一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，在进行面板加工时，首先取面板基板，依次通过除油剂、去离子水超声清洗，以去除其表面含有的油污、杂质，避免后续涂层涂覆效果；接着本申请在面板基板表面涂覆UV光固化底漆和仿金属阳极氧化漆，以形成底漆层和面漆层，底漆、面漆的选择均为现有市面上购买的涂料，实际操作时可根据实际需求进行选择。本发明专利技术公开了一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，工艺设计合理，操作简单，制备得到面板基板表面经镭雕加工后，图案颜色清晰，图案形状准确，且面板基板表面涂覆有抗菌光油，具有优异的抗菌性能，实用性较高。性较高。

【技术实现步骤摘要】
一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺


[0001]本专利技术涉及镭雕工艺
，具体为一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺。

技术介绍

[0002]镭雕一般指激光雕刻。激光雕刻加工是利用数控技术为基础，激光为加工媒介。加工材料在激光雕刻照射下瞬间的熔化和气化的物理变性，能使激光雕刻达到加工的目的。激光镌刻就是运用激光技术在物件上面刻写文字，这种技术刻出来的字没有刻痕，物体表面依然光滑，字迹亦不会磨损。
[0003]在汽车仪表盘面板加工过程中，一般需要采用镭雕工艺进行图案雕刻，但现有的镭雕工艺加工时，图案边缘会因为激光雕刻而产生焦化，从而使图案模糊不清晰，在实际应用中带来不便。
[0004]针对该情况，我们公开了一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，以解决该技术问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为了解决上述技术问题，本专利技术提供如下技术方案：
[0007]一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，包括以下步骤：
[0008](1)取面板基板，置于除油剂中超声清洗，去离子水超声清洗，真空干燥，备用；
[0009](2)取步骤(1)清洗后的面板基板，在面板基板上表面涂覆UV光固化底漆，固化后形成底漆层；在底漆层上表面涂覆仿金属阳极氧化漆，烘烤形成面漆层；
[0010](3)取步骤(2)处理后的面板基板，表面涂覆二氧化硅，烘烤后形成二氧化硅层；
[0011]将面板基板转移至镭雕工作台上，根据预设的图案对二氧化硅层进行一次镭雕雕刻，雕刻完成后除去表面残渣，再根据预设的图案对面漆层进行二次镭雕雕刻，清洗后干燥；
[0012](4)取步骤(3)处理后的面板基板，通过氢氟酸溶液腐蚀去除二氧化硅层，去离子水清洗，真空干燥；
[0013](5)取多巴胺和聚乙烯亚胺，Tris缓冲液溶解，搅拌均匀，得到沉积液；将步骤(4)处理后的面板基板置于沉积液中，25
‑
28℃下振荡沉积，去离子水洗涤，真空干燥；
[0014](6)取步骤(5)处理后的面板基板，表面涂覆光油涂料，烘烤干燥，得到成品。
[0015]较优化的方案，包括以下步骤：
[0016](1)取面板基板，置于除油剂中超声清洗10
‑
15min，去离子水超声清洗15
‑
20min，真空干燥，备用；
[0017](2)取步骤(1)清洗后的面板基板，在面板基板上表面涂覆UV光固化底漆，固化后形成底漆层；在底漆层上表面涂覆仿金属阳极氧化漆，置于75
‑
80℃下烘烤15
‑
20min，形成面漆层；
[0018](3)取步骤(2)处理后的面板基板，表面涂覆二氧化硅，烘烤后形成二氧化硅层；
[0019]将面板基板转移至镭雕工作台上，根据预设的图案对二氧化硅层进行一次镭雕雕刻，雕刻完成后除去表面残渣，再根据预设的图案对面漆层进行二次镭雕雕刻，清洗后干燥；
[0020](4)取步骤(3)处理后的面板基板，通过氢氟酸溶液腐蚀去除二氧化硅层，腐蚀清洗时间为1
‑
1.5min，去离子水清洗，真空干燥；
[0021](5)取多巴胺和聚乙烯亚胺，Tris缓冲液溶解，搅拌均匀，得到沉积液；将步骤(4)处理后的面板基板置于沉积液中，25
‑
28℃下振荡沉积3
‑
5h，去离子水洗涤，70
‑
80℃下真空干燥；
[0022](6)取步骤(5)处理后的面板基板，表面涂覆光油涂料，烘烤干燥，得到成品。
[0023]较优化的方案，步骤(3)中，二氧化硅涂覆厚度为15
‑
20um。
[0024]较优化的方案，步骤(3)中，一次镭雕雕刻和二次镭雕雕刻的镭雕功率均为100
‑
120W。
[0025]较优化的方案，步骤(2)中，所述底漆层的厚度为12
‑
15um，所述面漆层的厚度为20
‑
25um。
[0026]较优化的方案，步骤(6)中，所述光油涂料的涂覆厚度为18
‑
24um。
[0027]较优化的方案，步骤(6)中，光油涂料的制备方法为：
[0028]A：取乳化剂和去离子水，35
‑
40℃下搅拌20
‑
25min，加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯，搅拌10
‑
15min，升温至70
‑
80℃，加入1/2量的过硫酸钾，保温反应20
‑
30min，再加入1/2量的丙烯酸羟乙酯、1/2量的丙烯酸、1/2量的丙烯酸丁酯、1/2量的甲基丙烯酸甲酯、抗菌单体和1/2量的过硫酸钾，90℃保温反应30
‑
40min，得到改性丙烯酸酯乳液；
[0029]B：取改性丙烯酸酯乳液，调节pH至8
‑
9，搅拌均匀后加入乙醇、成膜助剂、流平剂、消泡剂，搅拌30
‑
40min，得到光油涂料。
[0030]较优化的方案，抗菌单体的制备方法为：取2
‑
羟甲基吡啶和1
‑
溴葵烷，以1,4
‑
二氧六环为溶剂，90
‑
100℃下搅拌反应40
‑
48h，去除溶剂，洗涤抽滤，真空干燥，得到物料A；
[0031]取对苯二酚、二月桂酸二丁基锡、无水二氯甲烷和物料A，混合搅拌均匀，加热升温至40
‑
42℃，加入甲基丙烯酸
‑2‑
异氰酸基乙酯，搅拌反应至
‑
NCO达到理论值，结束反应，得到抗菌单体。
[0032]较优化的方案，步骤B中，各组分以重量计为：改性丙烯酸酯乳液30
‑
50份、流平剂3
‑
8份、消泡剂3
‑
7份、乙醇2
‑
10份，成膜助剂2
‑
10份。
[0033]较优化的方案，改性丙烯酸酯乳液制备时，所述抗菌单体用量为丙烯酸酯总重量的4％
‑
6％。
[0034]与现有技术相比，本专利技术所达到的有益效果是：
[0035]本专利技术公开了一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，在进行面板加工时，首先取面板基板，依次通过除油剂、去离子水超声清洗，以去除其表面含有的油污、杂质，避免后续涂层涂覆效果；接着本申请在面板基板表面涂覆UV光固化底漆和仿金属阳极氧化漆，以形成底漆层和面漆层，底漆、面漆的选择均为现有市面上购买的涂料，实际操作时可根据实际需求进行选择。
[0036]接着本申请在面板基板表面进行镭雕，镭雕是利用数控技术为基础，激光为加工媒介，加工材料在激光雕刻照射下瞬间的熔化和气化的物理变性，能使激本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，其特征在于：包括以下步骤：(1)取面板基板，置于除油剂中超声清洗，去离子水超声清洗，真空干燥，备用；(2)取步骤(1)清洗后的面板基板，在面板基板上表面涂覆UV光固化底漆，固化后形成底漆层；在底漆层上表面涂覆仿金属阳极氧化漆，烘烤形成面漆层；(3)取步骤(2)处理后的面板基板，表面涂覆二氧化硅，烘烤后形成二氧化硅层；将面板基板转移至镭雕工作台上，根据预设的图案对二氧化硅层进行一次镭雕雕刻，雕刻完成后除去表面残渣，再根据预设的图案对面漆层进行二次镭雕雕刻，清洗后干燥；(4)取步骤(3)处理后的面板基板，通过氢氟酸溶液腐蚀去除二氧化硅层，去离子水清洗，真空干燥；(5)取多巴胺和聚乙烯亚胺，Tris缓冲液溶解，搅拌均匀，得到沉积液；将步骤(4)处理后的面板基板置于沉积液中，25
‑
28℃下振荡沉积，去离子水洗涤，真空干燥；(6)取步骤(5)处理后的面板基板，表面涂覆光油涂料，烘烤干燥，得到成品。2.根据权利要求1所述的一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，其特征在于：包括以下步骤：(1)取面板基板，置于除油剂中超声清洗10
‑
15min，去离子水超声清洗15
‑
20min，真空干燥，备用；(2)取步骤(1)清洗后的面板基板，在面板基板上表面涂覆UV光固化底漆，固化后形成底漆层；在底漆层上表面涂覆仿金属阳极氧化漆，置于75
‑
80℃下烘烤15
‑
20min，形成面漆层；(3)取步骤(2)处理后的面板基板，表面涂覆二氧化硅，烘烤后形成二氧化硅层；将面板基板转移至镭雕工作台上，根据预设的图案对二氧化硅层进行一次镭雕雕刻，雕刻完成后除去表面残渣，再根据预设的图案对面漆层进行二次镭雕雕刻，清洗后干燥；(4)取步骤(3)处理后的面板基板，通过氢氟酸溶液腐蚀去除二氧化硅层，腐蚀清洗时间为1
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1.5min，去离子水清洗，真空干燥；(5)取多巴胺和聚乙烯亚胺，Tris缓冲液溶解，搅拌均匀，得到沉积液；将步骤(4)处理后的面板基板置于沉积液中，25
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28℃下振荡沉积3
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5h，去离子水洗涤，70
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80℃下真空干燥；(6)取步骤(5)处理后的面板基板，表面涂覆光油涂料，烘烤干燥，得到成品。3.根据权利要求2所述的一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，其特征在于：步骤(3)中，二氧化硅涂覆厚度为15
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20um。4.根据权利要求2所述的一种仪表板面板用镭雕喷涂工艺，其特征在于：步骤(3)中，一次镭雕雕刻和二次镭雕雕刻的镭雕功率均为100
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120W。5.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：包红梅，纪红平，纪苏宸，
申请(专利权)人：常州市长城工艺厂有限公司，
类型：发明
国别省市：