一种匀胶显影机制造技术

本实用新型专利技术涉及半导体设备技术领域，公开了一种匀胶显影机。所述匀胶显影机包括机架本体、多个工作单元、机械手组件及清洁组件，其中机架本体围成能够封闭的工作空间，多个工作单元设置在工作空间内，每个工作单元均设置有载台，载台用于承载工件，机械手组件设置在工作空间内，机械手组件能够抓取工件并将工件在载台之间输送，清洁组件设置在工作空间内，机械手组件能够抓取清洁组件并将其放置在载台上，以使清洁组件清洁载台。本实用新型专利技术的匀胶显影机在对内部各个载台进行清洁时，操作方便、效率高，且清洁过程不会引入工作空间以外的污染物；清洁组件的运动借助匀胶显影机本身的结构，故制造成本低。故制造成本低。故制造成本低。

【技术实现步骤摘要】
一种匀胶显影机


[0001]本技术涉及半导体设备
，尤其涉及一种匀胶显影机。

技术介绍

[0002]光刻工艺是晶圆制造过程中必不可少的环节，光刻工艺通常采用匀胶显影机实现，光刻工艺包括对硅片进行表面清洗烘干、涂底、涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等多个工序。匀胶显影机包括机架本体，机架本体内部设置有多个工作单元，各个工作单元分别用于完成上述的各个工序，机架本体内设置有机械手，机械手用于抓取晶圆并将晶圆在各个工作单元之间进行输送。每个工作单元设置均设置有用于承载晶圆的载台，晶圆自身表面可能粘附粉尘颗粒，这些粉尘颗粒沉积在载台上后，会使整个机架本体内部的清洁度下降，无法满足光刻工艺正常工作的清洁标准，此外还可能影响载台的平整度，进而影响后续晶圆的加工精度。因此，匀胶显影机生产过程中需要定期对各个工作单元的载台进行清洁。现有技术中，在清洁载台时，需要将设备停机，再通过人工分别打开机架本体上与载台相对应的操作门，人工对载台进行清洁，待清洁结束后再将对应的操作门关闭和锁紧，由于匀胶显影机包括多个操作门和多个载台，因此清洁过程工作量大、效率低，且在打开操作门进行清洁的过程中还可能向机架本体内部引入其他污染物体。
[0003]因此，亟需一种匀胶显影机来解决上述技术问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提出一种匀胶显影机，其在对内部各个载台进行清洁时，操作方便、效率高，且不会引入其他污染物。
[0005]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0006]一种匀胶显影机，包括：
[0007]机架本体，其围成能够封闭的工作空间；
[0008]多个工作单元，设置在所述工作空间内，每个所述工作单元均设置有载台，所述载台用于承载工件；
[0009]机械手组件，设置在所述工作空间内，所述机械手组件能够抓取所述工件并将所述工件在所述载台之间输送；
[0010]清洁组件，设置在所述工作空间内，所述机械手组件能够抓取清洁组件并将其放置在所述载台上，以使所述清洁组件清洁所述载台。
[0011]可选地，所述匀胶显影机内还包括充电桩，所述充电桩设置在所述工作空间内，所述机械手组件能够将所述清洁组件放置在所述充电桩上充电。
[0012]可选地，所述清洁组件包括：
[0013]吸尘壳体，包括底板，所述底板上设置有多个吸尘口；
[0014]尘盒，与所述吸尘壳体连接，所述尘盒与所述吸尘壳体相连通；
[0015]风机，与所述吸尘壳体连接，所述风机用于使所述吸尘壳体内产生负压。
[0016]可选地，所述底板的大小和形状与所述载台的大小和形状相同。
[0017]可选地，所述机械手组件包括多个机械手，每个所述机械手能够在对应地多个特定的所述载台之间输送所述工件或所述清洁组件。
[0018]可选地，所述机械手包括机械臂和连接在所述机械臂输出端的夹爪组件，所述机械臂能带动所述夹爪组件在所述工作空间内运动，所述夹爪组件能够抓取所述工件或所述清洁组件。
[0019]可选地，所述机械臂为六轴机械臂。
[0020]可选地，所述工作空间内位于相邻两个所述机械手之间的位置设置有缓存平台，所述缓存平台能够放置所述清洁组件，所述机械手能够从所述缓存平台上抓取所述清洁组件。
[0021]可选地，所述载台上设置有避让孔，所述工作单元还包括顶针和升降驱动组件，所述顶针穿设于所述避让孔，所述升降驱动组件能够驱动所述顶针凸出于所述载台的上表面，或者容纳于所述避让孔内。
[0022]可选地，所述清洁组件上设置有定位槽，当所述顶针凸出于所述载台上表面时，所述顶针能够插入所述定位槽内。
[0023]本技术有益效果为：
[0024]本技术的匀胶显影机在使用时，清洁组件设置在机架本体围成的工作空间内，故在需要对载台进行清洁时，机械手组件可以将清洁组件抓取到载台上对载台进行清洁，不必逐一启闭机架本体上操作门和人工对每个载台进行清洁，清洁过程更方便、效率更高，且不会造成工作空间外部的杂质污染工作空间；清洁组件的输送由匀胶显影机本身具有的机械手组件完成，故能够保证较低的制造成本；此外，在机械手组件将清洁组件放置到一个载台上进行清洁后，机械手组件还可以抓取工件并将工件在其他载台之间进行输送，即整个均胶显影设备不必完全停机，从而提高生产效率。
附图说明
[0025]图1是本技术具体实施方式提供的匀胶显影机的结构示意图；
[0026]图2是本技术具体实施方式提供的匀胶显影机主视视角下的内部布局图；
[0027]图3是本技术具体实施方式提供的匀胶显影机俯视视角下的内部布局图；
[0028]图4是本技术具体实施方式提供的清洁组件及充电桩的结构示意图；
[0029]图5是本技术具体实施方式提供的清洁组件的仰视图；
[0030]图6是本技术具体实施方式提供的工作单元的局部结构示意图。
[0031]图中：
[0032]1‑
机架本体；11
‑
操作门；
[0033]2‑
工作单元；21
‑
载台；211
‑
避让孔；22
‑
顶针；23
‑
升降驱动组件；
[0034]3‑
机械手；
[0035]4‑
清洁组件；41
‑
吸尘壳体；411
‑
吸尘口；412
‑
定位槽；42
‑
尘盒；43
‑
风机；
[0036]5‑
充电桩；
[0037]6‑
缓存平台。
具体实施方式
[0038]下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构。
[0039]在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0040]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种匀胶显影机，其特征在于，包括：机架本体(1)，其围成能够封闭的工作空间；多个工作单元(2)，设置在所述工作空间内，每个所述工作单元(2)均设置有载台(21)，所述载台(21)用于承载工件；机械手组件，设置在所述工作空间内，所述机械手组件能够抓取所述工件并将所述工件在所述载台(21)之间输送；清洁组件(4)，设置在所述工作空间内，所述机械手组件能够抓取清洁组件(4)并将其放置在所述载台(21)上，以使所述清洁组件(4)清洁所述载台(21)。2.如权利要求1所述的匀胶显影机，其特征在于，所述匀胶显影机内还包括充电桩(5)，所述充电桩(5)设置在所述工作空间内，所述机械手组件能够将所述清洁组件(4)放置在所述充电桩(5)上充电。3.如权利要求2所述的匀胶显影机，其特征在于，所述清洁组件(4)包括：吸尘壳体(41)，包括底板，所述底板上设置有多个吸尘口(411)；尘盒(42)，与所述吸尘壳体(41)连接，所述尘盒(42)与所述吸尘壳体(41)相连通；风机(43)，与所述吸尘壳体(41)连接，所述风机(43)用于使所述吸尘壳体(41)内产生负压。4.如权利要求3所述的匀胶显影机，其特征在于，所述底板的大小和形状与所述载台(21)的大小和形状相同。5.如权利要求1
‑
4任一项所述的匀胶显影机，其特征在于，所述机械手组件包括多个...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡明堂，黄宽信，
申请(专利权)人：泉芯集成电路制造济南有限公司，
类型：新型
国别省市：