本发明专利技术涉及晶圆涂覆清洗装置，包括水槽组件、旋转轴组件、涂覆摆臂组件、清洗摆臂组件和吸附载台，旋转轴组件、涂覆摆臂组件和清洗摆臂组件均安装在水槽组件上，旋转轴组件位于水槽组件的中间位置，涂覆摆臂组件和清洗摆臂组件位于旋转轴组件的两侧位置，旋转轴组件的顶部安装有吸附载台。本发明专利技术通过水槽组件、旋转轴组件、涂覆摆臂组件、清洗摆臂组件和吸附载台的结构设置，综合对晶圆进行涂覆处理和清洗处理，处理效果较好，处理效率较高。处理效率较高。处理效率较高。
【技术实现步骤摘要】
晶圆涂覆清洗装置
[0001]本专利技术涉及晶圆加工相关
，尤其涉及晶圆涂覆清洗装置。
技术介绍
[0002]高频率电子元件中所使用的GaAs(砷化镓)等化合物半导体，在采用金刚石磨轮刀片进行切割(以下：磨轮刀片切割)时，进给速度慢，难以提高生产效率。另外，在SIP(System in Package)等高集成化的背景下，高抗折强度的薄片制造技术也越来越重要。然而，然而，对于磨轮刀片切割来说，晶圆的厚度越薄，切割的难度也就越大。在晶圆进行切割加工之前需要进行前处理，在晶圆进行切割加工之后需要进行后处理，但是现有技术中对于晶圆的前处理和后处理一般是通过人工或者是单独的设备进行处理，这样的方式使得前处理和后处理的处理效果不好，且处理效率较低。
[0003]有鉴于上述的缺陷，本设计人积极加以研究创新，以期创设一种晶圆涂覆清洗装置，使其更具有产业上的利用价值。
技术实现思路
[0004]为解决上述技术问题，本专利技术的目的是提供一种晶圆涂覆清洗装置。
[0005]为实现上述目的，本专利技术采用如下技术方案：
[0006]晶圆涂覆清洗装置，包括水槽组件、旋转轴组件、涂覆摆臂组件、清洗摆臂组件和吸附载台，旋转轴组件、涂覆摆臂组件和清洗摆臂组件均安装在水槽组件上，旋转轴组件位于水槽组件的中间位置，涂覆摆臂组件和清洗摆臂组件位于旋转轴组件的两侧位置，旋转轴组件的顶部安装有吸附载台；
[0007]水槽组件包括固定底座、水槽和升降气缸，水槽通过若干个立柱安装在固定底座上，升降气缸沿着竖直方向安装在固定底座上的一侧，升降气缸顶部的驱动端与旋转轴组件在竖直方向上驱动连接设置；
[0008]旋转轴组件包括伺服电机、旋转固定盘和旋转连接板，伺服电机依次通过上方的电机底座和旋转固定盘与水槽相连接，旋转固定盘内侧设置有旋转轴罩壳，伺服电机顶部的驱动轴依次通过第一联轴器、密封旋转轴与上方旋转轴罩壳内侧的旋转连接板驱动连接设置，旋转连接板上设置有吸附载台；
[0009]涂覆摆臂组件和清洗摆臂组件的底部均安装在固定底座上，涂覆摆臂组件和清洗摆臂组件的顶部均穿过水槽且位于吸附载台上的两侧位置。
[0010]作为本专利技术的进一步改进，还包括罩壳组件，罩壳组件安装在水槽上，罩壳组件包括密封罩壳，密封罩壳的顶部开设有开口，开口内部可移动的设置有密封卷帘，密封罩壳内还设置有卷帘气缸，卷帘气缸的驱动端与密封卷帘驱动连接设置，密封罩壳的外侧还设置有第一歧管和第二歧管。
[0011]作为本专利技术的进一步改进，吸附载台包括吸附盘和钢环，吸附盘安装在旋转连接板上，吸附盘的外侧设置有钢环，吸附盘通过钢环卡夹支架和卡夹与钢环相连接。
[0012]作为本专利技术的进一步改进，水槽组件还包括导向限位组件，导向限位组件包括升降限位块、直线轴承座和导向轴，升降限位块安装在固定底座上，导向轴通过直线轴承座安装在旋转固定盘上，导向轴的底部设置有升降限位块。
[0013]作为本专利技术的进一步改进，水槽和立柱之间设置有减震器，水槽的底部还设置有排水法兰口。
[0014]作为本专利技术的进一步改进，涂覆摆臂组件从下往上依次包括步进电机、空心轴、L型接头和涂覆固定板，步进电机与上方的电机固定板相连接，步进电机顶部的驱动端依次通过第二联轴器、连接轴、三通接头、空心轴和L型接头与涂覆固定板驱动连接设置，涂覆固定板上安装有涂覆喷嘴，第二联轴器和连接轴之间设置有与电机固定板连接的第一支撑座，空心轴通过第二支撑座安装在电机固定板上。
[0015]作为本专利技术的进一步改进，清洗摆臂组件下往上依次包括步进电机、实心轴、L型接头和清洗固定板，步进电机与上方的电机固定板相连接，步进电机顶部的驱动端依次通过第二联轴器、实心轴和L型接头与上方的清洗固定板驱动连接设置，清洗固定板上安装有清洗喷嘴，第二联轴器和实心轴之间设置有与电机固定板连接的第一支撑座，实心轴通过第二支撑座安装在电机固定板上。
[0016]作为本专利技术的进一步改进，清洗固定板上还安装有吹气嘴和与清洗喷嘴相连接的止逆阀。
[0017]借由上述方案，本专利技术至少具有以下优点：
[0018]1、通过水槽组件、旋转轴组件、涂覆摆臂组件、清洗摆臂组件和吸附载台的结构设置，综合对晶圆进行涂覆处理和清洗处理，处理效果较好，处理效率较高；
[0019]2、通过涂覆摆臂组件和清洗摆臂组件对晶圆进行涂覆处理和清洗处理，可以提高晶圆加工的切割效果和良率；
[0020]3、通过罩壳组件的结构设置，可以起到一定的密封保护作用。
[0021]上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本专利技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0023]图1是本专利技术一种晶圆涂覆清洗装置的结构示意图；
[0024]图2是图1中去除罩壳组件后的结构示意图；
[0025]图3是图2另一侧的结构示意图；
[0026]图4是图1中旋转轴组件的结构示意图；
[0027]图5是图1中涂覆摆臂组件的结构示意图；
[0028]图6是图1中清洗摆臂组件的结构示意图；
[0029]图7是本专利技术一种晶圆涂覆清洗装置的结构示意图。
[0030]其中，图中各附图标记的含义如下。
[0031]1水槽组件2旋转轴组件
[0032]3涂覆摆臂组件4清洗摆臂组件
[0033]5吸附载台6罩壳组件
[0034]7立柱8水槽
[0035]9减震器10升降限位块
[0036]11排水法兰口12直线轴承座
[0037]13升降气缸14伺服电机
[0038]15第一联轴器16密封旋转轴
[0039]17旋转固定盘18旋转轴罩壳
[0040]19旋转连接板20导向轴
[0041]21吸附盘22钢环卡夹支架
[0042]23卡夹24钢环
[0043]25步进电机26第二联轴器
[0044]27连接轴28第一支撑座
[0045]29三通接头30空心轴
[0046]31第二支撑座32电机固定板
[0047]33L型接头34涂覆喷嘴
[0048]35涂覆固定板36实心轴
[0049]37清洗喷嘴38清洗固定板
[0050]39吹气嘴40止逆阀
[0051]41密封罩壳42第一歧管
[0052]43第二歧管44密封卷帘
[0053]45卷帘气缸
具体实施方式
[0054]下面结合附图和实施例，对本专利技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.晶圆涂覆清洗装置，其特征在于，包括水槽组件(1)、旋转轴组件(2)、涂覆摆臂组件(3)、清洗摆臂组件(4)和吸附载台(5)，所述旋转轴组件(2)、涂覆摆臂组件(3)和清洗摆臂组件(4)均安装在水槽组件(1)上，所述旋转轴组件(2)位于水槽组件(1)的中间位置，所述涂覆摆臂组件(3)和清洗摆臂组件(4)位于旋转轴组件(2)的两侧位置，所述旋转轴组件(2)的顶部安装有吸附载台(5)；所述水槽组件(1)包括固定底座、水槽(8)和升降气缸(13)，所述水槽(8)通过若干个立柱(7)安装在固定底座上，所述升降气缸(13)沿着竖直方向安装在固定底座上的一侧，所述升降气缸(13)顶部的驱动端与旋转轴组件(2)在竖直方向上驱动连接设置；所述旋转轴组件(2)包括伺服电机(14)、旋转固定盘(17)和旋转连接板(19)，所述伺服电机(14)依次通过上方的电机底座和旋转固定盘(17)与水槽(8)相连接，所述旋转固定盘(17)内侧设置有旋转轴罩壳(18)，所述伺服电机(14)顶部的驱动轴依次通过第一联轴器(15)、密封旋转轴(16)与上方旋转轴罩壳(18)内侧的旋转连接板(19)驱动连接设置，所述旋转连接板(19)上设置有吸附载台(5)；所述涂覆摆臂组件(3)和清洗摆臂组件(4)的底部均安装在固定底座上，所述涂覆摆臂组件(3)和清洗摆臂组件(4)的顶部均穿过水槽(8)且位于吸附载台(5)上的两侧位置。2.如权利要求1所述的晶圆涂覆清洗装置，其特征在于，还包括罩壳组件(6)，所述罩壳组件(6)安装在水槽(8)上，所述罩壳组件(6)包括密封罩壳(41)，所述密封罩壳(41)的顶部开设有开口，所述开口内部可移动的设置有密封卷帘(44)，所述密封罩壳(41)内还设置有卷帘气缸(45)，所述卷帘气缸(45)的驱动端与密封卷帘(44)驱动连接设置，所述密封罩壳(41)的外侧还设置有第一歧管(42)和第二歧管(43)。3.如权利要求1所述的晶圆涂覆清洗装置，其特征在于，所述吸附载台(5)包括吸附盘(21)和钢环(24)，所述吸附盘(21)安装在旋转连接板(19)上，所述吸附盘(21)的外侧设置有钢环(24)，所述吸附盘(21)通过钢环卡夹...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵裕兴，韩秋杰，
申请(专利权)人：苏州德龙激光股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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