公开了一种可变形反射镜装置，光拾取器和光学驱动装置。可变形反射镜装置包括挠性构件，该挠性构件在一表面上具有反射镜，并且在该反射镜的相对表面上具有截面形状不同以形成凸起的部分，从而给予挠性构件预定的强度分布；基底；设置在基底和挠性构件之间以从基底侧支撑挠性构件的强度加固构件；以及通过在挠性构件的反射镜的相对表面上施加驱动力以使反射镜的形状变形的驱动部分。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种其反射镜可变形的可变形反射镜装置以及包括 该可变形反射镜装置的光拾取器。本专利技术还涉及一种写或读光记录介 质的光学驱动装置。
技术介绍
在写或读光盘记录介质的光学驱动装置中，例如，激光通过物镜 聚焦在光盘记录介质的记录层上以在其上读或写信号。已知在激光通过物镜照射的情况下，由于从记录表面到光盘记录 介质的记录层的覆盖层的厚度(覆盖厚度)不同会产生球面象差。在 光学系统被设计成在当前光记录介质上的覆盖厚度为一个假定值时使 球面象差最小的情况下，如果覆盖厚度与该假定值不同，则可能产生 球面象差。为此，如果光盘记录介质的覆盖厚度不均匀则会产生球面象差。 近年来， 一些光盘记录介质具有多个记录层以便实现更高的记录 密度。由于如上所述在具有多个记录层的光盘记录介质内到记录层的 覆盖厚度明显不同，所以在写或读除了基准记录层之外的记录层时可 能产生球面象差。球面象差的产生会恶化图象形成性能，并且还会恶化信号写/读性能。因此，希望给出用于校正球面象差的某种手段。在过去已经提出多种技术(参考JP-A-5-151591 (专利文献l)， JP-A-9-152505 (专利文献2 )和JP-A-2006-155850 (专利文献3 ))， 这些技术使得包括在光盘内的反射体的表面形状变形，以便校正如上 所述的由光记录介质内的覆盖厚度差导致的球面象差。其中，专利文献3内包括的专利技术是由本专利技术人提出的。具体地， 提出了一种可变形反射镜装置，其包括在表面上的反射镜，具有利用 具有相同中心的圆形或椭圆形来区分与变形形状相关的状态的多个部 分的挠性构件，以及用于向挠性部件提供驱动力并且使反射镜形状变 形的驱动部件。利用专利文献3内公开的使用挠性构件的配置，反射镜可根据施 加在挠性部件上的预定的均匀量的驱动力变形为某种变形形状。因此， 反射镜可变形为希望的形状而无需采用如专利文献l内所述的具有多 个压电致动器的复杂配置，向该多个压电致动器施加的是部分不同的 驱动力。换句话说，这可防止可变形反射镜装置的电路尺寸增加，从 而可减小电路制造成本。根据专利文献3内公开的专利技术，挠性构件可根据施加的驱动力等 级逐步获得希望的变形形状，这使得反射镜可具有两种或多种变形形 状。这样可改进如专利文献2内公开的专利技术所述的难以支持三个或更 多个记录层的问题，并且在除了在设计光学系统时被定义为基准的记 录层之外还存在两个或更多个记录层的情况下，可在所有记录层上有 效地执行球面象差校正。
技术实现思路
这里，假设在通过对挠性构件施加驱动力获得预定的反射镜变形 形状以便进行象差校正时，在没有施加驱动力的状态(即，未变形状 态)下挠性构件是平坦的。这是由于在形成于挠性构件中以便获得预 定变形形状的、处于不同变形形状状态的各部分的图案是在假设无变 形的反射镜是平坦的情况下定义的。影响挠性构件的平坦度恶化的因素可能是反射镜装置的组装精 度。换句话说，如果反射镜装置被以一定程度的精度组装，则可阻止 产生不必要的应力，并且反射镜可以是平坦的。但是，即使在反射镜装置的反射镜自身的平坦度被获得的状态 下，由于组装好的反射镜装置与另 一个装置例如光学驱动装置的连接 在装置内产生的应力可能会不利地使反射镜平坦度变差。例如，专利文献3内的图19内所示的可变形反射镜装置70具有 粘接的基部65和挠性构件2，该基部和挠性构件各自的外缘相互接触。 在此结构内，由于反射镜装置与另一个装置的连接产生的应力会通过 外缘传导到挠性构件2侧。因此，反射镜变形，这会使平坦度变差。反射镜平坦度的恶化会使得当反射镜被驱动时变形形状不对称， 并且可阻止反射镜根据施加的预定数量的驱动力实现预定的变形。结 果，球面象差校正的精确度降低。这里，为了防止在图19内所示的具有外缘粘接的结构内发生如 上所述的连接时平坦度恶化，挠性构件2的最外侧部分(框架2E)的 水平剖面的厚度可增加以获得抵抗来自基部65 —侧的应力的强度。但是，增加挠性构件2的最外侧部分的宽度可能会增加反射镜发 射装置的尺寸。这里，图19内的强度分布图案2a的范围是在线圏被通电并且在 挠性构件2上施加压力时，用于获得预定变形形状的图案形成为反射 镜的变形形状的部分。因此，当挠性构件2的最外侧部分的厚度增加 时，通过保持形成有强度分布图案2a的空间而朝外缘增加宽度。结果， 反射镜装置的大小会增加。专利文献3公开了 一种中心鍵合型的可变形反射镜装置60 ，其中 专利文献3内的图16所示，挠性构件2和基部61通过各自的中心键 合(bonded)在一起。在此配置内，驱动线圏35围绕挠性构件2的 最外侧边缘缠绕，并且在基部61的最外侧部分处的外圆周壁61a上设 置磁铁34。因此，可使反射镜变形。但是，在此配置内，基部61的外圆周壁61a被形成在比挠性构件2的最外侧部件靠外很多的位置上，并且被形成在形成用于放置磁 体34的空间和在磁体34与驱动线圏35之间的空间的位置上。结果， 基部61的宽度增加，这样会促使装置的尺寸增加。为了防止上述的尺寸增加，可提出这样的配置，其中通过将已被 缠绕在挠性构件2的最外侧部分的外缘侧上的驱动线圏35缠绕在内圆 周侧上，并且在基部61的内圓周壁61b —侧上设置磁体34，从而省 去了基部61的外圆周部分而不是内圆周壁61b。但是，尽管可存在不 具有基部61的外圆周部分而不是内圓周壁61b的配置，但是此配置使 挠性构件2的最外侧部件暴露在反射镜装置60内，并且在操作该装置 时损坏挠性构件2的危险会增加。为此，操纵反射镜装置连接到另一 个装置非常困难，这在实践中会带来问题。因此，希望提供一种具有以下配置的可变形反射镜装置，即该配 置可确保用于抑制由于当连接到另 一个装置时在反射镜装置内产生的 应力导致的反射镜的平坦度恶化所需的强度，并且可防止装置的尺寸 增加。根据本专利技术的实施例，提供了一种具有以下配置的可变形反射镜装置。即，根据本专利技术的一个实施例的可变形反射镜装置包括挠性构件 和基底，所述挠性构件在一表面上具有反射镜，并且具有呈现不同的 剖面形状以在反射镜的相对表面上形成凸起从而给予挠性构件预定的强度分布的部分。可变形反射镜发射装置还包括设置在基底和挠性构件之间以从 基底侧支撑挠性构件的强度加固构件。可变形反射镜装置还包括用于通过在挠性构件的反射镜的相对 表面上施加驱动力使反射镜形状变形的驱动装置。这样，根据本专利技术的实施例的可变形反射镜装置在基底和挠性构 件之间具有强度加固构件。因此，即使在当反射镜装置连接到另一个 装置时在反射镜装置内产生应力的情况下，仍可有效地防止基于该强 度的力传递到挠性构件。结果，可抑制反射镜的平坦度恶化。根据如上所述的本专利技术的实施例，在可变形反射镜装置过去连接 到另一个装置时导致的反射镜平坦度恶化可被抑制。于是，这样的平 坦度恶化抑制可提高使反射镜变形的精度，并且因此可提高象差校正 的精度。根据本专利技术的实施例，单独提供的强度加固构件负责加固强度的 作用，而不是由挠性构件一侧负责。因此，强度加固构件的水平剖面 厚度可以不沿装置的外圆周方向增加而是沿内圆周方向增加。结果， 可有效地阻止用于加固强度的可变形反射镜装置的尺寸增加。单独提供的起到强度加固作用的强度加固构件使得不必沿挠性 构件的最外本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种可变形反射镜装置，包括： 挠性构件，所述挠性构件在一表面上具有反射镜，并且在所述反射镜的相对表面上具有截面形状不同以形成凸起的部分，从而将预定的强度分布给予所述挠性构件； 基底； 设置在所述基底和所述挠性构件之间以从所述基底侧支撑所述挠性构件的强度加固构件；以及 通过向所述挠性构件的所述反射镜的相对表面施加驱动力，而使所述反射镜的形状变形的驱动部分。
【技术特征摘要】
JP 2007-6-18 2007-1604621.一种可变形反射镜装置，包括挠性构件，所述挠性构件在一表面上具有反射镜，并且在所述反射镜的相对表面上具有截面形状不同以形成凸起的部分，从而将预定的强度分布给予所述挠性构件；基底；设置在所述基底和所述挠性构件之间以从所述基底侧支撑所述挠性构件的强度加固构件；以及通过向所述挠性构件的所述反射镜的相对表面施加驱动力，而使所述反射镜的形状变形的驱动部分。2. 根据权利要求l所述的可变形反射镜装置，其中，所述挠性 构件具有以下截面形状最外侧部分的垂直截面最厚且所述垂直截面 的厚度从所述反射镜的中心朝外圆周方向逐步减小。3. 根据权利要求1所述的可变形反射镜装置，其中所述驱动部 分被配置成通过向所述挠性构件的所述反射镜的相对表面施加基于电 磁力的压力而使所述反射镜变形。4. 根据权利要求3所述的可变形反射镜装置，其中所述驱动部 分具有固定到所述挠性构件的所述反射镜的相对表面上的磁体，和固定 到所述基底或所述强度加固构件上的线圏，其中，通过给所述线圏通电而向所述挠性构件施加推压力或拉压 力，从而使所述反射镜变形。5. 根据权利要求1所述的可变形反射镜装置，其中，该装置被 放置成以90度反射入射光，并且所述截面形状不同的部分为具有相同 中心的椭圆形状。6. 根据权利要求1所述的可变形反射镜装置，其中，所述挠性 构件包含硅，并且所述强度加固构件包含Pyrex玻璃，并且所述挠性 构件和所述强度加固构件通过阳极键合固定。7. 根据权利要求l所述的可变形反射镜装置，其中，所述挠性 构件和所述强度加固构件均包含硅，并且所述挠性构件...
【专利技术属性】
技术研发人员：青木直，山田正裕，
申请(专利权)人：索尼株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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