，该记录头包括至少一个具有平行于中心磁极轴的轴的返回磁极。因为磁通线将会集中在从中心磁极到返回磁极的路径上，因此，集中了在可记录介质里的通量，而不是在可记录介质中扩大。这增加了记录头的有效性。一个有利的实施方式进一步包括了环形外部磁头构件，其围绕中心磁头构件并且具有大于穿过孔的光束的直径的内径。该环形外部磁头构件最好包括用于提高由中心磁头构件产生的磁场的线圈，但是也可以仅包括一个用于集中由后者产生的通量的磁轭。因此，提高了产生的磁场强度。环形磁头结构没有阻碍光束，所以不那么严格要求它的尺寸。没有环形外部磁头构件，中心磁头构件的尺寸将限制磁场强度，其可能不会遮掩光束太多。此外，由于它的紧凑，当包括电导绕组的中心磁头构件在它自己上使用时，变热，所以降低了效率。因为通过带有它的小直径绕组的中心磁头构件产生至少部分磁场，该记录头允许比仅包括一个环形外部磁头构件的记录头更快的转换。优选地，该记录头包括反折射光学系统，配置用于提供光路。这具有的优点是，在分割光学系统结构中，其中用于读取数据的光学系统从那些用于记录的系统中分离，当进入光学系统的光束的角度发生小的变化时光点和磁记录场保持被良好校准。此外，记录头保持相对紧凑。尤其是，记录头的重量可以保持很低。对于包括滑块的记录头并且那些为了保持光束聚焦到可记录介质的记录层里的光点而被驱动的记录头，这很重要。优选地，配置反折射光学系统用于转换入射光束为空心光束。在这方面，空心光束被用来表示横截面区域的强度特性在中央比在其它地方低得多的光束。这个实施方式具有的优点是可以在空心光束的中央放置中心磁头构件，从而避免通过从中心磁头构件中吸收和反射掉而丢失光功率。在另一个实施方式中，中心磁头构件在第一方向上超出孔的外部尺寸延伸。因此，可能引导外部产生的磁通量到中心磁头构件中。根据本专利技术的另一个方面，根据本专利技术的磁光记录装置包括根据本专利技术的记录头。现在将会通过实施例，参照附图更详细地解释本专利技术，其中附图说明图1示意性的而不是按比例地显示了记录头的第一结构的横截面；图2是图1的记录头的孔的底视图；图3是图1的磁头结构的示意性的透视图；图4示意性的而不是按比例地显示了具有反折射聚焦系统和中心以及外部磁头结构的记录头的横截面；图5是图4的记录头的孔的底视图；图6是图4的中心和外部磁头结构的示意性透视图；图7示意性的而不是按比例地显示了第二类型的具有反折射聚焦系统的记录头的横截面，所述记录头包括合并的中心和外部磁头结构；图8是图7的记录头的孔的底视图；和图9是图7的记录头中的合并的中心和外部磁头结构的示意性透视图。如图1所示，提供记录头1用于在可记录介质2上进行信息的磁光记录。通过仅指出基底3、薄膜记录叠层4和覆盖层5，仅仅非常示意性地显示了可记录介质2。可以理解，真的可记录介质将包括更多层，尤其是薄膜记录叠层4将包含很多在成分上不同的层。通过聚焦光束6到薄膜记录叠层4上的光点并且根据将要写入的信息以特定方向提供磁场来记录信息。因为入射到薄膜记录叠层4上的光没有穿过基底3，这个记录结构称为第一表面记录。简而言之，除了(可选的)薄覆盖层5，包括记录叠层4的层是由入射光遇到的第一层。记录头1包括玻璃基底7，其具有用于允许光穿过到可记录介质2上的孔8。孔8的外径比通过它穿过的光束的外径大，以便不减少传送的光量。通过入射的光束9的直径和包含在记录头1中用于转换入射光束9为聚焦在可记录介质2上的记录光点的光束6的光学系统，确定穿过孔8的光束6的外径。因此，配置记录头1提供允许光束6穿过孔8的光路。在图1的实施例中，主要由透镜10形成光学系统。在图1的结构中，利用中心磁头构件11产生磁场。由中心磁头构件11遮掩光束6的内部。从图2中将会清楚内部孔8具有允许从入射光束9形成的空心光束6在它的边缘基本上无阻碍的穿过的足够大的外径。相反，将中心磁头构件11放置在沿着传送空心光束6的光路里，以便从中心向外部分地阻碍透明孔8。可见，中心磁头构件11在图2和3中标记为x方向的第一方向中具有基本上比在图2和3中标记为y方向的垂直第一方向的第二方向上大的尺寸(即比通常的制造公差高的数值要求)。因此，中心磁头构件11是旋转地不对称的。注意在图2和3的坐标系统中，x和y轴是基本上平行于孔8所在的平面的，其在使用中又是基本上平行于可记录介质2的。还注意到的是，垂直于从记录头1发出的光的方向的横截面可以是本文档来自技高网...
【技术保护点】
用于在第一表面记录结构中进行磁光记录的记录头，包括透明孔（８；２２；３２），在想要在使用中基本上平行于可记录介质（２）的平面中，头，配置用于提供允许光束（６）穿过透明孔（８；２２；３２）到可记录介质（２）上的光路，并且进一步包括中心磁头构件（１１；２０；３４），其包括磁导（１２；２４；３５），中心磁头构件用于部分地阻碍透明孔（８；２２；３２），其中该中心磁头构件（１１；２０；３４）在平行于该平面的第一方向（ｘ）上具有基本上比在平行于该平面的第二方向（ｙ）上大的尺寸。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2003-9-22 03103494.51.用于在第一表面记录结构中进行磁光记录的记录头，包括透明孔(8；22；32)，在想要在使用中基本上平行于可记录介质(2)的平面中，头，配置用于提供允许光束(6)穿过透明孔(8；22；32)到可记录介质(2)上的光路，并且进一步包括中心磁头构件(11；20；34)，其包括磁导(12；24；35)，中心磁头构件用于部分地阻碍透明孔(8；22；32)，其中该中心磁头构件(11；20；34)在平行于该平面的第一方向(x)上具有基本上比在平行于该平面的第二方向(y)上大的尺寸。2.根据权利要求1的记录头，其中该中心磁头构件(11；20；34)包括至少一个电导绕组。3.根据权利要求2的记录头，其中一个绕组的至少一些匝(14)是由透明材料制成的。4.根据权利要求1-3的任一个的记录头，其中磁导(12；24；35)包括中心磁极(13；25；36)，中心磁极(13；25；36)具有基本上位于穿过透明孔(8；22；3...
【专利技术属性】
技术研发人员：HW范克斯特伦，BHW亨德里克斯，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]
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