一种单晶硅片烘干装置制造方法及图纸

技术编号:30500529 阅读:22 留言:0更新日期:2021-10-27 22:32
本实用新型专利技术提供一种单晶硅片烘干装置,涉及单晶硅制造技术领域。该单晶硅片烘干装置包括箱体(1)和上盖(8),所述箱体(1)内设置有外筒(2),所述外筒(2)底部安装有控制电机(5),内部设置有内筒(3),所述内筒(3)内设置有由泡沫制成的缓冲保护层(4),所述上盖(8)通过铰链结构安装在箱体(1)上,所述上盖(8)上设置有电热风机(6)和风机电机(7),所述外筒(2)底部设置有排水管(9),所述内筒(3)和缓冲保护层(4)上均开设有过水孔。本实用新型专利技术结构简单、工作耗能低、解决了单晶硅片烘干不均和烘干速度慢的技术问题。技术问题。技术问题。

【技术实现步骤摘要】
一种单晶硅片烘干装置


[0001]本技术涉及单晶硅制造
,具体涉及一种单晶硅片烘干装置。

技术介绍

[0002]硅是最常见、应用最广的半导体材料,当熔融的单质硅凝固时,硅原子以金刚石晶格排列成晶核,其晶核长成晶面取向相同的晶粒,形成单晶硅。单晶硅作为一种比较活泼的非金属元素晶体,是晶体材料的重要组成部分,处于新材料发展的前沿。单晶硅材料制造要经过如下过程:石英砂

冶金级硅

提纯和精炼

沉积多晶硅锭

单晶硅

硅片切割。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等。清洗后的单晶硅片是润湿的,在封装之前需要进行干燥处理,但是目前市场上的烘干设备烘干不均匀。在专利CN201920155023.8中,公开了一种节能高效的单晶硅片烘干装置,包括装置本体和单晶硅存放柜,装置本体的内部设置有烘干仓,烘干仓的内部设置了抽拉式烘干箱,在对单晶硅片进行烘干时,将抽拉式烘干箱通过烘干仓内壁开设的滑轨与滑动轮的相互配合,实现抽拉式烘干箱的抽拉滑动,并将需要烘干的单晶硅片放置在单晶硅放置架上,进行烘干作业,抽拉式烘干箱采用了独立式结构,可以在单晶硅片放置或拿取抽拉时,不会影响其它抽拉式烘干箱的烘干作业,最小程度的避免烘干仓内的热量流失,从而减少能源的消耗,并且烘干箱采用抽拉式结构配合液压伸缩杆,可以方便对单晶硅片进行安放和拿取。但是该烘干装置不能保证烘干的均匀。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于克服现有技术的缺点,提供了一种单晶硅片烘干装置。通过设置可以旋转的内筒、用以保护的缓冲保护层、用以烘干的电热风机,解决了单晶硅片烘干不均和烘干速度慢的技术问题。
[0004]本技术的目的通过以下技术方案来实现:
[0005]一种单晶硅片烘干装置,包括箱体和上盖,其中:
[0006]所述箱体内设置有外筒;
[0007]所述外筒底部安装有控制电机;
[0008]所述外筒内设置有内筒;
[0009]所述内筒内设置有缓冲保护层;
[0010]所述上盖通过铰链结构安装在箱体上;
[0011]所述上盖上设置有电热风机和风机电机;
[0012]所述外筒底部设置有排水管,在长期工作后能排出多余的水。
[0013]可选或优选地,所述内筒的筒壁上开设有多个过水孔。
[0014]可选或优选地,所述缓冲保护层由泡沫制成。
[0015]可选或优选地,所述缓冲保护层的底部开设有多个过水孔。
[0016]可选或优选地,所述电热风机的功率为1KW。
[0017]基于上述技术方案,可产生如下技术效果:
[0018]本技术提供的一种单晶硅片烘干装置,结构简单、工作耗能低,适用于烘干清洗后的单晶硅片。本技术通过设置电热风机,可持续朝硅片吹出干燥的热风,设置可旋转的内筒,能使硅片均匀受风,设置缓冲保护层,能保护硅片平稳旋转而不破碎,解决了单晶硅片烘干不均和烘干速度慢的技术问题。
附图说明
[0019]图1 为本技术的结构示意图(剖视图);
[0020]图中:1

箱体,2

外筒,3

内筒,4

缓冲保护层,5

控制电机,6

电热风机,7

风机电机,8

上盖,9

排水管。
具体实施方式
[0021]下面结合附图对本技术做进一步的描述,但本技术的保护范围不局限于以下所述。
[0022]如图1所示:
[0023]本技术提供了一种单晶硅片烘干装置,包括箱体1和上盖8,其中:
[0024]所述箱体1内设置有外筒2;
[0025]所述外筒2底部安装有控制电机5;
[0026]所述外筒2内设置有内筒3,能通过连轴被控制电机5驱动旋转;
[0027]所述内筒3内设置有缓冲保护层4,保护硅片平稳旋转而不破碎;
[0028]所述上盖8通过铰链结构安装在箱体1上,可以随时将上盖8掀起检视硅片的情况;
[0029]所述上盖8上设置有电热风机6和风机电机7,风机电机7能驱动电热风机6持续朝内筒3供风;
[0030]所述外筒2底部设置有排水管9,在长期工作后能排出多余的水,使内外筒能保持干燥。
[0031]作为可选或优选地实施方式,所述内筒3的筒壁上开设有多个过水孔,使水通过离心力被甩向外筒2。
[0032]作为可选或优选地实施方式,所述缓冲保护层4由泡沫制成,质量轻、便宜、易加工成各种形状。
[0033]作为可选或优选地实施方式,所述缓冲保护层4的底部开设有多个过水孔。
[0034]作为可选或优选地实施方式,所述电热风机6的功率为1KW。
[0035]本技术提供的单晶硅片烘干装置的工作过程如下:在对单晶硅片进行烘干时,将待烘干的单晶硅片放入缓冲保护层4内,启动后,控制电机5驱动内筒3旋转,风机电机7控制电热风机6向内筒3内送风,可对其中的单晶硅片进行均匀的烘干处理。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单晶硅片烘干装置,其特征在于:包括箱体(1)和上盖(8),其中:所述箱体(1)内设置有外筒(2);所述外筒(2)底部安装有控制电机(5);所述外筒(2)内设置有内筒(3);所述内筒(3)内设置有缓冲保护层(4);所述上盖(8)通过铰链结构安装在箱体(1)上;所述上盖(8)上设置有电热风机(6)和风机电机(7);所述外筒(2)底部设置有排水管(9)。2.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员:代刚贾涛赵富军
申请(专利权)人:成都青洋电子材料有限公司
类型:新型
国别省市:

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