一种研磨衬垫制造技术

本实用新型专利技术公开了一种研磨衬垫，包括衬垫主体，所述衬垫主体上设置有多个凹槽，且所述凹槽包括第一凹槽和第二凹槽，所述第一凹槽和所述第二凹槽沿所述衬垫主体的圆周方向依次间隔设置。本实用新型专利技术的目的在于提供一种研磨衬垫，在研磨衬垫上增设凹槽后，研磨液可流入镜片与研磨衬垫之间，达到更优的研磨效果。达到更优的研磨效果。达到更优的研磨效果。

【技术实现步骤摘要】
一种研磨衬垫


[0001]本技术涉及镜片研磨
，尤其涉及一种研磨衬垫。

技术介绍

[0002]镜片的研磨过程为：镜片放置在研磨衬垫上，研磨顶杆顶住镜片，研磨衬垫在器皿上做旋转运动来完成镜片研磨。
[0003]现有的研磨衬垫如图1所示，当研磨衬垫与镜片接触时，顶杆有压力，研磨液无法在研磨过程中流入研磨衬垫与镜片之间，导致研磨衬垫与镜片之间缺乏润滑作用，因此导致研磨效率降低。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种研磨衬垫，在研磨衬垫上增设凹槽后，研磨液可流入镜片与研磨衬垫之间，达到更优的研磨效果。
[0005]本技术通过下述技术方案实现：
[0006]一种研磨衬垫，包括衬垫主体，所述衬垫主体上设置有多个凹槽。
[0007]优选地，所述凹槽包括第一凹槽和第二凹槽，所述第一凹槽和所述第二凹槽沿所述衬垫主体的圆周方向依次间隔设置。
[0008]优选地，所述第一凹槽为扇形。
[0009]优选地，所述第一凹槽的顶点与所述衬垫主体的圆心距离为15mm。
[0010]优选地，所述第一凹槽的最大间距为10mm。
[0011]优选地，所述第二凹槽为长方形。
[0012]优选地，所述第二凹槽的宽度为1mm。
[0013]优选地，所述第二凹槽的长度与所述衬垫主体的直径相同。
[0014]本技术与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：
[0015]1、可以使镜片与研磨衬垫之间流入研磨液，起到一定润滑作用，防止镜片被研磨过度；
[0016]2、研磨液充分流入到镜片和研磨衬垫之间，进而能更快的达到研磨所需效果。
附图说明
[0017]此处所说明的附图用来提供对本技术实施例的进一步理解，构成本申请的一部分，并不构成对本技术实施例的限定。在附图中：
[0018]图1为现有技术研磨衬垫的结构示意图；
[0019]图2为本技术研磨衬垫的结构示意图；
[0020]附图中标记及对应的零部件名称：
[0021]1、衬垫主体；2、第一凹槽；3、第二凹槽。
具体实施方式
[0022]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，对本技术作进一步的详细说明，本技术的示意性实施方式及其说明仅用于解释本技术，并不作为对本技术的限定。
[0023]实施例
[0024]一种研磨衬垫，包括圆形的衬垫主体1，且衬垫主体1上设置有多个凹槽。
[0025]现有技术中的研磨衬垫如图1所示，在镜片研磨过程中，由于顶杆有压力，研磨液无法在研磨过程中流入研磨衬垫与镜片之间，导致研磨衬垫与镜片之间缺乏润滑作用，因此容易导致研磨效率降低。基于此，在本实施例中，在衬垫主体1上设置多个凹槽，当开始对镜片进行研磨时，研磨液设置在凹槽中，研磨过程中，由于离心力的作用，研磨液顺着凹槽向外流动，因此可以使得研磨液、研磨衬垫以及镜片充分接触，由于研磨液起到很好的润滑作用，可以减少达到镜片最终研磨效果的时间，经过多次测试，研磨衬垫上的凹槽的最佳设计方案如图2所示。
[0026]具体地，在本实施例中，沿衬垫主体1的圆周方向依次间隔设置有第一凹槽2和第二凹槽3，其中，第一凹槽2为扇形，且扇形的顶点与衬垫主体1的圆心的距离为15mm，扇形两边缘的最大距离为10mm。第二凹槽3为过研磨衬垫圆心的长方形，且第二凹槽3的宽度为1mm。
[0027]以上所述的具体实施方式，对本技术的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本技术的具体实施方式而已，并不用于限定本技术的保护范围，凡在本技术的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种研磨衬垫，包括衬垫主体(1)，其特征在于，所述衬垫主体(1)上设置有多个凹槽；所述凹槽包括第一凹槽(2)和第二凹槽(3)，所述第一凹槽(2)和所述第二凹槽(3)沿所述衬垫主体(1)的圆周方向依次间隔设置；所述第一凹槽(2)为扇形。2.根据权利要求1所述的一种研磨衬垫，其特征在于，所述第一凹槽(2)的顶点与所述衬垫主体(1)的圆心距离为15mm。3.根据权利要求1所述的一种研...

【专利技术属性】
技术研发人员：安美兰，谢经宝，
申请(专利权)人：成都高昕光学科技有限公司，
类型：新型
国别省市：