转印模具的制备方法、壳体组件及其制备方法、电子设备技术

本申请涉及电子设备技术领域，具体公开了一种纹理转印模具的制备方法、壳体组件及其制备方法，该方法包括以下步骤：设计渐变图形；将渐变图形处理成带有图形信息的灰度数据；将灰度数据转换为光刻机的曝光能量，其中，按特定加工路径进行光刻时，曝光能量的变化曲线呈平滑过渡；通过光刻机以曝光能量对母模基材进行光刻加工，以在母模基材上形成渐变纹理图案，得到纹理转印模具。通过上述方式，本申请实施例设计的曝光能量的变化曲线可呈由大至小的平滑过渡，以使渐变纹理图案在视觉上能够被感知为具有雾面过渡至镜面的外观。知为具有雾面过渡至镜面的外观。知为具有雾面过渡至镜面的外观。

【技术实现步骤摘要】
转印模具的制备方法、壳体组件及其制备方法、电子设备


[0001]本申请涉及电子设备制备
，尤其涉及一种纹理转印模具的制备方法、壳体组件及其制备方法、电子设备。

技术介绍

[0002]随着电子产品领域制备技术的不断发展，以及随着消费水平的不断提高，消费者对电子产品不仅追求功能的多样化，而且对其外观、质感等也有越来越高的要求。目前的电子设备壳体，除了需要具有一定的机械强度，以保护电子设备以外，还需要能够形成多种颜色、纹理、光泽等装饰效果，以丰富电子设备的外观，提升产品的表现力。
[0003]然而，目前的纹理转印模具仍有待改进。

技术实现思路

[0004]本申请旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。
[0005]在本申请的第二个方面，本申请提出了一种纹理转印模具的制备方法，包括以下步骤：设计渐变图形；将渐变图形处理成带有图形信息的灰度数据；将灰度数据转换为光刻机的曝光能量，其中，按特定加工路径进行光刻时，曝光能量的变化曲线呈平滑过渡；通过光刻机以曝光能量对母模基材进行光刻加工，以在母模基材上形成渐变纹理图案，得到纹理转印模具。
[0006]在本申请的第二个方面，本申请提出了一种壳体组件的制备方法，包括以下步骤：提供一纹理转印模具，纹理转印模具包括：母模基材以及形成在母模基材上的渐变纹理图案，其中，按特定加工路径，所述渐变纹理图案在视觉上能够被感知为具有雾面过渡至镜面的外观；在纹理转印模具的渐变纹理图案内填充UV胶；将渐变纹理图案内的UV胶转印至第一片材的一侧，并进行UV固化，以便形成渐变转印层；在渐变转印层背离第一片材的一侧形成保护层。
[0007]在本申请的第三个方面，本申请提出了一种壳体组件，包括：第一片材；渐变转印层，设置在第一片材的一侧，其中，渐变转印层通过纹理转印模具将UV胶转印至第一片材的一侧得到，纹理转印模具包括：母模基材以及形成在母模基材上的渐变纹理图案，其中，按特定加工路径，所述渐变纹理图案在视觉上能够被感知为具有雾面过渡至镜面的外观；保护层，设置在渐变转印层背离第一片材的一侧。
[0008]在本申请的第四个方面，本申请一种电子设备，包括：如前述的壳体组件，或者，如前述方法制备的壳体组件，壳体组件限定出容纳空间，壳体组件的外观膜片朝向电子设备的内部设置；主板以及存储器，主板以及存储器位于容纳空间内部；以及屏幕，屏幕设置在壳体组件的顶部且与主板相连。
[0009]本申请实施例提供的技术方案可以带来如下有益效果：
[0010]区别于现有技术，本申请实施例提供的一种纹理转印模具的制备方法、壳体组件及其制备方法，在该方法所使用的纹理转印模具的制备过程中，将渐变图形处理成光刻机
的曝光能量，其中，按特定加工路径进行光刻时，曝光能量的变化曲线呈平滑过渡。通过光刻机以曝光能量对母模基材进行光刻加工，以在母模基材上形成渐变纹理图案，得到具有渐变纹理的纹理转印模具，即通过改变纹理的渐变来实现渐变色，体现渐变色纹理变化效果。进一步地，本申请实施例设计的曝光能量的变化曲线可呈由大至小的平滑过渡，以使渐变纹理图案在视觉上能够被感知为具有雾面过渡至镜面的外观，可以理解的是，由于纹理转印模具的不同区域具有不同分布密度的渐变纹理图案，转印至片材后形成不同雾度的转印图形雾度渐变的方案，适用于不同色彩的渐变，壳体组件可体现出渐变色纹理变化效果。
附图说明
[0011]为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：
[0012]图1示出了本申请第一实施例提供的纹理转印模具的制备方法的流程图；
[0013]图2示出了本申请第二实施例提供的壳体组件的制备方法的流程图；
[0014]图3示出了本申请第三实施例提供的壳体组件的制备方法的流程图；
[0015]图4示出了本申请第四实施例提供的壳体组件的制备方法的流程图；
[0016]图5示出了本申请第五实施例提供的壳体组件结构示意图；
[0017]图6示出了存在黑线的曝光能量的变化曲线设计；
[0018]图7示出了消除黑线的曝光能量的变化曲线设计；
具体实施方式
[0019]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0020]本申请专利技术人在长期研发过程中，发现现有壳体的渐变色彩效果通常由镀膜或者油墨实现，其效果存在一定的局限性，不能体现渐变色纹理变化效果。区别于现有技术，本申请实施例提供的一种模具及其制备方法，将渐变图形处理成光刻机的曝光能量，其中，按特定加工路径进行光刻时，曝光能量的变化曲线呈平滑过渡。通过光刻机以曝光能量对母模基材进行光刻加工，以在母模基材上形成渐变纹理图案，得到具有渐变纹理的纹理转印模具，即通过改变纹理的渐变来实现渐变色，体现渐变色纹理变化效果。进一步地，本申请实施例设计的曝光能量的变化曲线可呈由大至小的平滑过渡，以使渐变纹理图案在视觉上能够被感知为具有雾面过渡至镜面的外观，可以理解的是，由于纹理转印模具的不同区域具有不同分布密度的渐变纹理图案，转印至片材后形成不同雾度的转印图形雾度渐变的方案，适用于不同色彩的渐变。
[0021]以下结合具体实施例对本申请的具体实现进行详细描述。
[0022]如图1所示，本申请提供一种纹理转印模具的制备方法，包括以下步骤：
[0023]S101：设计渐变图形。
[0024]该渐变图形的外轮廓可以为五边形、菱形、LOGO、图标或其他图形。
[0025]S102：将渐变图形处理成带有图形信息的灰度数据。
[0026]首先将渐变图形经过图像栅格化处理成带有图形信息的位图数据，然后进行边缘灰度处理，得到灰度数据。
[0027]S103：将灰度数据转换为光刻机的曝光能量，其中，按特定加工路径进行光刻时，曝光能量的变化曲线呈平滑过渡。
[0028]通过灰度——能量查找表的查询将灰度数据转换为光刻机的曝光能量。区别于图6所示的存在黑线的曝光能量的变化曲线设计，本申请实施例提出了如图7所示的按特定加工路径进行光刻时，曝光能量的变化曲线呈平滑过渡，其中，特定加工路径包括但不限于从上到下、从左到右、斜边加工等。
[0029]S104：通过光刻机以曝光能量对母模基材进行光刻加工，以在母模基材上形成渐变纹理图案，得到纹理转印模具。
[0030]具体的，形成母模基材的材料可以包括金属或玻璃。由此，便于后续步骤中对该母模基材进行多次加工处理，例如进行激光刻蚀处理和机械加工处理等，形成渐变纹理图案。
[0031]可以理解本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种纹理转印模具的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：设计渐变图形；将所述渐变图形处理成带有图形信息的灰度数据；将所述灰度数据转换为光刻机的曝光能量，其中，按特定加工路径进行光刻时，所述曝光能量的变化曲线呈平滑过渡；通过所述光刻机以所述曝光能量对母模基材进行光刻加工，以在所述母模基材上形成渐变纹理图案，得到所述纹理转印模具。2.一种壳体组件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：提供一纹理转印模具，所述纹理转印模具包括：母模基材以及形成在母模基材上的渐变纹理图案，其中，按特定加工路径，所述渐变纹理图案在视觉上能够被感知为具有雾面过渡至镜面的外观；在所述纹理转印模具的渐变纹理图案内填充UV胶；将所述渐变纹理图案内的UV胶转印至第一片材的一侧，并进行UV固化，以便形成渐变转印层；在所述渐变转印层背离所述第一片材的一侧形成保护层。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述保护层包括层叠设置在所述渐变转印层背离所述第一片材一侧的多层NCVM层，并使相邻两层NCVM层的折射率呈现高低分布。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述多层NCVM层包括：依次层叠在所述渐变转印层背离所述第一片材一侧的第一SiO2层、第一Nb2O5层、In层、第二SiO2层、第二Nb2O5层；所述第一SiO2层的厚度为10nm；所述第一Nb2O5层的厚度为20nm；所述In层的厚度为10nm；所述第二SiO2层的厚度为10nm；所述第二Nb2O5层的厚度为20nm。5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述在所述渐变转印层背离所述第一片材的一侧形成保护层的步骤之后，所述方法还包括：在所述保护层背离所述渐变转印层的一侧打印油墨，形成颜色层。6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：提供第二片...

【专利技术属性】
技术研发人员：田彪，
申请(专利权)人：OPPO广东移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：