有机电致发光显示基板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本公开提供一种有机电致发光显示基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域。本公开的有机电致发光显示基板，包括设置于衬底基板上的像素界定层，像素界定层包括平坦部和开口部；有机电致发光显示基板还包括微纳复合薄膜，微纳复合薄膜覆盖像素限定层的平坦部和开口部；其中，覆盖平坦部的微纳复合薄膜在光照环境下可由疏水性变为亲水性；覆盖所述开口部的微纳复合薄膜在暗态环境下可由亲水性变为疏水性。疏水性。疏水性。

【技术实现步骤摘要】
有机电致发光显示基板及其制备方法、显示装置


[0001]本公开属于显示
，具体涉及一种有机电致发光显示基板及其制备方法、显示装置。

技术介绍

[0002]有机电致发光二极管(Organic Light Emitting Diodes，OLED)属于一种新型电流型半导体发光器件，是通过控制该器件载流子的注入和复合激发有机材料发光显示，属于一种自主发光技术。与被动发光的液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)相比，自主发光的OLED显示器具有响应速度快、对比度高、视角广等优点，并且容易实现柔性显示，被业内普遍看好，业界一致认为OLED显示器极有可能成为下一代显示技术的主流产品。
[0003]目前，OLED各功能材料层与阴极金属层薄膜均通过真空热蒸镀工艺制备，即在真空腔体内加热有机小分子材料，使其升华或者熔融气化成材料蒸汽，通过金属掩模版的开孔沉积在玻璃基板上。但由于真空热蒸发制备成本高，限制了OLED显示器的大范围商业化。喷墨打印(Ink
‑
jetPrinting，IJP)具有材料利用率高等优点，是解决大尺寸OLED显示器成本问题的关键技术，IJP技术在OLED器件发光层的制备中，相比于传统的真空蒸镀工艺，具有节省材料、制程条件温和、成膜更均匀等诸多优点，所以更具应用潜力。此方法是利用多个喷嘴将功能材料油墨滴入预定的像素区域，之后通过干燥获得所需图案薄膜。
[0004]然而，由于不同油墨的亲水性不同，对于亲水性好的油墨，会在挡墙的倾斜内面上爬坡较高，形成凹形膜层，对于亲水性不好的油墨，会在挡墙的凹槽内形成凸形膜层，造成干燥后各像素区域发光元件功能层的薄膜厚度不均匀，不仅会影响OLED器件发光的均匀性，使OLED器件的品质下降。

技术实现思路

[0005]本公开旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种有机电致发光显示基板及其制备方法、显示装置。
[0006]第一方面，本公开实施例提供一种有机电致发光显示基板，包括设置于衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层包括平坦部和开口部；所述有机电致发光显示基板还包括微纳复合薄膜，所述微纳复合薄膜覆盖所述像素限定层的平坦部和开口部；
[0007]其中，所述覆盖所述平坦部的微纳复合薄膜在光照环境下可由疏水性变为亲水性；所述覆盖所述开口部的微纳复合薄膜在暗态环境下可由亲水性变为疏水性。
[0008]可选地，所述微纳复合薄膜包括由氧化物形成的纳米棒阵列结构、针尖状阵列结构、六角形阵列结构中的至少一种。
[0009]可选地，所述氧化物包括氧化锌、氧化钛、氧化锡中的至少一种。
[0010]可选地，所述覆盖所述平坦部的微纳复合薄膜中设置有导电粒子。
[0011]第二方面，本公开实施例提供一种有机电致发光显示基板的制备方法，其特征在于，包括：
[0012]提供衬底基板；
[0013]通过构图工艺在所述衬底基板上形成像素限定层，所述像素限定层包括平坦部和开口部；
[0014]在所述平坦部和开口部上形成微纳复合薄膜。
[0015]可选地，在所述平坦部和开口部上形成微纳复合薄膜，具体包括：
[0016]采用水热法在所述平坦部和所述开口部上形成所述微纳复合薄膜。
[0017]可选地，在所述平坦部和所述开口部上形成微纳复合薄膜的步骤之后还包括：在所述开口部内形成有机电致发光器件功能层。
[0018]可选地，在所述开口部内形成有机电致发光器件功能层，具体包括：
[0019]在墨水滴入开口部前，遮挡所述平坦部，利用紫外光照射微纳复合薄膜，以使覆盖在所述开口部的微纳复合薄膜由疏水性变为亲水性；
[0020]滴入一定量的墨水到所述开口部；
[0021]在墨水干燥过程中，将显示基板置于暗态环境，使覆盖所述开口部的微纳复合薄膜由亲水性变为疏水性。
[0022]可选地，在所述开口部内形成有机电致发光器件功能层之后还包括：
[0023]在所述有机电致发光器件功能层和所述微纳复合薄膜上形成有机电致发光器件的电极层。
[0024]第三方面，本公开实施例提供一种显示装置，包括上述的有机电致发光显示基板。
附图说明
[0025]图1为一种示例性的有机电致发光显示基板的平面示意图；
[0026]图2为图1所示显示基板中像素驱动电路的电路图；
[0027]图3为图2所示像素驱动电路中的第二发光控制晶体管与发光器件连接位置处的截面图；
[0028]图4为另一种示例性的有机电致发光显示基板的结构示意图；
[0029]图5为油墨在图4所示的像素限定层开口内形成凹形膜层的示意图；
[0030]图6为油墨在图4所示的像素限定层开口内形成凸形膜层的示意图；
[0031]图7为本公开实施提供的一种有机电致发光显示基板的结构示意图；
[0032]图8为本公开实施提供的又一种有机电致发光显示基板的结构示意图；
[0033]图9为本公开实施提供的一种有机电致发光显示基板的制备方法流程图。
具体实施方式
[0034]为使本领域技术人员更好地理解本公开的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本公开作进一步详细描述。
[0035]除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其
等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
[0036]需要说明的是，“构图工艺”是指形成具有特定的图形的结构的步骤，其可为光刻工艺，光刻工艺包括形成材料层、涂布光刻胶、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等步骤中的一步或多步；当然，“构图工艺”也可为压印工艺、喷墨打印工艺等其它工艺。
[0037]图1为一种示例性的有机电致发光显示基板的平面示意图，如图1所示，显示基板包括衬底基板，以及形成在衬底基板上多个像素单元0，每个像素单元0中均设置有一个像素驱动电路和一个OLED器件。该像素驱动电路可以包括7T1C(即七个晶体管和一个电容)结构，例如包括驱动晶体管、数据写入晶体管、存储电容、阈值补偿晶体管、第一复位晶体管、第二复位晶体管、第一发光控制晶体管以及第二发光控制晶体管。图2为图1所示显示基板中像素驱动电路的电路图，参照图2，数据写入晶体管T4源极的与驱动晶体管T3的源极电连接，数据写入晶体管T4的漏本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种有机电致发光显示基板，其特征在于，包括设置于衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层包括平坦部和开口部；所述有机电致发光显示基板还包括微纳复合薄膜，所述微纳复合薄膜覆盖所述像素限定层的平坦部和开口部；其中，覆盖所述平坦部的所述微纳复合薄膜在光照环境下由疏水性变为亲水性；所述覆盖所述开口部的微纳复合薄膜在暗态环境下由亲水性变为疏水性。2.根据权利要求1所述的有机电致发光显示基板，其特征在于，所述微纳复合薄膜包括由氧化物形成的纳米棒阵列结构、针尖状阵列结构、六角形阵列结构中的至少一种。3.根据权利要求2所述的有机电致发光显示基板，其特征在于，所述氧化物包括氧化锌、氧化钛、氧化锡中的至少一种。4.根据权利要求3所述的有机电致发光显示基板，其特征在于，覆盖所述平坦部的所述微纳复合薄膜中设置有导电粒子。5.一种有机电致发光显示基板的制备方法，其特征在于，包括：提供衬底基板；通过构图工艺在所述衬底基板上形成像素限定层，所述像素限定层包括平坦部和开口部；在所述平坦部和开口部上形成微纳复合薄膜。6.根据权利要求5所述的有机电致发光显示基板的制备方法，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：井杨坤，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：