溅射靶材制造技术

本发明专利技术提供由向Ａｇ中添加特定少量的Ｐ使之合金化而成的Ａｇ基合金构成的具有高反射率且耐热性优异的溅射靶材。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及维持高反射率同时提高了耐热性的薄膜形成用溅射靶材、及使用该溅射靶材形成的薄膜。
技术介绍
在CD(Compact Disc)、DVD(Digital Versatile Disc)等光学记录介质上使用的反射膜、在反射型STN(Super Twist Nematic)液晶显示装置、有机EL(Electro luminescence)显示装置等中使用的光反射性导电膜，一般使用Al或Al合金。上述光学记录介质和液晶显示装置、有机EL显示装置等用途中使用的光反射性薄膜，一般通过制作具有所要求性质的溅射靶材，使用该溅射靶材利用RF(高频)溅射法或DC(直流)溅射法等成膜而进行制造。采用上述方法制造的由Al或Al合金构成的薄膜，具有某种程度的反射率且电阻低，而且在表层形成钝态被膜，因此在空气中也具有稳定的耐蚀性，但由Al或Al合金构成的薄膜的反射率，例如在波长为700nm的光的情况下为80％左右，对于要求高反射率的用途并不能充分满足。为此，提出了下述方案在要求具有高反射率的薄膜的、例如CD或DVD所代表的光盘介质上，代替Al或Al合金使用Au或Ag作为溅射靶材而形成薄膜；另外，还提出了对于反射型STN液晶显示装置，作为薄膜材料使用反射率高的Ag的方案。CD或DVD所代表的光盘介质、反射型STN液晶显示装置等，有时在使用条件下置身于高温中，但Ag的情况下，当达到高温状态，例如200℃以上时，引起膜的凝聚等，存在反射率降低的问题。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是，提供维持高反射率同时耐热性得到改善的Ag基合金构成的薄膜形成用的溅射靶材。本专利技术人为达到上述目的而反复刻苦研讨，结果此次发现向Ag中添加特定少量的P而使之合金化，能够得到维持Ag具有的高反射率同时耐热性格外提高的Ag基合金；向Ag中加入特定少量的P，而且还少量添加In、Sn、Zn、Au、Pt、Pd之类的金属元素而使之合金化，能够得到耐蚀性和耐热性一起提高了的Ag基合金；另外，向Ag中加入特定少量的P，而且还少量添加Cu、Ni、Fe、Bi之类的金属元素而使之合金化，Ag基合金的耐热性更进一步提高；等等，从而完成了本专利技术。这样，本专利技术提供一种具有高反射率的薄膜形成用溅射靶材，其特征在于，由含有0.005-1.0mass％P的Ag基合金构成。本专利技术还提供一种具有高反射率的薄膜形成用溅射靶材，其特征在于，由含有0.005-1.0mass％P、和0.01-2.0mass％的选自In、Sn和Zn的至少1种金属元素的Ag基合金构成。本专利技术还提供一种具有高反射率的薄膜形成用溅射靶材，其特征在于，由含有0.005-1.0mass％P、和0.01-0.9mass％Au和/或0.01-5.0mass％Pd和/或0.01-0.9mass％Pt的Ag基合金构成。本专利技术还提供一种具有高反射率的薄膜形成用溅射靶材，其特征在于，由含有0.005-1.0mass％P、和0.01-5.0mass％的选自Cu、Ni、Fe及Bi的至少1种金属元素的Ag基合金构成。本专利技术还提供一种具有高反射率的薄膜形成用溅射靶材，其特征在于，由含有0.005-1.0mass％P、0.01-2.0mass％的选自In、Sn和Zn的至少1种金属元素、和0.01-0.9mass％Au和/或0.01-5.0mass％Pd和/或0.01-0.9mass％Pt的Ag基合金构成。本专利技术还提供一种具有高反射率的薄膜形成用溅射靶材，其特征在于，由含有0.005-1.0mass％P、和0.01-2.0mass％的选自In、Sn和Zn的至少1种金属元素、及0.01-5.0mass％的选自Cu、Ni、Fe及Bi的至少1种金属元素的Ag基合金构成。本专利技术还提供一种具有高反射率的薄膜形成用溅射靶材，其特征在于，由含有0.005-1.0mass％P、和0.01-0.9mass％Au和/或0.01-5.0mass％Pd和/或0.01-0.9mass％Pt、及0.01-5.0mass％的选自Cu、Ni、Fe及Bi的至少1种金属元素的Ag基合金构成。本专利技术还提供一种具有高反射率的薄膜形成用溅射靶材，其特征在于，由含有0.005-1.0mass％P、和0.01-2.0mass％的选自In、Sn和Zn的至少1种金属元素、和0.01-0.9mass％Au和/或0.01-5.0mass％Pd和/或0.01-0.9mass％Pt、及0.01-5.0mass％的选自Cu、Ni、Fe及Bi的至少1种金属元素的Ag基合金构成。下面，对本专利技术的薄膜形成用溅射靶材进一步详细说明。本专利技术的溅射靶材，基本上由以Ag为基础、在其中添加P使之合金化而成的Ag基合金构成。P的添加量可在0.005-1.0mass％、优选为0.01-0.75mass％、进一步优选为0.05-0.5mass％的范围内。本专利技术的溅射靶材，也能由三元系的Ag基合金构成，该三元系的Ag基合金，是在上述Ag-P二元系合金成分中进一步添加选自In、Sn和Zn的至少1种金属元素(以下叫做“(a)组金属元素”)使之合金化而成的。(a)组金属元素的添加量可分别在0.01-2.0mass％、优选为0.05-1.75mass％、进一步优选为0.1-1.5mass％的范围内。本专利技术的溅射靶材，还能由三元系的Ag基合金构成，该三元系的Ag基合金，是在上述Ag-P二元系合金成分中进一步添加选自Au、Pd和Pt的至少1种金属元素(以下叫做“(b)组金属元素”)使之合金化而成的。(b)组金属元素的添加量，可在下述范围内Au为0.01-0.9mass％、优选为0.05-0.85mass％、进一步优选为0.1-0.8mass％；Pd为0.01-5.0mass％、优选为0.05-3.5mass％、进一步优选为0.1-2.0mass％；而且，Pt为0.01-0.9mass％、优选为0.05-0.85mass％、进一步优选为0.1-0.8mass％。本专利技术的溅射靶材，还能由三元系的Ag基合金构成，该三元系的Ag基合金，是在上述Ag-P二元系合金成分中进一步添加选自Cu、Ni、Fe和Bi的至少1种金属元素(以下叫做“(c)组金属元素”)使之合金化而成的。(c)组金属元素的添加量，可分别在0.01-5.0mass％、优选为0.05-3.5mass％、进一步优选为0.1-2.0mass％的范围内。本专利技术的溅射靶材，进而也能由四元系的Ag基合金构成，该四元系的Ag基合金，是在上述Ag-P二元系合金成分中添加(a)组金属元素和(b)组金属元素这两者，使之合金化而成的。在该四元系Ag基合金中，(a)组金属元素的添加量可分别在0.01-2.0mass％、优选为0.05-1.75mass％、进一步优选为0.1-1.5mass％的范围内，(b)组金属元素的添加量，可在下述范围内Au为0.01-0.9mass％、优选为0.05-0.85mass％、进一步优选为0.1-0.8mass％；Pd为0.01-5.0mass％、优选为0.05-3.5mass％、进一步优选为0.1-2.0mass％；而且，Pt为0.01-0.9mass％、优选为0.05-0.85mass％、进一步优选为0.1-0.8mass％。本专利技术的溅射靶材，进而也能由四元系本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有高反射率的薄膜形成用溅射靶材，其特征在于，由含有０．００５－１．０ｍａｓｓ％Ｐ的Ａｇ基合金构成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2003-10-16 356769/20031.一种具有高反射率的薄膜形成用溅射靶材，其特征在于，由含有0.005-1.0mass％P的Ag基合金构成。2.一种具有高反射率的薄膜形成用溅射靶材，其特征在于，由含有0.005-1.0mass％P、和0.01-2.0mass％的选自In、Sn和Zn的至少1种金属元素的Ag基合金构成。3.一种具有高反射率的薄膜形成用溅射靶材，其特征在于，由含有0.005-1.0mass％P、和0.01-0.9mass％Au和/或0.01-5.0mass％Pd和/或0.01-0.9mass％Pt的Ag基合金构成。4.一种具有高反射率的薄膜形成用溅射靶材，其特征在于，由含有0.005-1.0mass％P、和0.01-5.0mass％的选自Cu、Ni、Fe及Bi的至少1种金属元素的Ag基合金构成。5.一种具有高反射率的薄膜形成用溅射靶材，其特征在于，由含有0.005-1.0mass％P、0.01-2.0mass％的选自In、Sn和Zn的至少1种金属元素、和0.01-0.9mass％Au和/或0.01-5.0mass％Pd和/...

【专利技术属性】
技术研发人员：长谷川浩一，石井信雄，
申请(专利权)人：石福金属兴业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]