一种用于硅片表面光刻胶保护的储存柜制造技术

本实用新型专利技术适用硅片表面光刻胶保护技术领域，提供了一种用于硅片表面光刻胶保护的储存柜，储存柜包括：柜体，柜体设有用于存放硅片的储存空间；与柜体活动连接的柜门，柜门用于密闭或打开储存空间；设于储存空间内的氮气管和氮气探测器，氮气管通过控制阀与氮气源连接；设于储存空间内的加热装置和温度探测器；设于储存空间内的加湿器和湿度探测器；以及控制器，控制器分别与控制阀、加热装置、温度探测器、加湿器及湿度探测器电连接。本实用新型专利技术提供的用于硅片表面光刻胶保护的储存柜可确保储存空间内氮气含量、温度及湿度保持恒定，使放置在储存空间内硅片的表面光刻胶长时间不易挥发，利于硅片表面光刻胶长时间储存。利于硅片表面光刻胶长时间储存。利于硅片表面光刻胶长时间储存。

【技术实现步骤摘要】
一种用于硅片表面光刻胶保护的储存柜


[0001]本技术涉及硅片表面光刻胶保护
，具体涉及一种用于硅片表面光刻胶保护的储存柜。

技术介绍

[0002]目前，国内外市场需求为国产半导体设备业提供了光明前景，一批极大规模集成电路制造设备和集成电路先进封装工艺制造设备接连开发成功，国产设备完成从无到有，从低端到高端的各种突破。其中，涂布光刻胶的硅片存储一直是个急需解决的问题，如果硅片仅仅长时间存放在硅片盒里，硅片表面光刻胶极易挥发而在后续使用时影响后期实验结果判断。
[0003]现有技术中，表面涂布光刻胶的硅片通常放置在无尘室外部环境进行储存，由于无尘室外部环境的空气含量、湿度以及温度无法达到硅片表面光刻胶的储存条件，硅片表面上的光刻胶容易挥发，保护效果差，不便硅片表面光刻胶的长时间储存。

技术实现思路

[0004]本技术提供一种用于硅片表面光刻胶保护的储存柜，旨在解决现有技术中存在硅片表面光刻胶易挥发，不易硅片表面光刻胶长时间储存的问题。
[0005]本技术是这样实现的，提供一种用于硅片表面光刻胶保护的储存柜，包括：
[0006]柜体，所述柜体设有用于存放硅片的储存空间；
[0007]与所述柜体活动连接的柜门，所述柜门用于密闭或打开所述储存空间；
[0008]设于所述储存空间内的氮气管和氮气探测器，所述氮气管通过控制阀与氮气源连接；
[0009]设于所述储存空间内的加热装置和温度探测器；
[0010]设于所述储存空间内的加湿器和湿度探测器；以及/>[0011]控制器，所述控制器分别与所述控制阀、所述加热装置、所述温度探测器、所述加湿器及所述湿度探测器电连接。
[0012]优选的，所述储存柜还包括：
[0013]设置于所述柜体或所述柜门并与所述控制器电连接的显示屏。
[0014]优选的，所述储存柜还包括：
[0015]设置于所述柜体或所述柜门并与所述控制器电连接的输入单元。
[0016]优选的，所述储存柜还包括设于所述柜体底部的多个活动轮。
[0017]优选的，所述柜门还设有与所述储存空间相对设置的透明观察区。
[0018]优选的，所述柜体还设有一容纳空间，所述氮气源为放置在所述容纳空间内的氮气瓶，所述氮气瓶通过管路与所述控制阀连接，所述控制阀通过管路与所述氮气管连接。
[0019]优选的，所述储存柜还包括：
[0020]固定于所述储存空间顶部的第一加固器件，所述氮气管的一端固定于所述第一加
固器件；
[0021]固定于所述储存空间底部的第二加固器件，所述氮气管的另一端固定于所述第二加固器件。
[0022]优选的，所述储存空间内的两侧分别设有一个所述氮气管。
[0023]优选的，所述储存柜还包括固定于每个所述氮气管的第三加固器件，两个所述氮气管上的所述第三加固器件通过加固横杆连接。
[0024]优选的，所述加热装置为加热棒，所述加热棒的一端固定于所述第一加固器件，另一端固定于所述第二加固器件。
[0025]本技术提供的用于硅片表面光刻胶保护的储存柜通过在柜体设置用于存放硅片的储存空间，并在储存空间内设置氮气管、氮气探测器、加热装置、温度探测器、加湿器以及湿度探测器，将表面涂布有光刻胶的硅片储存在储存空间内实现硅片的储存，利用氮气管、加热装置以及加湿器可以确保储存空间内的氮气含量、温度及湿度保持恒定，使储存在储存空间内的硅片表面的光刻胶不易挥发，硅片表面光刻胶保护效果好，便于硅片表面光刻胶的长时间储存。
附图说明
[0026]图1为本技术实施例提供的用于硅片表面光刻胶保护的储存柜的结构示意图；
[0027]图2为本技术实施例提供的用于硅片表面光刻胶保护的储存柜部分结构的结构框图。
具体实施方式
[0028]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0029]本技术实施例提供的用于硅片表面光刻胶保护的储存柜通过在柜体设置用于存放硅片的储存空间，并在储存空间内设置氮气管、氮气探测器、加热装置、温度探测器、加湿器以及湿度探测器，将表面涂布有光刻胶的硅片储存在储存空间内实现硅片的储存，利用氮气管、加热装置以及加湿器可以确保储存空间内的氮气含量、温度及湿度保持恒定，使储存在储存空间内的硅片表面的光刻胶不易挥发，硅片表面光刻胶保护效果好，便于硅片表面光刻胶的长时间储存。
[0030]请参照图1和图2，本技术实施例提供一种用于硅片表面光刻胶保护的储存柜，包括：
[0031]柜体1，柜体1设有用于存放硅片的储存空间10；
[0032]与柜体1活动连接的柜门2，柜门2用于密闭或打开储存空间10；
[0033]设于储存空间10内的氮气管3和氮气探测器4，氮气管3通过控制阀5与氮气源6连接；
[0034]设于储存空间10内的加热装置7和温度探测器8；
[0035]设于储存空间10内的加湿器9和湿度探测器11；以及
[0036]控制器12，控制器12分别与控制阀5、加热装置7、温度探测器8、加湿器9及湿度探测器11电连接。
[0037]本技术实施例中，柜体1的储存空间10用于放置表面涂布有光刻胶的硅片，硅片可以直接放置在柜体1的储存空间10内，也可以将硅片放置在硅片盒中，再将硅片盒放置在柜体1的储存空间10内。
[0038]本技术实施例中，柜门2与柜体1转动连接，柜门2可相对柜体1转动以打开储存空间10或密闭储存空间10。当硅片需要放置在柜体1的储存空间10内进行储存时，将柜门2打开，并将硅片放置在柜体1的储存空间10内，然后再将柜门2关闭，以使柜门2将储存空间10进行密闭，实现硅片的密封保存。
[0039]本技术实施例中，氮气管3用于向储存空间10内通入氮气以使储存空间10内的氮气含量维持恒定，氮气探测器4用于实时检测储存空间10内的氮气含量，控制阀5用于控制氮气管3向储存空间10内通入氮气或停止通入氮气。
[0040]当氮气探测器4检测到储存空间10内的氮气含量小于预设氮气含量值时，控制器12控制该控制阀5打开，以使氮气管3向储存空间10内通入氮气，直到氮气探测器4检测到储存空间10内的氮气含量达到预设氮气含量值时，控制器12控制该控制阀5关闭，以停止氮气管3向储存空间10内通入氮气，如此不断实时通过氮气探测器4检测储存空间10内的氮气含量，并通过控制器12控制该控制阀5的开启或关闭，使储存空间10内的氮气含量维持恒定。
[0041]作为本技术的一个实施例，柜体11还设有一容纳空间13，氮气源6为放置在容纳空间13内的氮气瓶，氮气瓶通过管路与控制阀5连接，控制阀5通过管路与氮气管3连接，便于氮气源的补给，且便于氮气源的更换。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于硅片表面光刻胶保护的储存柜，其特征在于，所述储存柜包括：柜体，所述柜体设有用于存放硅片的储存空间；与所述柜体活动连接的柜门，所述柜门用于密闭或打开所述储存空间；设于所述储存空间内的氮气管和氮气探测器，所述氮气管通过控制阀与氮气源连接；设于所述储存空间内的加热装置和温度探测器；设于所述储存空间内的加湿器和湿度探测器；以及控制器，所述控制器分别与所述控制阀、所述加热装置、所述温度探测器、所述加湿器及所述湿度探测器电连接。2.根据权利要求1所述的用于硅片表面光刻胶保护的储存柜，其特征在于，所述储存柜还包括：设置于所述柜体或所述柜门并与所述控制器电连接的显示屏。3.根据权利要求1所述的用于硅片表面光刻胶保护的储存柜，其特征在于，所述储存柜还包括：设置于所述柜体或所述柜门并与所述控制器电连接的输入单元。4.根据权利要求1所述的用于硅片表面光刻胶保护的储存柜，其特征在于，所述储存柜还包括设于所述柜体底部的多个活动轮。5.根据权利要求1所述的用于硅片表面光刻胶保护的储存柜，其特征在于，所述柜门还设有与所述储存空间相对设置的透明观察区。6...

【专利技术属性】
技术研发人员：何学涛，顾大公，岳力挽，阴奔野，郑广磊，马潇，毛智彪，许从应，
申请(专利权)人：宁波南大光电材料有限公司，
类型：新型
国别省市：