局部亮光可变图像光学系统及其制作方法技术方案

本发明专利技术公开了一种局部亮光可变图像光学系统及其制作方法。局部亮光可变图像光学系统，包括：微透镜阵列层；基材层，透明且位于所述微透镜阵列层之下；图文结构，位于所述基材层之下且分布于所述基材层的局部；以及镀层，仅覆盖所述图文结构的表面且用于增强所述图文结构的亮度。本发明专利技术通过图文结构的局部亮光，可实现仅需要的图像产生立体或可变效果，其他部分为透明，这样在与其他印刷产品结合使用时既不会影响其他图案的表现，又可以在需要的地方增加立体或可变效果的点缀，大大增加了印刷品的美观度和吸引力。印刷品的美观度和吸引力。印刷品的美观度和吸引力。

【技术实现步骤摘要】
局部亮光可变图像光学系统及其制作方法


[0001]本专利技术属于光学领域，尤其涉及一种局部亮光可变图像光学系统及其制作方法。

技术介绍

[0002]利用柱透镜实现3D立体效果或可变图像效果均为整幅效果，不能实现立体或可变效果与其他图案的有机结合，这导致它的应用领域大受限制。传统的光栅立体和可变效果的图案均为油墨印刷而成，不能融合目前市场中常见的镭射全息效果。因为镭射全息效果需要金属镀层才能实现炫彩的效果，而金属镀层只能整幅面实现，局部镀层需要后续进行精准的镀层去除，这在目前有很大的技术难度。

技术实现思路

[0003]本专利技术要解决的技术问题是为了克服现有技术中传统的3D立体效果或可变图像效果均为整幅效果的缺陷，提供一种局部亮光可变图像光学系统及其制作方法。
[0004]本专利技术是通过下述技术方案来解决上述技术问题：
[0005]一种局部亮光可变图像光学系统，包括：
[0006]微透镜阵列层；
[0007]基材层，透明且位于所述微透镜阵列层之下；
[0008]图文结构，位于所述基材层之下且分布于所述基材层的局部；以及
[0009]镀层，仅覆盖所述图文结构的表面且用于增强所述图文结构的亮度。
[0010]较佳地，所述图文结构为宏观序列图或微图文阵列。
[0011]较佳地，所述图文结构为内凹型结构或外凸型结构。
[0012]较佳地，所述内凹型结构的内凹深度或所述外凸型结构的外凸高度为0.5微米至5微米。
[0013]较佳地，所述内凹型结构的内凹深度或所述外凸型结构的外凸高度为1微米至3微米。
[0014]较佳地，所述图文结构的表面为平面或光栅结构。
[0015]较佳地，所述微透镜阵列层为微柱透镜阵列或微圆透镜阵列。
[0016]较佳地，所述镀层的材料为金、银、铜、铝、镍中的任意一种。
[0017]一种局部亮光可变图像光学系统的制作方法，用于制作如上所述的局部亮光可变图像光学系统，所述制作方法包括：
[0018]在基材的一侧制作微透镜阵列层；
[0019]在所述基材的另一侧制作图文结构；
[0020]在所述基材制作有所述图文结构的一侧形成镀层；
[0021]去除所述图文结构的表面之外的镀层；
[0022]将前一步骤所得产品清洗、晾干，得到最终产品。
[0023]较佳地，在所述基材的另一侧制作图文结构，包括：
[0024]根据所需的图文结构设计与所述图文结构对应的光刻文件；
[0025]使用光刻机根据所述光刻文件制作出与所述图文结构对应的胶板；
[0026]利用电化学沉积工艺将所述胶板制作成金属模压板；
[0027]利用所述金属模压板在所述基材的另一侧制作图文结构；
[0028]和/或，
[0029]去除所述图文结构的表面之外的镀层，包括：
[0030]通过电解技术工艺去除图文结构的表面之外的镀层。
[0031]本专利技术的积极进步效果在于：本专利技术通过图文结构的局部亮光，可实现仅需要的图像产生立体或可变效果，其他部分为透明，这样在与其他印刷产品结合使用时既不会影响其他图案的表现，又可以在需要的地方增加立体或可变效果的点缀，大大增加了印刷品的美观度和吸引力。本专利技术还通过在光栅结构上的镀层，从而使局部镭射效果呈现出来。
附图说明
[0032]图1为本专利技术实施例1的一种局部亮光可变图像光学系统的示意图；
[0033]图2为微柱透镜阵列的示意图；
[0034]图3为呈正方形排列的微圆透镜阵列的示意图；
[0035]图4为呈六角形排列的微圆透镜阵列的示意图；
[0036]图5为宏观图形A、B、C组合得到宏观序列图的组合示意图；
[0037]图6为图5中的宏观序列图与微柱透镜阵列对应关系的示意图；
[0038]图7为图5中的宏观序列图与微圆透镜阵列对应关系的示意图；
[0039]图8a为微圆透镜阵列排布方式呈正六角形时微图文阵列的排布示意图；
[0040]图8b为微圆透镜阵列排布方式呈正方形时微图文阵列的排布示意图；
[0041]图9为本专利技术实施例1的一种局部亮光可变图像光学系统的制作方法的流程图；
[0042]图10为步骤S12的具体流程图；
[0043]图11为在图文结构和基材表面镀铝后的示意图；
[0044]图12为示例1的局部亮光可变图像光学系统的示意图；
[0045]图13为图12的立体图；
[0046]图14为示例2的局部亮光可变图像光学系统的示意图；
[0047]图15为图14的俯视图；
[0048]图16为图14的立体图。
[0049]图17为示例3的局部亮光可变图像光学系统的示意图。
[0050]图18为图17的俯视图。
具体实施方式
[0051]下面通过实施例的方式进一步说明本专利技术，但并不因此将本专利技术限制在所述的实施例范围之中。
[0052]实施例1
[0053]图1为一种局部亮光可变图像光学系统的示意图，其包括：微透镜阵列层1、基材层2、图文结构3和镀层4。基材层2透明且位于微透镜阵列层1之下。图文结构3位于基材层2之
下且分布于基材层2的局部。镀层4覆盖图文结构3的表面且用于增强图文结构3的亮度。
[0054]微透镜阵列层1由按照一定周期排列的若干相同的微透镜构成。微透镜阵列层1可以是微柱透镜阵列或微圆透镜阵列。图2为微柱透镜阵列的示意图，有一个阵列方向。图3为微圆透镜阵列的示意图，有两个阵列方向，微圆透镜阵列排布方式可以为正方形排列(如图3所示)或者正六角形排列(如图4所示)。本实施例中，微透镜孔径大小为30至150微米，球冠高度为15至75微米。
[0055]基材层2为一种透明薄膜，具体可以为PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PP(聚丙烯)、PC(聚碳酸酯)和PVC(聚氯乙烯)中的一种。其厚度可以在20至180微米之间，具体厚度与微透镜阵列层1的焦距大小一致。
[0056]从图文结构的形状来看，图文结构3可以为内凹型结构或外凸型结构。内凹型结构的内凹深度或外凸型结构的外凸高度可以为0.5微米至5微米，优选为1微米至3微米。图文结构3可以通过UV模压或热模压获得。如图1所示，图文结构为外凸型，其中，图文结构31的表面为平面，图文结构32的表面具有光栅结构。
[0057]从图文结构的显示效果来看，图文结构3的表面可以为平面或光栅结构。光栅结构的频率可以为80l/mm到1200l/mm之间，其中l/mm为线数每毫米，是用来表征光栅的频率参数。若图文结构3的表面为平面，则在具有镀层4后该系统可在图文结构处产生局部亮光效果。若图文结构3的表面为光栅结构，则在具有镀层4后该系统可在图文结构处产生镭射全息效果。
[0058]从图文结构的显示图案来看，图文结构3可以为宏观序列图或微图文阵列。宏观序列本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，包括：微透镜阵列层；基材层，透明且位于所述微透镜阵列层之下；图文结构，位于所述基材层之下且分布于所述基材层的局部；以及镀层，仅覆盖所述图文结构的表面且用于增强所述图文结构的亮度。2.如权利要求1所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述图文结构为宏观序列图或微图文阵列。3.如权利要求1所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述图文结构为内凹型结构或外凸型结构。4.如权利要求3所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述内凹型结构的内凹深度或所述外凸型结构的外凸高度为0.5微米至5微米。5.如权利要求4所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述内凹型结构的内凹深度或所述外凸型结构的外凸高度为1微米至3微米。6.如权利要求1所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述图文结构的表面为平面或光栅结构。7.如权利要求1所述的局部亮光可变图像光学系统，其特征在于，所述微透镜阵列层为微...

【专利技术属性】
技术研发人员：庄孝磊，
申请(专利权)人：上海天臣防伪技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：