光学记录介质以及光学记录再生方法技术

本发明专利技术提供了一种光学记录介质，被来自光源的光作为近场光使用数值孔径超过１的聚焦透镜进行照射来执行记录和／或再生，其中，折射率高于透光材料部分的高折射率材料部分与透光材料部分混合得到的复合层设置在光学记录介质的光入射侧的表面上。由于复合层的平均折射率较高，因而可以使由表面层的折射率控制的数值孔径变大，从而获得高分辨率和抵抗与透镜等接触的耐久性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光学记录介质和一种光学记录再生方法，该光学介质通过近场光照射来执行记录和/或再生。
技术介绍
由CD(压缩盘)、MD(小型盘)和DVD(数字通用盘)代表的光学(或磁光)记录介质广泛地用作存储如音乐信息、视频信息、数据、程序以及类似内容的存储介质。在对这些光学记录介质进行记录再生的系统中，通过检测在光学记录介质的记录表面形成的微小凹凸和检测相位变化材料的反射率改变结构，物镜以无接触方式面对光学记录介质的表面来读取微小的记录标记。在磁光记录方法中，对Kerr旋转角发生改变的磁畴结构进行检测来读取微小的记录标记。近年来，由于在这样的光学记录介质中期望更大的容量和更高的密度，因而，对在光学记录介质中形成更小的记录标记并以高分辨率读取这些记录标记的技术进行了大量的研究。如果λ是照射光的波长以及NA是用于将光线聚于光学记录介质上的聚焦透镜的数值孔径，那么照射光学记录介质的光斑的大小大约为λ/NA，并且分辨率与该值成比例。数值孔径为NA＝n×sinθ其中n为介质的折射率，θ为外部光线在物镜上的入射角。当介质为空气时，NA不超过1，且分辨率存在限制。因此，在光学记录再生装置中，使光源(例如，半导体激光器)的波长变短，并使聚焦透镜的数值孔径变大。另一方面，提出了一种使用从分界面开始成指数衰减的隐失波(evanescent wave)的称为近场光学记录再生方法，作为获得大于1的数值孔径的方法。在近场光学记录再生方法中，聚焦透镜和光学记录介质的表面之间的间隙必须非常地小。提出了一种使用固态浸没透镜(SIL)的光学记录再生方法，作为用近场光线照射光学记录介质来执行记录再生的方法(例如，参考专利文献1和非专利文献1)。图1示出了使用SIL作为近场光照射部的光学记录再生装置的示例的示意性结构图。如图1所示，该光学记录再生装置包括光源20、准直透镜21、光束分离器22、偏振光束分光器23、1/4波长板24、光学透镜25和近场光照射部(本例中为SIL)26，它们在光轴上以所述顺序设置。第一光接收部27设置在由偏振光束分光器23反射的光线的光路上，第二光接收部28设置在由光束分离器22反射的光线的光路上。短划线C表示光轴。在具有这样结构的光学记录再生装置中，从光源20发射出来的光线通过准直透镜21变成平行光，在经过光束分离器22和偏振光束分光器23之后，其相位经过1/4波长板24提前四分之一波长。然后，光线作为近场光线通过光学透镜25和近场光照射部26(例如，为SIL)，照射到光学记录介质的记录面。从光学记录介质110返回的光线通过近场光照射部26、光学透镜25和1/4波长板24入射到偏振光束分光器23。由于在正向路径和返回路径通过1/4波长板24后，相位提前了二分之一波长，从光学记录介质110返回的光线被偏振光束分光器23反射，并被第一光接收部27接收。另一方面，由于偏振在SIL的边缘转换，完全在近场光照射部(本例中为SIL)26的边缘反射的返回光线经过偏振光束分光器23传播和被光束分离器22反射，并被第二光接收部28接收。具体地，在图1所示的光学记录再生装置中，第一光接收部27检测记录在光学记录介质110的记录面上的信息。另一方面，第二光接收部28检测根据光记录介质110和面对光学记录介质110的近场光照射部26之间的距离而改变的、全部被反射的返回光线。因此，在光学记录介质110的表面和近场光照射部26(例如SIL)的边缘之间的距离(即间隙)能够通过由第二光接收部28检测到的返回光线的量检测出来。例如，提出了一种如图2所示的用在上述记录再生装置中的相位改变记录型光学记录介质110。图2是示意性示出光学记录介质110的示例的截面的结构图，其中，反射层102由铝或类似材料制成，介电层103由SiO2或类似材料制成，相位改变材料层104由GeSbTe或类似材料制成，以及介电层105由SiO2或类似材料制成，这些层顺序覆盖在由玻璃、聚碳酸酯(PC)或类似材料制成的衬底101上。此外，提出了一种如图3所示的用在前面提到的记录再生装置中的只读型光学记录介质110。图3是示意性示出光学记录介质110的另一个示例的截面的结构图，相应于记录信息的凹凸坑位于由玻璃、PC或类似材料制成的衬底101上，由铝或类似材料制成的反射层102在其上面形成(例如，参考非专利文献2和3)。在使用前述近场光照射部(如SIL)的情况下，近场光照射部的表面和光学记录介质的表面之间的距离，也就是间隙最好等于或小于照射光波长的十分之一(例如，参考非专利文献4)。因此，在近场光照射部(如SIL)与光学记录介质的表面碰撞的情况下，有引起信息记录部分损坏的可能性。为了控制或避免这样的问题，例如，披露了一种如图4的横截面结构图中示出的结构，在该结构中，具有厚度近似为1μm或更大的保护层108设置在光学记录介质110的信息记录表面的最上面(例如，参考非专利文献5)。在图4中，与图2中相应的部分给出相同的附图标号，其多余解释将省略。如图4所示，由近场光照射部26提供的光线的焦点位置穿过保护层108设置在记录再生层的表面上，也就是在图中示出的示例中的相位改变材料层104的表面。此外，同样在这种情况下，光学记录介质110的表面和由SIL或类似材料制成的近场光照射部26的表面之间的间隙需要近似为照射光波长的十分之一或更小。专利文献1日本公开专利申请第H5-189796号非专利文献1I.Ichimura等，“Near-Field Phase-ChangeOptical Recording of 1.36 Numerical Aperture”，Japanese Journal ofApplied Physics，Vol.39，pp.962-967(2000)非专利文献2M.Shinoda等，“High Density Near-FieldOptical Disc Recording”，Digest of ISOM2004，We-E-03 非专利文献3M.Furuki等，“Progress in Electron BeamMastering of 100Gb/inch2 Density Disc”，Japanese Journal of AppliedPhysics Vol.43，pp.5044-5046(2004)非专利文献4K.Saito等，“A Simulation of Magneto-OpticalSignal in Near-Field Recording”，Japanese Journal of Applied Physics，Vol.38，pp.6743-6749(1999)非专利文献5C.A.Verschuren，“Towards cover-layer incidentread-out of a dual-layer disc with a NA＝1.5 solid immersion lens”，Digest of ISOM2004，We-E-05
技术实现思路
在使用图4所示光学记录介质的情况下，因为提供了保护层，由于与近场光照射部(如SIL)的碰撞所产生的损坏和污点能够得到控制和避免，然而，不利的是不可能使数值孔径NA变大。进一步解释上述问题本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学记录介质，被来自光源的光作为近场光使用数值孔径超过１的聚焦透镜进行照射来执行记录和／或再生，包括：　　　　复合层，设置在所述光学记录介质的光入射侧的表面上，在所述复合层中，折射率高于透光材料部分的高折射率材料部分被混合到所述透光材料部分中。

【技术特征摘要】
JP 2005-5-12 2005-139988;JP 2006-2-21 2006-0443031.一种光学记录介质，被来自光源的光作为近场光使用数值孔径超过1的聚焦透镜进行照射来执行记录和/或再生，包括复合层，设置在所述光学记录介质的光入射侧的表面上，在所述复合层中，折射率高于透光材料部分的高折射率材料部分被混合到所述透光材料部分中。2.根据权利要求1所述的光学记录介质，其中，所述高折射率材料部分的折射率n1相对于所述聚焦透镜的数值孔径NA为n1＞NA。3.根据权利要求1所述的光学记录介质，其中，所述高折射率材料部分由颗粒制成，以及所述颗粒的平均颗粒直径等于或小于照射所述光学记录介质的光线在所述复合层中的波长的十分之一。4.根据权利要求1所述的光学记录介质，其中，具有一致折射率的均质层设置在所述复合层和所述光学记录介质的记录部之间。5.根据权利要求4所述的光学记录介质，其中，所述均质层的厚度等于或大于照射所述光学记录介质的光线在所述均质层中的波长的十分之一。6.根据权利要求4所述的光学记录介质，其中，所述复合层和所述均质层的厚度为等于或大于0.5μm和等于或小于10μm。7.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：齐藤公博，山崎刚，中冲有克，
申请(专利权)人：索尼株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]