一种用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺，本掩模版由聚酰亚胺原液与具有磁性的粉体混合而成。使得掩膜版在保证足够磁性的前提下，做到重量最小，厚度最小，产生的弯曲形变最小，能够实现大尺寸掩膜版的制作，工艺简单，使用方便。使用方便。

【技术实现步骤摘要】
一种用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺


[0001]本专利技术涉及FMM蒸镀
，尤其是涉及一种用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺。

技术介绍

[0002]FMM 全称为Fine Metal Mask(精细金属掩模版)，其主材主要是金属或金属加树脂。其作用主要为蒸镀提供遮蔽效应,使材料能够在固定位置上进行沉积。
[0003]由于目前AMOLED面板量产的主流方法是真空蒸镀，而真空蒸镀必须用到FMM蒸镀技术，在干式制程中运用遮罩将RGB 三种光色分子分别附着于狭小的区域中。应用于大尺寸面板时，大尺寸Mask在蒸镀制程中易产生变形与材料过度使用等弊病，维持平坦的表面是制程相对较难的精密金属遮罩的关键技术。
[0004]利用Invar材料（为一种镍铁合金），其特有的低热膨胀系数（CTE）与高模量且极薄及超平整度等特性来制作FMM，可有效解决FMM 在大型面板因加工中产生的热，造成金属面罩弯曲及孔位对位不正等问题。
[0005]Invar材料制成的Mask可以通过施加磁场的方式以抵抗重力导致的下垂作用，但是仍然存在如下不足的地方: 1、因为是金属材质，密度较大重力下垂的问题，导致在大面积加工时候无法被使用，必须施加强磁场来加以矫正；2、金属加工的极限，金属薄膜目前只能做到20um，这个厚度导致的遮蔽效应无法使解析度进一步提升。
[0006]针对以上问题，日本有厂商设计了一种复合mask，专利号：US 9,527,098,B2，采用树脂为基础制作一张Mask，然后在其上镀上一层具有磁性物质，再将该层磁性物质同样制作成Mask，然后这两张Mask复合起来，就形成了一张复合Mask，这种Mask具有两个优势：一是树脂密度远小于invar材料因此可以密度可以很低；二是聚酰亚胺可以通过涂布工艺进行因此可以做的很薄膜<10um。因此可以用于加工更高解析度Mask。
[0007]此种方法虽然解决了invar mask的不足，但是仍有不足不足之处：1、生产工艺复杂，需要进行2次曝光(树脂与磁性金属膜层)。金属膜层必须通过一层镀膜工艺沉积在树脂上。
[0008]2、厚度尚不是最薄。

技术实现思路

[0009]有鉴于此，有必要提供一种生产工艺简单，厚度较薄的用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺。
[0010]为了解决上述技术问题，本专利技术的技术方案一是：一种用于高解解析度的精细金属掩模版，该精细金属掩模版由聚酰亚胺原液与具有磁性的粉体混合而成。
[0011]进一步的，还包括光引发剂。
[0012]为了解决上述技术问题，本专利技术的技术方案二是：一种用于高解解析度的精细金属掩模版的制作工艺，按以下步骤进行：
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S1、将聚酰亚胺原液与具有磁性的粉体进行混合得到具有磁性的混合体； S2、采用涂布工艺将混合体涂布成厚度均匀的薄膜； S3、对薄膜进行加工使薄膜上形成图案； S4、激光剥离形成需要的带有磁性的掩模版。
[0013]进一步的，S2中，薄膜的厚度<10um。
[0014]进一步的，步骤S1中，在混合体内加入光引发剂。
[0015]进一步的，步骤S3中，通过曝光显影工艺使薄膜上形成图案。
[0016]进一步的，步骤S3中，对薄膜进行加工前应对薄膜进行烘干干燥。
[0017]进一步的，步骤S3中，通过激光直写方式使薄膜上形成图案。与现有技术相比，本专利技术具有以下有益效果：1、生产工艺简单，只有一层，只需要进行一次曝光即可。
[0018]2、厚度可以做到更薄，从而具有更轻的重量，进一步使得制备大尺寸的掩膜版时，因自重产生的形变更小。
[0019]为让本专利技术的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，作详细说明。
具体实施方式
[0020]为更进一步阐述本专利技术为实现预定专利技术目的所采取的技术手段及功效，以下结合较佳实施例，对依据本专利技术的具体实施方式、结构、特征及其功效作详细说明。
[0021]实施例一一种用于高解解析度的精细金属掩模版，该精细金属掩模版由聚酰亚胺原液与具有磁性的粉体混合而成。
[0022]后期如果需要使用曝光工艺进行加工处理时，还包括光引发剂，使材料能够进行曝光工艺处理。
[0023]实施例二一种用于高解解析度的精细金属掩模版的制作工艺，按以下步骤进行： S1、将聚酰亚胺原液与具有磁性的粉体进行混合得到具有磁性的混合体，同时往混合体内加入光引发剂； S2、采用涂布工艺将混合体涂布成厚度均匀的薄膜，薄膜的厚度<10um； S3、通过曝光显影工艺使薄膜上形成图案； S4、激光剥离形成需要的带有磁性的掩模版。
[0024]实施例三一种用于高解解析度的精细金属掩模版的制作工艺，按以下步骤进行： S1、将聚酰亚胺原液与具有磁性的粉体进行混合得到具有磁性的混合体； S2、采用涂布工艺将混合体涂布成厚度均匀的薄膜，薄膜的厚度<10um； S3、烘干干燥；S4、通过激光直写方式使薄膜上形成图案； S5、激光剥离形成需要的带有磁性的掩模版。
[0025]以上所述，仅是本专利技术的较佳实施例而已，并非对本专利技术作任何形式上的限制，虽
然本专利技术已以较佳实施例揭示如上，然而并非用以限定本专利技术，任何本领域技术人员，在不脱离本专利技术技术方案范围内，当可利用上述揭示的
技术实现思路
做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本专利技术技术方案内容，依据本专利技术的技术实质对以上实施例所作的任何简介修改、等同变化与修饰，均仍属于本专利技术技术方案的范围内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于高解解析度的精细金属掩模版，其特征在于：该精细金属掩模版由聚酰亚胺原液与具有磁性的粉体混合而成。2.根据权利要求1所述的用于高解解析度的精细金属掩模版，其特征在于：还包括光引发剂。3.一种用于高解解析度的精细金属掩模版的制作工艺，其特征在于，按以下步骤进行：S1、将聚酰亚胺原液与具有磁性的粉体进行混合得到具有磁性的混合体；S2、采用涂布工艺将混合体涂布成厚度均匀的薄膜；S3、对薄膜进行加工使薄膜上形成图案； S4、激光剥离形成需要的带有磁性的掩模版。4.根据权利要求1所述的用于高解解析度的精细金属掩模版的制作工艺，其特征在于：步骤S2...

【专利技术属性】
技术研发人员：张耀辉，宗璐，
申请(专利权)人：合肥联顿恪智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：