一种高致密度薄层电子陶瓷材料的制备方法技术

技术编号:30554488 阅读:17 留言:0更新日期:2021-10-30 13:35
本发明专利技术涉及电子陶瓷材料领域,具体为一种高致密度薄层电子陶瓷材料的制备方法,将硝酸铋、硝酸钠、硝酸锂、硝酸钛、硝酸钡、硝酸钙加水混合,将乙二醇、活性炭加入,滴加还原剂使体系pH至1

【技术实现步骤摘要】
一种高致密度薄层电子陶瓷材料的制备方法


[0001]本专利技术涉及电子陶瓷材料领域,具体涉及一种高致密度薄层电子陶瓷材料的制备方法。

技术介绍

[0002]电子陶瓷材料目前有两个发展方向,其中一个方向是多孔化,通过特定工艺使电子陶瓷材料结构内形成大量相互连通或闭合气孔,其具有气孔率较高、体积密度小以及发达的比表面及某些独特的物理特性,通常能够应用到高致密性电子陶瓷无法应用的领域,如低频声纳领域,另一个方向是高致密化,减少电子陶瓷材料结构内的孔隙,使其晶粒尺寸分布更为均匀,力学强度更高,一般被应用到建筑领域。
[0003]中国专利CN109503157A公开了一种高致密度高压电常数的压电陶瓷,其化学式为:
[0004]Pb
x
M1‑
x
(Zr
y
Ti1‑
y
)0.75(Ni
1/3
Nb
2/3
)0.2(Sb
1/3
Nb
2/3
)0.015(Mg
1/3
Nb
2/3
)0.035O3+zwt%Bi2O3,其中x=0.0~0.15,y=0.45~0.55,z=0~1,M为Ba
2+
、Sr
2+
、Ca
2+
、La
3+
等中的一种或几种组合,陶瓷生坯密度可达5.4g/cm3,密度均匀性好,陶瓷性能一致性高,烧结后陶瓷密度可以达到理论密度的98%,但是其结构中含有有毒元素铅,在高温烧结时易挥发,造成环境污染,目前,无铅电子陶瓷材料在高致密化方向的研究还有所欠缺。

技术实现思路

[0005]专利技术目的:针对现有技术的缺陷或改进需求,本专利技术提供了一种高致密度薄层电子陶瓷材料的制备方法。
[0006]本专利技术所采用的技术方案如下:
[0007]一种高致密度薄层电子陶瓷材料的制备方法:
[0008]S1:将硝酸铋、硝酸钠、硝酸锂、硝酸钛、硝酸钡、硝酸钙加入去离子水中,搅拌混合20

50min后,将乙二醇、活性炭加入,继续搅拌5

10min后,滴加还原剂使体系pH至1

2;
[0009]S2:将反应液一次升温至80

85℃,保温搅拌至无溶剂,停止搅拌,二次升温至120

130℃,保温1

3h后,氮气保护下球磨1

3h,得到粉体;
[0010]S3:将粉体与玻璃粉混合均匀得到预混料,将预混料转移至模具中,100

150MPa的压力下点燃,使其发生自蔓延反应得到坯体,坯体自然冷却至室温后取出,升温至1100

1200℃烧结2

3h后降温至700

800℃保温退火1

2h,炉冷至室温即可获得所述电子陶瓷材料,由以下化学结构式表示:
[0011]xBi
0.5
(Na
a
Li
0.5

a
)TiO3‑
(1

x)(Ba
b
Ca1‑
b
)TiO3[0012]其中,x、a、b表示摩尔百分比,x为0.80

0.98,a为0.40

0.45,b为0.80

0.95。
[0013]进一步地,S1中所述还原剂由柠檬酸、谷氨酸、水组成。
[0014]进一步地,柠檬酸与谷氨酸的质量比为4

10:1。
[0015]更进一步,柠檬酸与谷氨酸的质量比优选为5:1。
[0016]进一步地,S1中活性炭用量为硝酸铋、硝酸钠、硝酸锂、硝酸钛、硝酸钡、硝酸钙总质量的3

5%。
[0017]更进一步,S1中活性炭用量为硝酸铋、硝酸钠、硝酸锂、硝酸钛、硝酸钡、硝酸钙总质量的5%。
[0018]进一步地,S2中一次升温速度为1

2℃/min,二次升温速度为0.1

0.5℃/min。
[0019]更进一步,S2中一次升温速度为1℃/min,二次升温速度为0.2℃/min。
[0020]进一步地,S3中所述玻璃粉为CBS玻璃粉或BSB玻璃粉,优选为CBS玻璃粉。
[0021]进一步地,S3中玻璃粉用量为粉体质量的0.5

1%。
[0022]更进一步,S3中玻璃粉用量为粉体质量的0.5%。
[0023]进一步地,S3中点燃方式为等离子体点燃、激光点燃、微波点燃、电火花点燃中的任意一种,优选为等离子体点燃。
[0024]进一步地,S3中升温速度为5

10℃/min,降温速度为1

2℃/min。
[0025]更进一步,S3中升温速度为5℃/min,降温速度为1℃/min。
[0026]进一步地,x为0.94,a为0.45,b为0.90。
[0027]本专利技术的有益效果:
[0028]本专利技术提供了一种高致密度薄层电子陶瓷材料,一方面在BNT中引入第二组元(Ba
0.90
Ca
0.10
)TiO3,对A位进行取代,形成固溶体系统,锂的掺杂引入会导致电荷补偿,使晶格松弛,提升电学性能,两者固溶后产生三方

四方准同型相界(MPB),电学性能明显提高,自蔓延燃烧法对反应物选择性较高,专利技术人此前也在其他电子陶瓷材料制备时有所尝试,但效果不佳,但是在本专利技术材料制备时取得了不错的效果,本专利技术电子陶瓷材料在燃烧过程中,经历了很大的温度变化,非常高的加热和冷却速率,使产物中缺陷和非平衡相比较集中,因此比传统固相烧结方法制造的产物具有活性,后续烧结能使材料的致密度大大提高,本专利技术所制备的电子陶瓷材料致密度高,密度≥7.57g/cm3,力学性能优异,其中,弯曲强度≥135.38MPa,弹性模量≥48.96GPa,而且还具有优良的电学性能,具有广泛的应用前景。
附图说明
[0029]图1为本专利技术实施例1所制备电子陶瓷材料的SEM图,可以观察到具有极高的致密度和均匀程度。
具体实施方式
[0030]实施例中未注明具体条件者,按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者,均为可以通过市售购买获得的常规产品。
[0031]实施例1:
[0032]一种高致密度薄层电子陶瓷材料,由以下化学结构式表示:
[0033]0.94Bi
0.5
(Na
0.45
Li
0.05
)TiO3‑
0.06(Ba
0.90
Ca
0.10
)TiO3[00本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高致密度薄层电子陶瓷材料的制备方法,其特征在于,具体如下:S1:将硝酸铋、硝酸钠、硝酸锂、硝酸钛、硝酸钡、硝酸钙加入去离子水中,搅拌混合20

50min后,将乙二醇、活性炭加入,继续搅拌5

10min后,滴加还原剂使体系pH至1

2;S2:将反应液一次升温至80

85℃,保温搅拌至无溶剂,停止搅拌,二次升温至120

130℃,保温1

3h后,氮气保护下球磨1

3h,得到粉体;S3:将粉体与玻璃粉混合均匀得到预混料,将预混料转移至模具中,100

150MPa的压力下点燃,使其发生自蔓延反应得到坯体,坯体自然冷却至室温后取出,升温至1100

1200℃烧结2

3h后降温至700

800℃保温退火1

2h,炉冷至室温即可获得所述电子陶瓷材料,由以下化学结构式表示:xBi
0.5
(Na
a
Li
0.5

a
)TiO3‑
(1

x)(Ba
b
Ca1‑
b
)TiO3其中,x、a、b表示摩尔百分比,x为0.80

0.98,a为0.40

【专利技术属性】
技术研发人员:方豪杰贺亦文张晓云张斗袁晰
申请(专利权)人:湖南省美程陶瓷科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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