一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂制造技术

本发明专利技术提供一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂。本发明专利技术属于研磨液清洗技术领域，涉及一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂。该清洗剂包括如下质量百分比的组分有机酸3～15％，表面活性剂15～30％，润湿剂1～20％，缓蚀剂1～13％，助剂10～30％。相对于现有技术，本发明专利技术采用的有机酸和缓蚀剂，对6系铝材抛光后的高光面几乎无腐蚀，可最大化还原抛光后的高光表面基材，由于润湿剂和复合表面活性剂的使用，使清洗后的基材表面亲水性增强，易于漂洗，且烘干后表面无残留，配合超声波清洗工艺能够简单高效地去除6系铝材表面残留的二氧化硅研磨液成分。的二氧化硅研磨液成分。

【技术实现步骤摘要】
一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂


[0001]本专利技术属于研磨液清洗
，涉及一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂。

技术介绍

[0002]随着电子消费品的不断更新迭代，对于智能手表、手机和平板电脑等电子产品的金属外壳材质要求也越来越高，6系铝合金工艺性能好，机械加工方便，强度高且密度小质量轻，非常适合电子消费品保护壳和元器件外壳。对于6系铝表面的精加工，经常需要用二氧化硅、氧化铝、金刚石类研磨液进行表面抛光，其中二氧化硅抛光液由于粒径小，稳定性高，抛光面均匀光亮，被广泛用于金属表面精细抛光。但二氧化硅抛光液失水后易交联凝胶，导致经二氧化硅抛光液抛光后的6系铝合金表面易残留一层氧化硅膜，如不进行及时清洗，影响后续铝合金表面处理工艺如阳极氧化。
[0003]现有的铝合金表面二氧化硅研磨液清洗方式主要采用二氧化硅抛光液清洗剂配合超声波清洗工艺进行清洗。现有的清洗剂按酸碱性一般分为弱酸、强酸、碱性，若采用弱酸性清洗剂进行清洗，会存在清洗力不足的问题，无法洗净表面残留的纳米级二氧化硅研磨液，因清洗槽液温度过高，有效组分化学键断裂分解导致6系铝合金清洗烘干后表面有水渍或清洗剂残留；若采用碱性清洗剂进行清洗，则会对6系铝合金表面产生腐蚀，若采用强酸性清洗液，则会导致6系铝合金清洗烘干后点蚀或产生花斑。

技术实现思路

[0004]为了解决上述问题，本专利技术的首要目的在于提供一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂，该清洗剂具有优异的清洗效果。
[0005]本专利技术的另一个目的在于提供一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂，该清洗剂不会对铝合金的表面造成腐蚀，且清洗后易于漂移。
[0006]为了实现上述目的，本专利技术的技术方案如下：
[0007]本专利技术提供一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂，按重量百分比计，该清洗剂包括以下组分：
[0008]有机酸3～15％，
[0009]表面活性剂15～30％，
[0010]润湿剂1～20％，
[0011]缓蚀剂1～13％，
[0012]助剂10～30％，
[0013]余量的水。
[0014]进一步地，所述有机酸为柠檬酸、草酸、甲基磺酸、植酸、酒石酸、富马酸、羟基乙叉二膦酸、乳酸和聚丙烯酸中的一种或多种的混合物。
[0015]进一步地，所述表面活性剂采用阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂复配而
成。所述阴离子表面活性剂包括有烷基醚羧酸盐、烷基苯磺酸盐、烷基磺酸盐、烷基硫酸盐。所述非离子表面活性剂包括有聚氧乙烯失水山梨糖醇脂肪酸酯、脂肪胺聚氧乙烯化合物、烷基糖苷和脂肪醇聚氧乙烯醚。
[0016]进一步地，所述润湿剂为二丙二醇甲醚、二丙二醇丁醚、二乙二醇丁醚、苯甲醇、丙二醇苯醚、碳酸丙烯酯、甘油和聚乙二醇中的一种或多种的混合物。
[0017]进一步地，所述缓蚀剂为钨酸钠、钼酸钠、苯骈三氮唑，甲基苯骈三氮唑、硫代尿素、六亚甲基四胺、油酸咪唑啉中的一种或多种的混合物。
[0018]进一步地，所述助剂为柠檬酸钠、葡萄糖酸钠、三聚磷酸钠、马来酸酐
‑
丙烯酸共聚物、植酸钠、乙二胺四乙酸二钠、羟基乙叉二膦酸二钠、2
‑
磷酸基
‑
1，2，4
‑
三羧酸丁烷、二乙烯三胺五甲叉膦酸纳、次氮基三亚甲基三膦酸纳中的一种或多种的混合物。
[0019]进一步地，本专利技术的制备方法为：先向搅拌设备中加入水，开启搅拌，依次加入助剂、缓蚀剂、润湿剂、有机酸，最后加入表面活性剂；每次加入新料，确保前一批加入的料与水混合均匀，且已完全溶于水中，粉体原料分批缓慢加入到搅拌设备中；搅拌温度在25
‑
35℃，搅拌速度70
‑
100rpm。搅拌时长以前一批次加入料完全溶解在水中为准。
[0020]进一步地，本专利技术的作用机理为：在本专利技术中，表面活性剂采用阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂复配而成，其中，阴离子表面活性剂主要为烷基磺酸根离子与烷基硫酸根离子均为亲水基团，可以与铝合金表面铝元素发生物理吸附作用，逐渐渗透到金属表面二氧化硅膜或污渍夹层中，减弱了二氧化硅分子膜与铝金属表面的物理吸附作用力；小分子润湿剂如醚类和醇类可加快表面活性剂和水的渗透能力，辅助超声波清洗工艺，能够产生强烈的水波震动空化作用，增强了清洗剂对二氧化硅膜的分散作用；助剂如羟基乙叉二膦酸和马来酸酐
‑
丙烯酸共聚物等，分子中具有强力的螯合分散能力，可有效吸附二氧化硅颗粒、钙镁离子和块状杂质，剥离6系铝合金表面的污渍如二氧化硅膜；表面活性剂与润湿剂、超声波工艺、助剂能够产生协同作用，对6系铝合金表面二氧化硅膜进行润湿、渗透、剥离和乳化作用。另外，在本专利技术中，6系铝合金除含有主要元素铝外，还含有少量镁和硅两种元素，铝属于特殊的两性金属，即可与酸反应也可以与碱反应，尤其在清洗液PH>7时6系铝合金易受腐蚀而表面发黑变色，所以宜用酸性清洗剂清洗6系铝合金表面污渍。选取有机弱酸如磺酸、植酸和羟基乙叉二膦酸等，即可保持清洗剂体系为酸性，弱的酸性电离氢离子能力又能最大程度减少对6系铝合金表面的腐蚀。缓蚀剂钨酸钠或钼酸钠，可在铝合金表面形成一层不溶于水的铝盐钝化膜，起到隔离酸碱等腐蚀性物质的作用，降低腐蚀率，而苯并三氮唑和六亚甲基四胺化合物中的氮元素，可与铝合金表面形成复杂的络合物，以化学吸附的形式覆盖在铝合金表面，隔绝酸碱腐蚀性物质。缓蚀剂配合有机弱酸的使用，有效的降低了酸性清洗剂体系对铝合金表面的腐蚀问题，可以达到令人满意的缓蚀效果。
[0021]本专利技术的有益效果在于：相对于现有技术，本专利技术采用的有机酸和缓蚀剂，对6系铝材抛光后的高光面几乎无腐蚀，可最大化还原抛光后的高光表面基材，由于润湿剂和复合表面活性剂的使用，使清洗后的基材表面亲水性增强，易于漂洗，且烘干后表面无残留，配合超声波清洗工艺能够简单高效地去除6系铝材表面残留的二氧化硅研磨液成分。
具体实施方式
[0022]为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本专利技术
进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。
[0023]为实现上述目的，本专利技术的技术方案如下：
[0024]实施例1
[0025]本实施例提供的一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂，主要由以下质量百分比的组分组成：
[0026][0027]在本实施例中，表面活性剂采用聚氧乙烯失水山梨糖醇脂肪酸酯、烷基磺酸盐的混合物，有机酸采用的甲基磺酸、羟基乙叉二膦酸的混合物，缓蚀剂采用六亚甲基四胺，润湿剂采用甘油，助剂采用羟基乙叉二膦酸二钠。
[0028]实施例2
[0029]本实施例提供的一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂，主要由以下质量百分比的组分组成：
[0030][0031]在本实施例中，表面活性剂采用聚氧乙烯失水山梨糖本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂，其特征在于，该清洗剂包括如下质量百分比的组分：有机酸3～15％，表面活性剂15～30％，润湿剂1～20％，缓蚀剂1～13％，助剂10～30％。2.如权利要求1所述的一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂，其特征在于，所述有机酸为柠檬酸、草酸、甲基磺酸、植酸、酒石酸、富马酸、羟基乙叉二膦酸、乳酸和聚丙烯酸中的一种或多种的混合物。3.如权利要求1所述的一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂，其特征在于，所述表面活性剂采用阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂复配而成。4.如权利要求3所述的一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂，其特征在于，所述阴离子表面活性剂包括有烷基醚羧酸盐、烷基苯磺酸盐、烷基磺酸盐、烷基硫酸盐。5.如权利要求3所述的一种除6系铝合金表面二氧化硅研磨液的清洗剂，其特征在于，所述非离子表面活性剂包括有聚氧乙烯失水山梨糖醇脂肪酸酯、脂肪胺聚氧乙烯化合物、烷基糖...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾鑫江，郭光明，
申请(专利权)人：深圳市恒纬祥科技有限公司，
类型：发明
国别省市：