【技术实现步骤摘要】
高纵横比金属化盲孔或盲槽、制作方法、电路板、客户端
[0001]本专利技术属于印制电路板(PCB)制造
,尤其涉及一种PCB孔内沉镍金的高纵横比金属化盲孔或盲槽、及其制作方法、电路板、客户端。
技术介绍
[0002]目前,PCB孔内沉镍金的金属化盲孔或盲槽的制作工艺方法如下:
[0003]1、通过调整钻机或锣机参数,在覆铜板上控制钻孔深度(H)或锣槽深度(H)到既定值,但又不钻穿或锣穿覆铜板,此过程统称为控深钻盲孔或控深锣盲槽。
[0004]2、控深钻盲孔或控深锣盲槽后在铜箔表面和盲孔或盲槽孔壁通过电化学原理镀覆上一层铜(镀覆铜),以实现盲孔或盲槽和铜箔面导通,此过程统称为填孔电镀(亦称盲孔或槽孔孔壁金属化)。
[0005]3、填孔电镀后在覆铜板表面贴感光干膜(金属化盲孔或槽孔同时也盖膜处理),此过程统称为贴膜。
[0006]4、贴膜后按PCB设计的“需要的”线路图形给予一定的能量与波长的光使感光干膜局部产生光聚合交联反应,反应后的干膜具有抗弱碱性,此过程统称为曝光。
[0007]5、曝光后使用特定弱碱性溶液使未产生光聚合交联反应的干膜反应溶解掉,露出铜箔面,此过程统称为显影。
[0008]6、显影后将露出的铜泊层利用特定化学药水蚀刻溶解掉(产生光聚合交联反应的干膜不与特定化学药水反应),露出介质层表面,此过程统称为蚀刻。
[0009]7、蚀刻后使用特定强碱性溶液将产生光聚合交联反应的干膜反应溶解掉,此过程统称为褪膜,从而形成PCB所需要的线路图形。 />[0010]8、褪膜后使用感光油墨将不需要沉金的线路图形和介质层表面覆盖住,油墨同样起到保护线路和防止焊接短路的作用,此过程统称为阻焊。
[0011]9、阻焊后利用电化学原理在金属化盲孔或孔壁沉上一层镍金,此过程统称为沉镍金,从而形成孔内沉镍金的金属化盲孔或盲槽。
[0012]通过上述分析,现有技术存在的问题及缺陷为:
[0013](1)受填孔电镀能力的限制,当盲孔或盲槽最大纵横比(最大纵横比=最大孔深/最小孔径或最大槽深/最小槽宽)>1:1时,盲孔或盲槽内的电镀药水交换速率极低,盲孔孔壁或槽孔孔壁无法正常镀上一层铜,所以无法制作高纵横比(>1:1)的金属化盲孔或盲槽。
[0014](2)现有技术需用感光干膜封住金属化盲孔孔口或金属化盲槽槽口,以避免蚀刻药水将孔内或槽内铜蚀刻掉,因此受感光干膜封孔能力限制,无法制作大孔径金属化盲孔或盲槽。
[0015](3)受沉镍金深镀能力的限制,当盲孔或盲槽最大纵横比(最大纵横比=最大孔深/最小孔径或最大槽深/最小槽宽)>0.85:1时,盲孔或盲槽内的沉镍金药水交换速率极低,金属化盲孔孔壁或槽孔孔壁无法正常沉上一层镍金,所以无法制作孔内或槽内沉镍金的高纵横比(>0.85:1)的金属化盲孔或盲槽。
[0016]解决以上问题及缺陷的难度为:
[0017]受设备能力和物料的限制,行业内现无成熟且可靠的制作孔内或槽内沉镍金的高纵横比(>0.85:1)的金属化盲孔或盲槽的工艺方法。
[0018]解决以上问题及缺陷的意义为:可提高印制电路板布线密度,尤其在厚铜电源板的盲性插件孔应用方面。
技术实现思路
[0019]为克服相关技术中存在的问题,本专利技术公开实施例提供了一种PCB孔内沉镍金的高纵横比金属化盲孔或盲槽制作方法。具体涉及一种PCB孔内或槽内沉镍金的高纵横比金属化盲孔或盲槽制作工艺方法。本专利技术目的在于制作最大纵横比>1:1的金属化盲孔或盲槽;制作超出感光干膜封孔能力的大孔径金属化盲孔或盲槽,以及制作孔内或槽内沉镍金的最大纵横比>1:1的金属化盲孔或盲槽。
[0020]所述技术方案如下:根据本专利技术公开实施例的第一方面,提供一种PCB孔内沉镍金的高纵横比金属化盲孔或盲槽制作方法,包括:
[0021]在金属化盲孔或盲槽制作中增加透气孔;
[0022]用锡代替感光干膜,对制作的所述金属化盲孔或盲槽进行保护;
[0023]在沉镍金前利用激光烧掉所述金属化盲孔或盲槽内阻焊感光油墨;
[0024]沉镍金后采用字符塞孔或阻焊塞孔方式,将所述透气孔用油墨塞住,进行内孔内或槽内沉镍金的金属化盲孔或盲槽的制作。
[0025]在本专利技术一实施例中,所述沉镍金后采用字符塞孔或阻焊塞孔方式,将盲孔或盲槽透气孔用油墨塞住中,0.3mm≤盲孔或盲槽透气孔≤0.5mm,盲孔或盲槽透气孔的最大纵横比≤8:1。
[0026]在本专利技术一实施例中,1:1<盲孔或盲槽最大纵横比≤10:1。
[0027]在本专利技术一实施例中,所述PCB孔内沉镍金的高纵横比金属化盲孔或盲槽制作方法具体包括以下步骤:
[0028]步骤一、在覆铜板上钻盲孔或盲槽透气孔;
[0029]步骤二、通过调整钻机或锣机参数,在覆铜板上控制钻孔深度(H)或锣槽深度(H)到既定值,所述既定值为1.4
±
0.1mm;
[0030]步骤三、控深钻盲孔或控深锣盲槽后在铜箔表面和盲孔或盲槽孔壁通过电化学原理镀覆上一层铜(如≥30um),实现盲孔或盲槽和铜箔面导通;
[0031]步骤四、填孔电镀后在覆铜板表面贴感光干膜,所述感光干膜为FL138干膜;
[0032]步骤五、贴膜后按PCB设计的不需要的线路图形给予一定的能量与波长的光使感光干膜局部产生光聚合交联反应,所述光聚合交联反应为:光引发剂在光照作用下产生反应活性种,然后引发多官能度的低聚物和/或活性稀释剂进行链式聚合反应,快速形成高度交联的聚合物网络;
[0033]步骤六、曝光后使用特定弱碱性溶液(如0.9%
‑
1.1%碳酸钠溶液)使未产生光聚合交联反应的干膜反应溶解掉,露出铜箔面;
[0034]步骤七、显影后在露出的铜箔面上利用电化学原理先加镀上一层铜(如8
‑
12um),然后镀上一层锡(如3
‑
8um)用于保护铜;
[0035]步骤八、镀铜锡后使用特定强碱性溶液(如3%
‑
6%的氢氧化钠溶液)将产生光聚合交联反应的干膜反应溶解掉,露出铜箔面;
[0036]步骤九、褪膜后将露出的铜泊层利用特定化学药水(如铜离子浓度120
‑
160g/L,氯离子浓度165
‑
200g/L,比重1.17
‑
1.2,PH值8
‑
9)蚀刻溶解掉,露出介质层表面;
[0037]步骤十、蚀刻后将锡层利用特定化学药水(如酸当量≥3.5N,比重1.2
‑
1.5)反应溶解掉,从而形成PCB所需要的线路图形;
[0038]步骤十一、褪锡后使用感光油墨将不需要沉金的线路图形和介质层表面覆盖住;
[0039]步骤十二、阻焊后利用电化学原理在金属化盲孔或孔壁沉上一层镍金(如3um≤镍厚≤6um,0.0254um≤金厚≤0.0508um),形成孔内沉镍金的金属化盲本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种PCB孔内沉镍金的高纵横比金属化盲孔或盲槽制作方法,其特征在于,所述PCB孔内沉镍金的高纵横比金属化盲孔或盲槽制作方法包括:在金属化盲孔或盲槽制作中增加透气孔;用锡代替感光干膜,对制作的所述金属化盲孔或盲槽进行保护;在沉镍金前利用激光烧掉所述金属化盲孔或盲槽内阻焊感光油墨;沉镍金后采用字符塞孔或阻焊塞孔方式,将所述透气孔用油墨塞住,进行内孔内或槽内沉镍金的金属化盲孔或盲槽的制作。2.根据权利要求1所述的PCB孔内沉镍金的高纵横比金属化盲孔或盲槽制作方法,其特征在于,0.3mm≤盲孔或盲槽透气孔≤0.5mm,盲孔或盲槽透气孔的最大纵横比≤8:1。3.根据权利要求1所述的PCB孔内沉镍金的高纵横比金属化盲孔或盲槽制作方法,其特征在于,1:1<盲孔或盲槽最大纵横比≤10:1。4.根据权利要求1所述的PCB孔内沉镍金的高纵横比金属化盲孔或盲槽制作方法,其特征在于,所述PCB孔内沉镍金的高纵横比金属化盲孔或盲槽制作方法具体包括以下步骤:步骤一、在覆铜板上钻盲孔或盲槽透气孔;步骤二、通过调整钻机或锣机参数,在覆铜板上控制钻孔深度(H)或锣槽深度(H)到既定值;步骤三、控深钻盲孔或控深锣盲槽后在铜箔表面和盲孔或盲槽孔壁通过电化学原理镀覆上一层铜,实现盲孔或盲槽和铜箔面导通;步骤四、填孔电镀后在覆铜板表面贴感光干膜;步骤五、贴膜后按PCB设计的不需要的线路图形给予一定的能量与波长的光使感光干膜局部产生光聚合交联反应;步骤六、曝光后使用特定弱碱性溶液使未产生光聚合交联反应的干膜反应溶解掉,露出铜箔面;步骤七、显影后在露出的铜箔面上利用电化学原理先加镀上一层铜,然后镀上一层锡用于保护铜;步骤八、镀铜锡后使用特定强碱性溶液将产生光聚合交联反应的干膜反应溶解掉,露出铜箔面;步骤九、褪膜后将露出的铜泊层利用特定化学药水蚀刻溶解掉,露出介质层表面;步骤十、蚀刻后将锡层利用特定化学药水反应溶解掉,从而形成PCB所需要的线路图形;步骤十一、褪锡后使用感光油墨将不需要沉金的线路图形和介质层表面覆盖住;步骤十二、阻焊后利用电化学原理在金属...
【专利技术属性】
技术研发人员:李旋,周建军,王运玖,安国义,
申请(专利权)人:珠海市深联电路有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。