磁记录介质及其制造方法、磁记录再现装置、压模及其制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供记录层以凹凸图案形成且生产效率高的磁记录介质、具有该磁记录介质的磁记录再现装置、用于制造该磁记录介质的压模、该压模的制造方法以及磁记录介质的制造方法。记录层（２２）的伺服区域部分的一部分，相对基本的伺服凹凸图案，以将该基本伺服凹凸图案的凹部以及凸部中的任意一方的至少一部分沿径向（Ｄｒ）分割而成的不正规伺服凹凸图案来形成，而且，在上述基本的伺服凹凸图案中，用于记录０以及１的信息中的任意一方的方格状区域为构成凹部的凹部单位区域（ＣＵ）、且用于记录另一方信息的方格状区域为构成凸部的凸部单位区域（ＰＵ）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一些记录层的伺服区域部分以凹凸形状形成的磁记录介质、具有该磁记录介质的磁记录再现装置、用于制造该磁记录介质的压模、该压模的制造方法以及磁记录介质的制造方法。
技术介绍
磁记录介质被分成多个数据区域和多个伺服区域，用于磁头的定位等的伺服信息记录在伺服区域上而被使用。各伺服区域分成多个方格状区域，伺服信息具有在这些方格状的各区域的记录层上以规定的规则二值记录有0以及1中的任意一个信息的结构。伺服信息具体由用于时钟同步的前同步信号部、表示伺服数据的开始的SAM部、表示轨道编号的轨道地址信号部、表示扇区编号的扇区地址信号部、和用于磁头的跟踪的脉冲串信号部等构成。这种伺服信息是通常以伺服轨道写入(Servo Track Writing)方式记录在磁记录介质上。伺服信息的记录工序是对每个磁记录介质依次磁化伺服区域中的方格状的各区域的工序，所以存在生产效率低的问题。特别是近年来，由于面记录密度的提高以及伴随于此的磁头悬浮高度的降低，所以对伺服信息也要求高密度且高精度的记录，从而对于伺服信息记录的效率改善的需要日益提高。对此，提出有将记录层的伺服区域部分以伺服凹凸图案来形成的方案，该伺服凹凸图案中，用于记录0以及1中的任意一方信息的方格状区域为构成凹部的凹部单位区域，而用于记录另一方信息的方格状区域为构成凸部的凸部单位区域(例如，参照JP特开平6-195907号公报、JP特开平9-259426号公报)。对这样以伺服凹凸图案形成记录层的伺服区域部分的磁记录介质，通过均匀地施加直流磁场就可以进行按照伺服信息图案的磁化，因此能够大幅度提高伺服信息的记录效率。此外，硬盘等磁记录介质，通过对构成记录层的磁性粒子的微细化、材料变更、磁头加工的细微化等的改良，而实现了面记录密度显著提高，并且今后还能期望面记录密度的进一步提高，但是，磁头的加工极限、由磁头记录磁场的扩散引起的向相邻于记录对象轨道的其他轨道上的错误的信息记录、再现时的串扰等问题变得突出，并通过这些现有改良方法来提高面记录密度已经到了极限，从而作为能够实现面记录密度的进一步提高的磁记录介质的候补而提出有在数据区域以凹凸图案来形成记录层、且将记录要素作为凹凸图案的凸部来形成的离散轨道介质、以及晶格介质。当制造这种离散轨道介质、晶格介质时，进行将记录层的数据区域部分加工成凹凸图案的工序，而且在该工序中也可以将记录层的伺服区域部分同时加工成凹凸图案，所以从生产效率这点上看特别有利。作为将记录层加工成凹凸图案的手法，能够利用如下手法该手法是在半导体制品等的制造领域中使用的，在被加工层上形成抗蚀材料的树脂层，并将该树脂层以被称为光刻法的利用了曝光以及显影的手法来加工成凹凸图案，然后将该凹凸图案的树脂层作为掩模而将被加工层蚀刻加工成凹凸图案。如上所述的伺服凹凸图案是包含宽度为几百nm以下的凹部或者凸部的微细凹凸图案，并且当在这种微细凹凸图案上加工树脂层时，无法忽视利用于曝光的光线波长的影响，因此曝光优选利用电子束。但是，利用电子束对每个制品进行曝光(描画)的手法存在生产效率低的问题。对此，广为人知的有使压模与树脂层接触而将树脂层加工成凹凸图案的、被称为压印的手法(例如，参照JP特开2003-100609号公报)。此外，只是使压模接触而转印凹凸图案，则在凹部底部残留树脂层而露不出被加工层，但通过对树脂层均匀地进行可除去凹部底部的树脂层的程度的蚀刻，能够从凹部底部露出被加工层，从而能够使树脂层作为凸部而仅残留对应于由转印形成的凹凸的高度差并作为掩模使用。人们期待这样利用光刻法或压印的手法来将记录层加工成相当于伺服信息或轨道的形状的凹凸图案。此外，当将记录层加工成凹凸图案时，可以在记录层上直接形成树脂层，但是也提出有根据记录层的材质和蚀刻的种类等情况，在记录层和树脂层之间形成单层或者多层掩模层，并对这些依次进行蚀刻而将记录层加工成凹凸图案的手法。但是，实际上很难以如上所述的方法将记录层的伺服区域部分正确地加工成微细的伺服凹凸图案。例如，很难以光刻法将树脂层正确加工成微细且复杂的伺服凹凸图案。特别是轨道地址信号部是复杂的图案，从而很难将树脂层正确地加工成相当于轨道地址信号部的凹凸图案。因此，有时无法将树脂层下的掩模层或记录层加工成所期望的伺服凹凸图案。另一方面，在进行压印的情况下，由于为了制作压模而也利用光刻法的手法，因此很难以充分的精度制作具有相当于微细且复杂的伺服凹凸图案的、凹凸图案的转印面的压模。此外，即使能够制作在转印面以充分的精度形成有凹凸图案的压模，有时也无法按照压模的凹凸图案正确地加工树脂层。进而，即使能够将树脂层按照所期望的凹凸图案进行了加工，当将树脂层作为掩模来对被加工层进行蚀刻时，树脂层的凹凸图案有时没有正确地反映到被加工层上。即，虽然通过将记录层加工成伺服凹凸图案，能够显著提高伺服信息的记录效率，但很难将记录层以高精度加工成伺服凹凸图案，从而很难充分提高磁记录介质的整体的生产效率。
技术实现思路
本专利技术是鉴于以上问题而提出的，其目的在于提供一些记录层以凹凸图案形成了的、生产效率高的磁记录介质、具有该磁记录介质的磁记录再现装置，用于制造该磁记录介质的压模、该压模的制造方法以及磁记录介质的制造方法。本专利技术是通过磁记录介质来达成上述目的的，该磁记录介质的记录层的伺服区域部分的至少一部分，相对基本伺服凹凸图案，以将该基本伺服凹凸图案的凹部以及凸部的任意一方的至少一部分沿径向分割而成的不正规伺服凹凸图案来形成，而且在上述基本伺服凹凸图案中，用于记录0以及1的信息中的任意一方的方格状区域为构成凹部的凹部单位区域、且用于记录另一方信息的方格状区域为构成凸部的凸部单位区域。还有，本专利技术是通过磁记录介质来达成上述目的的，该磁记录介质的记录层的伺服区域部分的至少一部分，相对基本伺服凹凸图案，以在凹部和凸部的边界的角部中至少一部分角部比相当于该角部的上述基本伺服凹凸图案的角部更尖锐的不正规伺服凹凸图案来形成。在研究本专利技术的过程中，专利技术人对以高精度形成微细且复杂的凹凸图案很困难的理由进行了刻意的研究，并得到了如下的几个重要因素使加工精度降低的可能性很高的结果。当通过光刻法将树脂层加工成微细且复杂的凹凸图案时，将曝光剂量调整为适当的值是很重要的，但是，若将剂量调整为对于复杂的凹凸图案所包含的各种宽度的凹部或者凸部中的一部分来说适当的值，则对于其他部分剂量会过大或会不充分，从而有时会无法将树脂层正确地加工成所期望的凹凸图案。此外，当通过压印将树脂层加工成凹凸图案时，若有各种宽度的凹部包含在凹凸图案中，则进行压印后，根据凹部的宽度大小而残留在凹部底部的树脂的厚度会发生偏差，若凹部的宽度过宽，则存在与其他的凹部相比在底部残留厚的树脂的倾向。对于该原因，认为大概如下。若在树脂层上接触压模，则由压模的凸部压出的树脂流动到邻接的压模的凹部。若树脂层的凹部的宽度过宽、且所对应的压模的凸部的宽度过宽，则由此压出的树脂难以流动，因此在树脂层的凹凸之中，在宽度过宽的凹部底部残留有厚的树脂。此外，若树脂层的凹部的宽度过宽、且压模的凸部的宽度过宽，则作用于压模的凸部接触的部分的压力变小，从而树脂不能充分进行塑性变形。因此，对树脂层的全区域有时无法形成所期望的高度差。进行压印后，对树脂层均匀地进本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁记录介质，其特征在于，具有记录层，并被划分为多个数据区域和多个伺服区域，而上述各伺服区域进一步被划分为多个方格状区域，在这些方格状各区域，０以及１中的任一方的信息以规定的规则被二值记录在上述记录层上而被使用，而且相对于基本伺服凹凸图案，该记录层的上述伺服区域部分的至少一部分是以将该基本伺服凹凸图案的凹部以及凸部中的任意一方的至少一部分沿径向分割而成的不正规伺服凹凸图案来形成的，该基本伺服凹凸图案是在上述方格状区域中，用于记录上述０以及１的信息中的任意一方的方格状区域为构成凹部的凹部单位区域，而用于记录另一方信息的方格状区域为构成凸部的凸部单位区域。

【技术特征摘要】
JP 2005-5-31 2005-1599031.一种磁记录介质，其特征在于，具有记录层，并被划分为多个数据区域和多个伺服区域，而上述各伺服区域进一步被划分为多个方格状区域，在这些方格状各区域，0以及1中的任一方的信息以规定的规则被二值记录在上述记录层上而被使用，而且相对于基本伺服凹凸图案，该记录层的上述伺服区域部分的至少一部分是以将该基本伺服凹凸图案的凹部以及凸部中的任意一方的至少一部分沿径向分割而成的不正规伺服凹凸图案来形成的，该基本伺服凹凸图案是在上述方格状区域中，用于记录上述0以及1的信息中的任意一方的方格状区域为构成凹部的凹部单位区域，而用于记录另一方信息的方格状区域为构成凸部的凸部单位区域。2.如权利要求1所记载的磁记录介质，其特征在于，上述不正规伺服凹凸图案是如下这样的凹凸图案在上述凹部单位区域中沿上述径向连续的至少两个凹部单位区域的边界附近形成有凸部，而在该连续的凹部单位区域形成有沿上述径向被分割的凹部。3.如权利要求1所记载的磁记录介质，其特征在于，上述不正规伺服凹凸图案是如下这样的凹凸图案在上述凸部单位区域中沿上述径向连续的至少两个凸部单位区域的边界附近形成有凹部，而在该连续的凸部单位区域形成有沿上述径向被分割的凸部。4.如权利要求1所记载的磁记录介质，其特征在于，上述不正规伺服凹凸图案是如下这样的凹凸图案在该不正规伺服凹凸图案的凹部和凸部的边界的角部中至少一部分的角部比与该角部相当的上述基本伺服凹凸图案的角部尖锐。5.一种磁记录介质，其特征在于，具有记录层，并被划分为多个数据区域和多个伺服区域，而上述各伺服区域进一步被划分为多个方格状区域，在这些方格状各区域中，0以及1中的任一方的信息以规定的规则被二值记录在上述记录层上而被使用，而且相对于基本伺服凹凸图案，该记录层的上述伺服区域部分的至少一部分是以在凹部和凸部的边界的角部中至少一部分角部比与该角部相当的上述基本伺服凹凸图案的角部尖锐的不正规伺服凹凸图案来形成的，该基本伺服凹凸图案是在上述方格状区域中，用于记录上述0以及1的信息中的任意一方的方格状区域为构成凹部的凹部单位区域、而用于记录另一方信息的方格状区域为构成凸部的凸部单位区域。6.一种磁记录介质，其特征在于，具有记录层，该记录层被划分为多个数据区域和多个伺服区域而被使用，且上述伺服区域部分是以伺服凹凸图案来形成的，在上述伺服凹凸图案的凹部和凸部的边界的角部中的至少一部分角部，包含有内角为锐角、且向上述边界上的该角部为凸的一侧突出的突起部。7.一种磁记录再现装置，其特征在于，具有权利要求1-6中任一项所述的磁记录介质；磁头，其用于接近该磁记录介质的表面而进行数据的记录/再现。8.一种压模，其特征在于，具有与权利要求1-6中任一项所述的磁记录介质的记录层的凹凸图案相当的凹凸图案的转印面。9.一种压模的制造方法，用于制造磁记录介质，该磁记录介质具有记录层，并被划分为多个数据区域和多个伺服区域，而上述各伺服区域进一步被划分为多个方格状区域，在这些方格状各区域，0以及1中的任一方的信息以规定的规则被二值记录在上述记录层上而被使用，该记录层的上述伺服区域部分是以规定的伺服信息的凹凸图案来形成的，其特征在于，包括曝光工序，用于将与形成在树脂层支承材料上的抗蚀材料的树脂层上的上述伺服区域的至少一部分相当的部分，相对于基本伺服曝光图案，...

【专利技术属性】
技术研发人员：大川秀一，中田胜之，服部一博，高井充，
申请(专利权)人：TDK股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]